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日本JEOL电子束光刻机JBX-3200MV

报价 ¥200万 - 300万

品牌

暂无

型号

JBX-3200MV

产地

亚洲日本

应用领域

暂无
产品详情

日本JEOL电子束光刻机JBX-3200MV 

 

     10. JBX-3200MV.png

 

JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 最先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统?

 

产品规格:

拼接精度

≦±3.5 nm

套刻精度

≦±5 nm

 

产品特点:

· JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。

· 最先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统

· 利用步进重复式曝光的优点,结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能,能支持下一代掩模版/中间掩模版(mask/reticle)图形制作所需要的多种补偿。

 


售后服务

1年

免费安装及技术培训

6个月一次。

经确认质量问题,免费更换。

24小时内到达现场并开始维修

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