空间原子层沉积ALD

空间原子层沉积ALD

参考价:面议
型号: Beneq C2R
产地: 芬兰
品牌: Beneq
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产品详情

1.产品概述:

Beneq C2R 将等离子体增强原子层沉积 (PEALD) 工艺提升到一个全新的水平 – PEALD 可用于大批量生产。由于采用等离子体增强旋转原子层沉积工艺,Beneq C2R 是厚原子层沉积膜的理想选择,甚至可达几微米。

2.产品配置:

Beneq C2R 具有基于 Brooks Automation 值得信赖的 MX400 传输模块的自动化选项。

自动化服务包括:

Brooks MX400 基于集群的模块

双臂扫地机器人            

样品对准器                     

可选预热和冷却

3.产品优势:

超高沉积速率,高达每小时几微米

批量 PEALD 工艺,适用于多达 7 个 200 mm 晶圆

适用于厚度达 30 mm 的镜头和其他 3D 基板

膜厚均匀性高,适用于要求苛刻的光学镀膜应用

可配备负载锁或晶圆自动化


深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供空间原子层沉积ALDBeneq C2R,BeneqBeneq C2R产地为芬兰,属于进口原子层沉积设备,除了空间原子层沉积ALD的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多原子层沉积设备,客服电话,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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