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牛津Oxford原子层刻蚀机PlasmaPro 100 ALE

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品牌

暂无

型号

PlasmaPro 100 ALE

产地

欧洲英国

应用领域

暂无
产品详情

牛津Oxford原子层刻蚀机 PlasmaPro 100 ALE

 

121.PlasmaPro 100 ALE.png

 

As layers become thinner to enable the next generation semiconductor devices there is a need for ever more precise process control to create and manipulate these layers. The PlasmaPro 100 ALE delivers this through specialised hardware including:

· Precise control of gas dose

· Excellent repeatability of low power RF delivery

· Rapid switching enabled by fast PLC

All these combine to enable etching with accuracy at the atomic scale.概述:

我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性,可用于研究和开发,通过打造质量满足生产需求。

 

PlasmaPro 100 ALE 的特点:

· 准确的刻蚀深度控制;

· 光滑的刻蚀表面

· 低损伤工艺

· 数字化/循环式刻蚀工艺——刻蚀相当于ALD

· 高选择比

· 能加工最大200mm的晶圆

· 高深宽比(HAR)刻蚀工艺

· 非常适于刻蚀纳米级薄层

 

应用: 

· III-V族材料刻蚀工艺

· 固体激光器InP刻蚀

· VCSEL GaAs/AlGaAs刻蚀

·  射频器件低损伤GaN刻蚀

· 硅 Bosch和超低温刻蚀工艺

·  类金刚石(DLC)沉积

·  二氧化硅和石英刻蚀

· 用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖逆工艺,可处理封装好的芯片, 裸晶片,以及200mm晶圆

· 高质量PECVD沉积的氮化硅和二氧化硅,用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途

· 用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀

 


售后服务

1年

免费安装及技术培训

6个月一次。

经确认质量问题,免费更换。

24小时内到达现场并开始维修

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