型号: | NMC 508系列 ICP |
产地: | 北京 |
品牌: | 北方华创 |
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1. 产品概述
NMC 508系列 ICP刻蚀机,等离子体源设计,保证高刻蚀均匀性和高刻蚀速率。
2. 设备用途/原理
NMC 508系列 ICP刻蚀机,等离子体源设计,保证高刻蚀均匀性和高刻蚀速率。应用域广泛,支持 Si Power、SiC Power 、GaN Power、MEMS,工艺种类多样,包括 Poly 刻蚀、金属刻蚀、深硅刻蚀,灵活的系统配置,适合研发、中试线、大规模生产线的不同应用,突出的量产稳定性,更高的 MTBC。
3. 设备特点
晶圆尺寸 6/8 英寸兼容,适用材料 硅、氮化镓、铝镓铟磷、氧化硅 \ 氧化钛、氮化硅、氮化钛、氧化铟锡、钨化钛、铝、钼、钨、有机物、光刻胶等。适用工艺 硅刻蚀、多晶硅刻蚀、浅槽隔离刻蚀、深硅刻蚀、氮化镓低损伤刻蚀、金属刻蚀等工艺。适用域 科研、集成电路、化合物半导体、新兴应用。
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