溅射系统

溅射系统

参考价:面议
型号: iTops PVD ITO
产地: 其他
品牌: 北方华创
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产品详情

1. 产品概述

iTops PVD ITO 溅射系统,加热能力、精确的温度控制、优异的真空能力。

2. 设备用途/原理

iTops PVD ITO 溅射系统加热能力、精确的温度控制、优异的真空能力高晶体质量的氮化铝薄膜及优异的薄膜厚度均匀性占地面积小,结构简单,操作灵活,维修方便设备稳定,稼动率高,运营成本低

3. 设备特点

晶圆尺寸  2/4/6 英寸兼容适用材料  氮化铝适用工艺  氮化铝缓冲层溅射适用域  化合物半导体百科:‌半导体溅射系统的原理主要是利用高能离子撞击靶材,使靶材的原子或分子从表面逸出,并沉积在半导体基片上,形成一层薄膜。溅射技术可以分为多种类型,包括直流溅射、交流溅射、反应溅射和磁控溅射等,不同类型的溅射技术适用于不同的应用场景。例如,直流溅射适用于导电材料的镀膜,而交流溅射则适用于导电性较差的材料。反应溅射可以在溅射过程中引入反应气体,以形成特定的化合物薄膜。磁控溅射则通过加入磁场来控制电子的运动路径,提高溅射效率和薄膜质量。


深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供北方华创溅射系统 iTops PVD ITO ,北方华创iTops PVD ITO 产地为其他,属于国产镀膜机,除了溅射系统 的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多镀膜机,客服电话,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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