型号: | 977 |
产地: | 上海 |
品牌: | ADT |
评分: |
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1.基本信息
品牌与型号:ADT WCS-977
用途:晶圆清洗
别名:晶圆清洗机
规格尺寸:W410 X D625 X H980 mm(可能因具体产品有所差异)
产地:可能涉及多个生产地,但具体ADT WCS-977的产地信息可能因供应商或生产批次而异
2.设备组成与工作原理
设备组成:
主体材质:内部不锈钢、外表烤漆涂装
旋转装置:变频马达依需求调整转速
二流体及吹气装置:步进马达控制摆臂速度及摆幅
真空吸盘:内置真空发生器,支持6寸或8寸真空陶瓷吸盘
控制单元:可编程控制器,方便存储工艺参数、过程监控及显示
安全装置:安全联锁装置,信号灯指示
二氧化碳注入单元:通过膜接触器实现超纯水的洁净CO2注入
工作原理:晶圆连同绷框置于旋转的吸盘上面,通过真空吸盘吸住晶圆。吸盘下方的变频马达用于清洗、吹干及旋干时的转动。利用步进马达转动二流体喷嘴及喷气嘴,喷洒清洗剂及清除切屑、杂质,并吹干水分。
3.技术参数
晶圆大尺寸:可能支持多种尺寸,但具体需根据产品说明
转速范围:可能达到500-3000 rpm(具体根据设备型号和配置)
电源电压:230VAC 50Hz 5A(可能因地区和设备配置有所不同)
CDA供给压力:0.5-0.6 MPa
CDA大消耗量:3 m³/h
去离子水供给压力:0.2-0.3 MPa
去离子水大消耗量:100 L/h
4.应用与优势
应用域:半导体制造过程中的晶圆清洗,包括扩散清洗、栅氧化清洗、外延清洗等多个环节。
优势:清洗精度高,能够有效清洗晶圆背面、斜面及边缘。避免晶圆片之间的交叉污染。自动化程度高,提高生产效率。
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