型号: | E200S 基片反应腔+ 6路进气口 |
产地: | 广东 |
品牌: | |
评分: |
![]() ![]() ![]() ![]() ![]() |
Exploiter原子层沉积系统是原速科技自主开发的新一代智能化ALD研发系统,广泛适用于纳米材料、微机电系统、催化剂、生物膜材料及光电材料等领域。
系统优势
1.传输管路的优化设计,有效地避免管路堵塞及交叉污染问题
2.工业化级别标准集成:PLC+工控机+触摸屏
3.软件操作界面友好,可真正实现“一键沉积”
4.全方位可靠的安全互锁方案
5.实时监测镀膜工艺
技术指标
1.本底真空:<5.0×10-3torr,高性能机械泵(可定制)
2.样品腔室:φ200mm;
3.前驱体源:2、4或6路
4.氧化/还原反应物:3路
5.沉积温度:室温-500℃(可定制)
6.前驱体管道温度:室温-120℃(可定制)
7.源瓶加热温度:室温-120℃(可定制)
应用领域
1 微电子:逻辑器件、碳纳米管、存储器件/材料、阻挡层
2 光学:光子晶体、表面等离激元、光学微腔、导电氧化物、其他光学器件
3 能源:锂电池、燃料电池、太阳能电池、超级电容器、表面钝化和敏化
4 催化:氧化物催化剂、负载型金属催化剂、颗粒和高深宽比结构
5 生物:生物薄膜和仿生、生物相容性涂层、生物检测电子器件、生物传感器
6 纳米技术:微纳机电系统、纳流体器件、磁隧道结器件、单分子传感器
材料种类
1 氧化物:Al2O3、TiO2、SiO2、HfO2、Ta2O5、ZrO2、ZnO、SnO2、La2O3、Lu2O3等
2 金属材料及合金:Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Au、Ru、Pt、Ag、Au等
3 二元/多元材料:AlN、HfON、LaAlO3、MnN、WN等
4 纳米层压材料:(Al2O3/ZrO2)n等
:
邮箱:
电话:
地址:深圳市宝安区新安街道兴东社区优创空间1号楼511-513
41776 Fremont Blvd, Fremont CA 94538, USA
相关产品
SUPERALD Exploiter原子层沉积超高真空系列 UHV ALD
SUPERALD Exploiter原子层沉积大尺寸沉积系统
SUPERALD 原子层沉积 手套箱集成系列
SUPERALD 原子层沉积 等离子增强系统 PEALD
SUPERALD Exploiter原子层沉积Thermal-ALD
SUPERALD Exploiter原子层沉积(ALD)系统
SUPERALD Exploiter原子层沉积(ALD)系统
SUPERALD Exploiter原子层沉积(ALD)系统
SUPERALD Exploiter原子层沉积(ALD)系统
SUPERALD Exploiter原子层沉积(ALD)系统
SUPERALD Exploiter原子层沉积设备
关注
拨打电话
留言咨询