型号: | 定制3 |
产地: | 江苏 |
品牌: | 英思特 |
评分: |
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1. 产品概述:
英思特晶片清洗机是用于晶片清洗的专业设备,旨在去除晶片表面的各类杂质,如颗粒、有机物、金属离子等,以满足半导体制造等领域对晶片高洁净度的严格要求。它通常由设备主体、清洗槽(可能有多种不同功能的清洗槽,如化学清洗槽、纯水冲洗槽等)、漂洗槽、干燥系统、电气控制系统等多个部分构成,通过一系列精心设计的清洗工艺步骤,实现对晶片的高效、彻底清洁。
2. 设备应用:
· 半导体制造:半导体芯片生产过程中,晶片清洗是关键环节。该清洗机广泛应用于半导体晶圆制造,如在光刻、刻蚀、镀膜等工艺前,对晶圆进行清洗,确保晶圆表面洁净度,提升芯片性能、良率和可靠性,例如去除晶圆表面微小颗粒和金属杂质,防止其在后续工艺中导致芯片缺陷或性能下降 145。
· 光伏产业:用于光伏电池生产中硅片的清洗,通过有效清洗硅片表面污染物,提高硅片光电转换效率,保障太阳能电池的性能和质量
3. 设备特点:
1、设备主体、电气控制部分、化学工艺槽等;并提供与厂务供电、供气、供水、排废水、排气系统配套的接口等。
2、设备主体使用德国进口瓷白10mm PP板材,坚固耐用,双层防漏,SUS304+阻燃PVC德国进口板(不锈钢板)组合而成,防止外壳锈蚀。
3、设备安装左右对开透明PVC门,分隔与保护人员安全,边缘处设备密封条,安全门进风处装有过滤网;模组化设计,腐蚀槽、纯水冲洗槽放置在一个统一的承漏底盘中。底盘采用满焊接工艺加工而成,杜绝机台的渗漏危险。
4、位于设备下部,所有工艺槽、管路、阀门部分均有清晰的标签注明;药液管路采用PFA管,纯水管路采用PFA管,化学腐蚀槽废液、冲洗废水通过用管道排放。
5、电器控制、气路控制和工艺槽控制部份在设备后部单独电器控制柜,电气元件有充分的防护以免酸雾腐蚀以保障设备性能运行稳定可靠;所有可能与酸雾接触的电气及线路均PFA防腐隔绝处理,电气柜CDA/N2充气保护其中的电器控制元件。
6、机台部配备有PP纯水枪和PP氮各二只分置于两侧,水枪滴漏活水设计,方便操作员手工清洗槽体或工件。
4. 产品参数(以部分为例):
以下参数仅供参考,实际参数可能因定制化需求和设备型号而有所不同。
· 清洗槽数量和类型:例如有多个不同功能清洗槽,如化学清洗槽、纯水冲洗槽等,数量可能为 3 - 5 个或更多。
· 适用晶片尺寸:如 2 寸、4 寸、6 寸、8 寸等,或可兼容多种尺寸。
· 温度控制范围:根据不同清洗工艺要求,温度控制范围可能在一定区间内可调,如 30 - 150℃。
· 清洗时间:每个清洗步骤的时间可根据工艺设定,例如 1 - 30 分钟不等。
· 溶液循环系统:具备高效的溶液循环和过滤系统,以保证清洗溶液的清洁度和有效性。
· 设备外形尺寸:如长度 2 - 5 米、宽度 1 - 2 米、高度 1.5 - 2.5 米。
· 电源要求:通常为三相交流电,如电压 380V,频率 50Hz,整机额定电功率根据设备配置而定,可能在 10 - 50kW 之间。
· 其他参数:还可能包括纯水流量、压缩空气压力和流量、排废管道尺寸等相关参数。
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