牛津仪器PlasmaPro100 ALE原子层刻蚀
普发真空APA污染管理解决系统
牛津仪器PlasmaPro 100 Polaris单晶圆刻蚀系统
.1.在超高温度下采用CVD方式沉积类金刚石薄膜2. 与美国西南研究院共同研制开发,采用等离子体增强技术,提高膜层质量3. 配有离子源,实现镀膜预处理与镀膜辅助沉积
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