日本JEOL电子束光刻机JBX-3050MV
![9. JBX-3050MV.png 9. JBX-3050MV.png](https://img1.17img.cn/17img/images/202202/uepic/ba0a3f16-6255-423e-a0d8-edb43ac8ba11.png)
JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 最先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统?
产品规格:
产品特点:
· JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。
· 最先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。
· 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统
· 利用步进重复式曝光的优点,结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能,能支持下一代掩模版/中间掩模版(mask/reticle)图形制作所需要的多种补偿。