报价 ¥50万 - 100万
进口
0°-40°
up to 10 keV
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立达IV7 TEM/XTEM (透射)全自动离子减薄仪(UniMill)
特色
1.IV7為全自动多功能TEM样品离子减薄仪
2. 计算机软件控制操作界面,标配兩个离子枪
(1)高能离子枪(2-10keV)
(2)低能离子枪(0.1-2keV)
3. 兼具高速减薄和终清洁抛光两大功能,并配有气锁快速自动换样配備
4. 具有自动或人工预设减薄参数、穿孔自动探测分析、先进的CCD观察、在线诊断
及通过互联网远程控制等先进功能。
5. 另外可选配一个超高能离子枪(2-20keV)替代高能离子枪,其具有超高的减薄速率
(300-600 μm/h),常用于难减薄的材料。
实际应用
技术参数:
高能离子源
离子能量:高达10 keV,连续可调
离子电流密度:最大100 mA/cm2
离子束电流:高达140 uA,连续可调
离子束直径:200 - 500 um (FWHM)
减薄速率:1000 eV离子能量及30度离子束入射角时,c-Si上的减薄速率为180 um/h
低能离子源
离子能量:100 eV - 2 keV,连续可调
离子电流密度:最大10 mA/cm2
离子束电流:7-80 uA,连续可调
离子束直径:750 - 1200 um (FWHM)
减薄速率:2000 eV离子能量及30度离子束入射角时,c-Si上的减薄速率为180 um/h
减薄角度:0 - 45°,电子调节步长为0.1°
计算机控制样品平面旋转摇摆(10- 60°角度范围,电子调节步长为10°)
出众的厚度范围:涵盖TEM样品厚度(30 - 200 um)
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