SPIN 系列/POLOS高级版匀胶旋涂仪

        POLOS 为半导体和生命科学行业提供高端设备，特别是针对支持；大学、研发机构和小型生产设施。POLOS 成立于 2003 年，是我们第一条单晶片旋涂系统产品线的开始。截至今天，这些系统已在全球售出 4000 多套。                

       成千上万的科学家使用POLOS SPIN150/200i旋涂仪发表了他们的研究！                

POLOS专为研发和小批量生产而设计。空气动力学效率高的腔室可提高均匀性，而天然聚丙烯或 PTFE 结构可确保无金属、无污染且易于清洁的工艺区域。

• 有用于手动或自动（可选）化学品分配的桌面版本。

• In-Deck 版本适合轻松集成到您现有或新的湿台中。 

适用于镀膜、清洗、冲洗/干燥、显影、蚀刻、PDMI等工艺  

型号                

SPIN150i                

SPIN200i                

POLOS300                

POLOS450                

POLOS600                

基片范围                

直径160mm                 

或者 4英寸方片                

直径260mm                 

或者 6英寸方片                

直径360mm                 

或者 8英寸方片                

直径

460mm               

或者 12英寸方片                 

直径600mm                 

或者 超大方片                

程序段数                

无限制                

无限制                

无限制                

无限制                

30个程序                

操作步数                

90个步骤                

旋转速度                

0-12,000 rpm ±1rpm steps                

0-1500rpm ±1rpm steps                

旋转精度                

±0.1 rpm                

旋转方向                

顺时针、逆时针、交换摆                

加速度                

30,000 rpm/sec                

≤1500rpm时取决于负载              

500 rpm/sec                

旋转时间                

无限制*,± 0.1 seconds steps                

1 to 999 sec/step                

腔体直径                

202 mm                

302 mm                

402 mm                

502 mm                

642mm                

触屏控制                

全彩触屏控制                

全彩触屏控制                

全彩触屏控制                

全彩触屏控制                

全彩触屏控制