SUPERALD Exploiter原子层沉积（ALD）系统E200P 双反应腔+6路进气口

SUPERALD Exploiter原子层沉积（ALD）系统

参考价：¥100万 - 200万

型号：

E200P 双反应腔+6路进气口

产地：

广东

品牌：

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产品详情

Exploiter E200P原子层沉积系统（粉末颗粒包裹反应腔）是原速科技自主开发的新一代智能化ALD研发系统，可在平面衬底、粉末颗粒表面、高深宽比结构及其他复杂三维结构上沉积薄膜。原子层沉积系统 E200P广泛适用于纳米材料、微机电系统、催化剂、生物膜材料及光电材料等领域，其特点在于：

双反应腔：Φ200mm + 粉末颗粒包裹腔

6路进气口：3路前驱体源 + 3路反应气源

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深圳市原速科技有限公司为您提供SUPERALD Exploiter原子层沉积（ALD）系统E200P 双反应腔+6路进气口，nullE200P 双反应腔+6路进气口产地为广东，属于国产原子层沉积设备，除了SUPERALD Exploiter原子层沉积（ALD）系统的参数、价格、型号、原理等信息外，还可为您提供更多原子层沉积设备,原速科技客服电话400-860-5168转5051，售前、售后均可联系。

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信息已认证

企业名称: 深圳市原速科技有限公司
企业类型: 有限责任公司
信用代码: 91440300MA5EPL0E7B
成立日期: 2017年08月25日
注册资本: 172.3177
经营范围: 原速科技是一家新型薄膜材料研发商，集新型材料的研发、生产、销售于一体，主要从事于前沿领域新型薄膜材料、工艺和设备研发的高科技公司；致力于新型薄膜材料在光电领域的使用。