该系列设备是碳化硅晶圆抛光后的专用清洗设备,采用连线式结构,设备加配全自动上下片系统。该系列设备配有漂洗、双面刷洗、兆声清洗、N2吹干、高速甩干功能,集成度高,占地面积小,湿进干出,适用于碳化硅晶圆抛光后的清洗。
产品特点
全自动系统
皮带传动, cassette in/out 干进干出
PLC控制系统
触摸屏操作
清洗工艺
预清洗/双面刷洗/药液喷雾漂洗 /兆声喷淋/高速甩干/氮气吹干
刷子类型
PVA 刷, 双面刷洗
性能参数
规格/参数 | TSC-150C | TSC-200C |
工艺 | 双面刷洗 | 双面刷洗 |
清洗工位 | 皮带传送式6工位 | 皮带传送式6工位 |
上下片 | 全自动 | 全自动 |
晶圆尺寸 | 3-6 inch | 6-8 inch |
上料位 | 浸没式 | 浸没式 |
漂洗(预清洗) | DIW冲洗 | DIW冲洗 |
刷洗工位*2 | 2个PVA刷,双面刷洗 | 2个PVA刷,双面刷洗 |
PVA刷转速 | 30-400 RPM | 30-400 RPM |
兆声清洗 | 可选 | 可选 |
氮气吹干 | 有 | 有 |
深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供特思迪CMP后清洗机TSC-150C/200C,特思迪TSC-150C/200C产地为北京,属于湿法清洗设备,除了CMP后清洗机的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多湿法清洗设备,客服电话,售前、售后均可联系。