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日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极，能够最大限度地减轻对样品的损坏，并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品直径：60 mm
日立高新磁控溅射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大样品高度：20 mm
特点：
采用LCD触摸屏，可以更加简便地设定加工条件
可处理较厚或较大的样品(选配件)
记忆功能可存储常用加工条件
规格：
日立高新磁控溅射器MC1000 信息由柯岷国际贸易(上海)有限公司为您提供，如您想了解更多关于日立高新磁控溅射器MC1000 报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。
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