反应性离子刻蚀系统RIE

反应性离子刻蚀系统RIE

参考价:面议
型号: PlasmaPro 80 RIE
产地: 英国
品牌: 牛津仪器
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产品详情

1.产品概述:

 PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统,可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。它易于放置,便于使用,且能确保工艺性能。直开式设计可实现快速晶圆装卸,是研究和小批量生产的理想选择。 它通过优化的电冷却和出色的衬底温度控制来实现高质量的工艺。

2.设备原理

利用气体放电产生的等离子体,在射频电源的作用下,使气体分子电离并形成离子,这些离子在电场的作用下加速并轰击被刻蚀材料的表面,从而实现材料的去除。RIE技术的关键在于,刻蚀过程中产生的化学反应与物理轰击相结合,既保证了刻蚀的均匀性,又提高了刻蚀的速率。

3.特色参数

直开式设计允许快速装卸晶圆

出色的刻蚀控制和速率测定

出色的晶圆温度均匀性

晶圆大可达200mm

购置成本低

符合半导体行业S2/S8标准

小型系统——易于安置

优化的电冷却系统——衬底温度控制

高导通的径向(轴对称)抽气结构 —— 确保能提升工艺均匀性和速率

增加<500毫的数据记录功能—— 可追溯腔室和工艺条件的历史记录

近距离耦合涡轮泵 —— 抽速高迅速达到所要求的低真空度

关键部件容易触及 ——系统维护变得直接简单

X20控制系统——大幅提高了数据信息处理能力, 并且可以实现更快更可重复的匹配

通过端软件进行设备故障诊断 —— 故障诊断速度快

用干涉法进行激光终点监测 —— 在透明材料的反射面上测量刻蚀深度 (例如硅上的氧化物),或者用反射法来确定非透明材料(如金属)的边界

用发射光谱(OES)实现较大样品或批量工艺的终点监测 —— 监测刻蚀副产物或反应气体的消耗量的变化,以及用于腔室清洗的终点监测



深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供牛津仪器反应性离子刻蚀系统RIEPlasmaPro 80 RIE,牛津仪器PlasmaPro 80 RIE产地为英国,属于湿法清洗设备,除了反应性离子刻蚀系统RIE的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多湿法清洗设备,客服电话,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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