| 型号： | SR110 |
| 产地： | 美国 |
| 品牌： | PVA Tepla |
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SR110硅芯炉的工作方式与区熔系统类似。该系统使用一个在高频感应线圈下直径为100毫米的多晶硅棒（源棒）。根据硅棒的长度，在多个拉动工艺中可以产生特定数量的硅芯；然后这些硅芯被用作西门子下游工艺中的原棒。通过隔离阀将接收炉体与工艺炉体分开，可以将完成的硅芯取出，并立即开始下一个工艺。通过引入扩散到熔体中的工艺气体可以对细杆进行掺杂处理。
改良后的硅芯炉设计采用两个直径约为50毫米的源杆，并可以从每个源杆上拉出硅芯。
产品数据概览:
材料：硅
细杆
长度： 最长3200毫米
直径： 大约8毫米
源杆
长度： 最长 1,000 mm
直径： 100 mm (4")
极限真空度： 5 x 10-2 mbar
最大过压： 0.35 bar(g)
发电机
输出电压： 30 kW
频率： 2.8 MHz
上拉式进料
拉动速度： 最高60毫米/分钟
下拉式进料
拉动速度： 最高 10 mm/min
转速： 高达 20 rpm
尺寸规格
高度： 7,300 mm
宽度： 1,820 mm
深度: 1,250 mm
占地面积（总计）： 2,500 mm x 2,800 mm
重量（总计）： 约6,000 kg
区熔（FZ）技术作为提纯方法为生产高电阻率的超纯硅单晶提供了技术可行性，该技术可应用于高性能电子和半导体技术领域。其另一优点是可以从气相中连续掺入，这使得在整个晶体的电阻率沿长度方向保持一致。因此，几乎可以在整个晶体上均匀地实现所需的电性能。由于电荷载流子的高寿命和极低的氧含量（无坩埚工艺），FZ晶体同样也适用于光伏行业。
区熔（FZ）技术作为提纯方法与CZ直拉工艺等竞争方法相比，FZ工艺的优势在于只有紧邻感应线圈的一小部分晶体需要被熔化，无需使用石英坩埚（每炉次耗用一个），可实现高拉速，因此降低了耗材成本的同时也降低了能源成本。此外，无论是从硅还是其他合适的材料中提取的晶体，可以通过多次处理，显著地提高纯度。
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