SUPERALD Exploiter原子层沉积（ALD）系统
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SUPERALD Exploiter原子层沉积（ALD）系统

参考价：¥100万 - 200万
型号： E100HV 过渡腔和反应腔+6路进气口
产地： 广东
品牌：
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核心参数
深圳市原速科技有限公司
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产品详情

Exploiter原子层沉积系统-HV集成传送反应腔是一款具有自主知识产权的新一代自动化高速ALD生产系统，适用于半导体、柔性显示、光学薄膜、太阳能电池及锂电池等领域的工业批量化生产。

1、产品特色

（1）传输管路的优化设计，有效地避免管路堵塞及交叉污染问题

（2）工业化级别标准集成：PLC+工控机+触摸屏

（3）软件操作界面友好，可真正实现“一键沉积”

（4）完善全面的安全互锁方案

（5）实时监测镀膜工艺

2、可制备的材料种类

（1）氧化物：Al2O3、TiO2、SiO2、HfO2、Ta2O5、ZrO2、ZnO、SnO2、La2O3、Lu2O3等

（2）金属材料及合金：Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Au、Ru、Pt、Ag、Au等

（3）二元/多元材料：AlN、HfON、LaAlO3、MnN、WN等

（4）纳米层压材料：(Al2O3/ZrO2)n等

3、技术指标

（1）本底真空：＜5.0×10-3torr，高性能机械泵（可定制其它款型）

（2）样品腔室：真空过渡腔 + Φ100mm基片真空反应腔（可定制其它款型）

（3）6路进气口：3路前驱体源 + 3路反应气源

（4）沉积温度：室温-500℃（可定制其他温度）

（5）前驱体管道温度：室温-120℃（可定制其他温度）

（5）源瓶加热温度：室温-120℃（可定制其他温度）


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