| 型号： | EBPG |
| 产地： | 荷兰 |
| 品牌： | Raith |
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EBPG 是一种超高性能电子束光刻系统。100kv写入模式和5 nm以下的高分辨率光刻，涵盖了各种纳米制造设备中直接写入纳米光刻、工业研发和批量生产的广泛前沿应用。新系统集稳定性，保真度和精度于一体，确保最佳的高分辨率光刻结果的所有性能参数之间的完美交互。
技术参数
• 肖特基热场发射电子枪
• 加速电压：50 kV，100 kV
• 发生器扫描频率：50 MHz，可选配至125 MHz
• 主场分辨率：20 bit
• 工作台运动范围：210 mm x 210 mm
• 工作台最高运动速度：25 mm/s
• 激光干涉仪分辨率：0.15 nm
• 束流范围: 50 pA->350 nA
• 最小线宽：≤ 8 nm
• 曝光剂量调节范围：32 bit（2^32级）
• 自动寻找50 个对准标记时间：≤90 s
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