原子层沉积ALD

原子层沉积ALD

参考价:面议
型号: customized-9
产地: 其他
品牌: VEECO
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核心参数
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产品详情

产品概述:原子层沉积(Atomic layer deposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法

工艺温度: RT~400°C 精度:土1°C(可定制)

前驱体路数:最大支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶

加热系统:可加热温度范围:RT~150℃

反应物路数:支持2路反应物气路(可定制)

载气:标准:N2, MFC 流量控制(可定制)

高真空系统:高性能分子泵,支持对高真空的真空度需求

设备支持“一键沉积”功能,点击运行按键即可自动完成真空抽取、升温、材料沉积、降温等一系列步骤。实现单一或多层材料的沉积;提供独立的手动操作页面,支持手动开关阀门的操作,人机交互同时支持鼠标、键盘和触摸的输入方式


深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供VEECO原子层沉积ALDcustomized-9,VEECOcustomized-9产地为其他,属于进口原子层沉积设备,除了原子层沉积ALD的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多原子层沉积设备,客服电话,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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