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士兰微“MEMS器件及其制造方法”专利获授权

导读:杭州士兰微电子获得“MEMS器件及其制造方法”专利,该方法通过在CMOS电路基础上集成MEMS模块,提高器件精度、减小体积、降低功耗,优化射频薄膜体声波滤波器制造技术,提升集成度并降低成本。

天眼查显示,杭州士兰微电子股份有限公司近日取得一项名为“MEMS器件及其制造方法”的专利,授权公告号为CN109665488B,授权公告日为2024年7月19日,申请日为2018年12月29日。


背景技术

微机械系统(Micro-Electro-Mechanical System,MEMS)与集成电路(integratedcircuit,IC)目前是半导体产业最重要的两个发展领域。在全球科技迅速发展的推动下,MEMS与IC的集成成为一种必然趋势。其集成方法有三种:单片集成、半混合(键合)集成和混合集成。单片集成是指MEMS结构与CMOS制造在一个芯片上。混合集成是将MEMS和IC分别制造在不同的管芯上,然后封装在一个管壳中,将带凸点的MEMS裸片以倒装焊形式或者引线键合方式与IC芯片相互连接,形成SIP。半混合是利用三维集成技术实现MEMS芯片和CMOS的立体集成。单片集成是MEMS与IC是集成技术的重要发展方向,尤其对于射频RF薄膜体声波滤波器而言有很多优点。首先,处理电路靠近微结构,对信号的检测、收发能够实现更高的精度;其次,集成系统体积减小,功耗低;再次,器件数量减少、封装管脚数降低,可靠性提高。

在现有的射频(Radio Frequency,RF)MEMS薄膜体声波滤波器制造技术中,大多采用系统级封装(systemin a package,SIP)将滤波器、驱动电路以及处理电路合封在一起。SIP指在一个封装体内集成多个功能芯片,芯片之间通过衬底的引线键合进行连接。SIP的模块间互联很长、集成密度较低,对滤波器信号的传输不利,制造工艺繁琐且不利于集成。少数工艺采用二维平面结构将IC电路与薄膜体声波滤波器集成在同一平面的单芯片上,此种结构工艺繁琐且工艺灵活性差,特别是MEMS工艺受到CMOS器件的热开销限制。相对SIP合封,二维平面结构单芯片集成薄膜体声波滤波器与IC电路芯片面积减小,更加利于集成但工艺复杂。


发明内容

士兰微“MEMS器件及其制造方法”专利获授权


本申请公开了一种MEMS器件及其制造方法。该制造方法包括:形成CMOS电路;以及在CMOS电路上形成MEMS模块,CMOS电路与MEMS模块连接,用于驱动MEMS模块,其中,形成MEMS模块的步骤包括:形成保护层;在保护层中形成牺牲层;在保护层与牺牲层上形成第一电极,并形成第一电极与CMOS电路之间的电连接,第一电极覆盖牺牲层;在第一电极上形成压电层,压电层与牺牲层的位置对应;在压电层上形成第二电极,并形成第二电极与CMOS电路之间的电连接;在第一电极上或保护层形成到达牺牲层的通孔;以及经由通孔除去牺牲层形成空腔。该方法制造的MEMS器件灵敏度高同时又显著降低制造成本和改善工艺兼容性。


来源于:仪器信息网

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天眼查显示,杭州士兰微电子股份有限公司近日取得一项名为“MEMS器件及其制造方法”的专利,授权公告号为CN109665488B,授权公告日为2024年7月19日,申请日为2018年12月29日。


背景技术

微机械系统(Micro-Electro-Mechanical System,MEMS)与集成电路(integratedcircuit,IC)目前是半导体产业最重要的两个发展领域。在全球科技迅速发展的推动下,MEMS与IC的集成成为一种必然趋势。其集成方法有三种:单片集成、半混合(键合)集成和混合集成。单片集成是指MEMS结构与CMOS制造在一个芯片上。混合集成是将MEMS和IC分别制造在不同的管芯上,然后封装在一个管壳中,将带凸点的MEMS裸片以倒装焊形式或者引线键合方式与IC芯片相互连接,形成SIP。半混合是利用三维集成技术实现MEMS芯片和CMOS的立体集成。单片集成是MEMS与IC是集成技术的重要发展方向,尤其对于射频RF薄膜体声波滤波器而言有很多优点。首先,处理电路靠近微结构,对信号的检测、收发能够实现更高的精度;其次,集成系统体积减小,功耗低;再次,器件数量减少、封装管脚数降低,可靠性提高。

在现有的射频(Radio Frequency,RF)MEMS薄膜体声波滤波器制造技术中,大多采用系统级封装(systemin a package,SIP)将滤波器、驱动电路以及处理电路合封在一起。SIP指在一个封装体内集成多个功能芯片,芯片之间通过衬底的引线键合进行连接。SIP的模块间互联很长、集成密度较低,对滤波器信号的传输不利,制造工艺繁琐且不利于集成。少数工艺采用二维平面结构将IC电路与薄膜体声波滤波器集成在同一平面的单芯片上,此种结构工艺繁琐且工艺灵活性差,特别是MEMS工艺受到CMOS器件的热开销限制。相对SIP合封,二维平面结构单芯片集成薄膜体声波滤波器与IC电路芯片面积减小,更加利于集成但工艺复杂。


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士兰微“MEMS器件及其制造方法”专利获授权


本申请公开了一种MEMS器件及其制造方法。该制造方法包括:形成CMOS电路;以及在CMOS电路上形成MEMS模块,CMOS电路与MEMS模块连接,用于驱动MEMS模块,其中,形成MEMS模块的步骤包括:形成保护层;在保护层中形成牺牲层;在保护层与牺牲层上形成第一电极,并形成第一电极与CMOS电路之间的电连接,第一电极覆盖牺牲层;在第一电极上形成压电层,压电层与牺牲层的位置对应;在压电层上形成第二电极,并形成第二电极与CMOS电路之间的电连接;在第一电极上或保护层形成到达牺牲层的通孔;以及经由通孔除去牺牲层形成空腔。该方法制造的MEMS器件灵敏度高同时又显著降低制造成本和改善工艺兼容性。