CMP后清洗机

CMP后清洗机

参考价:面议
型号: TSC-150C/200C
产地: 北京
品牌: 特思迪
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核心参数
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产品详情

该系列设备是碳化硅晶圆抛光后的专用清洗设备,采用连线式结构,设备加配全自动上下片系统。该系列设备配有漂洗、双面刷洗、兆声清洗、N2吹干、高速甩干功能,集成度高,占地面积小,湿进干出,适用于碳化硅晶圆抛光后的清洗。

产品特点

全自动系统

皮带传动, cassette in/out 干进干出

PLC控制系统

触摸屏操作

清洗工艺

预清洗/双面刷洗/药液喷雾漂洗 /兆声喷淋/高速甩干/氮气吹干

刷子类型

PVA 刷, 双面刷洗

性能参数

规格/参数TSC-150CTSC-200C
工艺双面刷洗双面刷洗
清洗工位皮带传送式6工位皮带传送式6工位
上下片全自动全自动
晶圆尺寸3-6 inch6-8 inch
上料位浸没式浸没式
漂洗(预清洗)DIW冲洗DIW冲洗
刷洗工位*22个PVA刷,双面刷洗2个PVA刷,双面刷洗
PVA刷转速30-400 RPM30-400 RPM
兆声清洗可选可选
氮气吹干






深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供特思迪CMP后清洗机TSC-150C/200C,特思迪TSC-150C/200C产地为北京,属于湿法清洗设备,除了CMP后清洗机的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多湿法清洗设备,客服电话,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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