等离子体(ICP)刻蚀设备

等离子体(ICP)刻蚀设备

参考价:面议
型号: RIE-800iPC
产地: 日本
品牌: SAMCO
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产品详情

1. 产品概述

高密度等离子体蚀刻系统采用电感耦合等离子体作为放电形式。该系统配备了真空盒室,是一套完整的生产系统,具有优良的工艺重复性和稳定性。

2. 设备用途/原理

GaN、GaAs、InP等化合物半导体的高精度加工。SiC、SiO₂的高速加工。蚀刻铁电材料(PZT、BST、SBT、SBT)、电材料(Pt、Au、Ru、Al)和其他难以蚀刻的材料。複合式半導體晶片的等離子切割和薄型化。

3. 设备特点

新的ICP源 "HSTC™: Hyper Symmetrical Tornado Coil"。可高效稳定地应用高射频功率(2千瓦以上),并实现良好的均匀性。大流量排气系统排气系统直接连接到反应室,可以实现从小流量和低压范围到大流量和高压范围的广泛工艺窗口。下电升降机构晶片和等离子体之间的距离经过优化,以确保良好的平面内均匀性。易于维护的设计TMP(涡轮分子泵)集成在设备中,便于更换。


深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供SAMCO等离子体(ICP)刻蚀设备RIE-800iPC,SAMCORIE-800iPC产地为日本,属于进口湿法腐蚀/刻蚀设备,除了等离子体(ICP)刻蚀设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多湿法腐蚀/刻蚀设备,客服电话,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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