型号: | UV Litho-Y |
产地: | 江苏 |
品牌: | -- |
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利用紫外光源对紫外敏感的光刻胶进行空间 选择性的曝光,进而将设计好电路版图转移到 硅片上形成集成电路,这一工艺就是紫外光刻 技术。光刻机的分辨率和套刻精度直接决定了 所制造的集成电路的集成度,也成为了评价光 刻设备品质的关键指标。激光直写设备具备很 高的灵活性,且可以达到较高的精度,但由于 是逐行扫描,曝光效率较低。托托科技的无掩 模版光刻设备基于空间光调制器(DMD/DLP)
的技术,实现了高速、高精度、高灵活性的紫 外光刻。
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