| 型号： | 半导体光掩模光刻机 |
| 产地： | 德国 |
| 品牌： | 德国海德堡 |
| 评分： |
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ULTRA半导体光掩模光刻机是专门用于成熟半导体光掩模的合格激光掩模机。半导体光掩模用于制造电子设备，包括微控制器、电源管理、LED、物联网 （IoT） 和 MEMS。
ULTRA 是一种经济型光刻机解决方案，具有高吞吐量、精度和结构均匀性以及极其精确的对准所需的所有特性和功能。标准配置包括全自动掩模处理、Zerodur® 平台、低失真光学元件和高精度位置控制等功能。
ULTRA 系统可以以高达 580 mm 的写入速度生成小至 500 nm 的结构尺寸2每分钟，同时具有出色的临界尺寸均匀性、图像质量、叠加和套准。作为一个紧凑的系统，它很容易适应现有的面膜店基础设施。
| 操作 | |
|---|---|
| 用户界面（软件） | 半兼容 GUI |
| 最大写入区域 | 228 x 228 mm² （可根据要求提供其他尺寸） |
| 基板尺寸 | 4 英寸、5 英寸、6 英寸、7 英寸和 9 英寸口罩（可根据要求提供更大的和其他基材） |
| 系统特点 | |
| 光学 | 0.9 NA物镜 低失真紫外光学元件 自动校准程序 |
| 激光 | 355nm波长的高功率二极管泵浦固体激光器 |
| 对焦系统 | 实时光学自动对焦 |
| 对准 | 摄像系统 失真补偿 全局和逐场对准 边缘检测器 |
| 数据路径 | 实时压缩 可扩展的硬件概念 输入格式：所有标准格式，例如 GDSII 和 Jobdeck |
| 空间光调制器 | 频率 350 kHz 数据速率 2.4 GB/s |
| 自动化 | 全自动口罩处理，带两个最大 9 英寸的输送站;可选的 SECS/GEM 协议 |
| 系统尺寸 | 系统 / 电子机架 |
| 宽度 [mm] | 2995 / 800 |
| 深度 [mm] | 1652 / 650 |
| 高度 [mm] | 2102 / 1800 |
| 重量 [kg] | 3400 / 180 |
| 安装要求 | |
| 电气 | 400 VAC ± 5%，50/60 Hz，16A，3 相 |
| 压缩空气 | 7 - 10 bar （不含油或其他残留物） |
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