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ETD-2000C 溅射蒸碳仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的，最简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件，具有溅射和蒸发两种功能。
满足电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备和非导体材料实验电极制作。
特点：
在 ETD-2000/3000 离子溅射仪基础上，增加了热蒸发附件，可以蒸发碳丝，具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围，特别适用于扫描电镜实验室样品制备。
型号 | ETD-2000c |
仪器尺寸 | 400mm×300mm×400mm（L×W×H） |
靶（上部电极） | 50mm×0.1mm（D×H） |
真空样品室 | 硼硅酸盐玻璃 160mm×110mm（D×H） |
样品台 | 50mm (D) |
操作真空 | 4×10-1mbar至2×10-2mbar |
工作电压 | 0-1600V (DC)可调 |
溅射电流 | 0-50mA |
溅射定时 | 1-9999S |
蒸碳电流 | 0-10A(AC) |
真空泵 | 2升机械旋转泵 |
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