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EMCRAFTS第二代钨丝枪系列扫描电子显微镜，在电子显微成像或分析过程中，样品观测表面保持零电位至关重要。和其他品牌扫描电镜一样，针对绝大多数非导电样品，需要进行样品导电处理，电子显微成像一般溅射镀金属膜层，电子显微分析一般蒸发碳膜，离子溅射仪对于绝缘样品制备广泛使用。
DESK-V型小型离子溅射仪,是一款高级直流磁控溅射导电膜制备小型实验装置，广泛用于钨灯丝扫描电镜、场发射扫描电镜样品制备、电极制备等导电膜镀膜实验，采用专利的阳极保护栅网，实现镀膜过程中样品表面保持常温状态，是没有热损伤的冷溅射平台。该溅射仪可以反转直流高压电极，具有等离子清洗刻蚀功能，允许充分曝露材料表层以下清晰组织结构，获得高质量样品制备。也可选配碳蒸发附件，更好满足作为EDS或EBSD等附件分析导电膜制备要求。
主要功能：
1、离子溅射镀膜
2、样品等离子刻蚀清洗
3、蒸碳镀膜附件选购
主要特点：
1、大的溅射样品室，获得更稳定的真空环境，磁控溅射模式，镀膜质量更高。
2、对样品无热损伤的冷溅射。
采用专利的阳极保护栅网，实现镀膜过程中样品表面保持常温状态，
3、样品等离子刻蚀功能，一个手动控制挡板降低样片在刻蚀过程中受到的污染。
4、基于PLC的强大控制系统，全部触摸屏操作，可手动、半自动控制、全自动控制。
5、具有高压真空互锁安全机制
6、标准的操作软件，实时监控各部件状态，方便技术支持，节约用户费用。
性能指标：
标准配置
样品室: φ150mm X 150mm(H) 耐热玻璃真空室
靶: 金GOLD或金钯合金GOLD/PALLADIUM（随机）φ50mmX0.1mm
样品台: φ50mm 旋转样品台
溅射电流: 0-100mA
真空规: 皮拉尼
溅射气体: 空气或氩气
真空泵: 85L/Min 机械泵
选配
膜厚监控: 石英晶体膜厚监控器
样品台: φ75mm 旋转样品台
φ100mm旋转样品台（选此台，膜厚监控器无法安装）
旋转倾斜样品台 （选择此台，无法实现样品刻蚀功能）
蒸碳附件: 碳棒或碳丝绳
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