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ICP 刻蚀机 ：高密度等离子蚀刻装置NE-550
特点：
等离子密度与向基板入射的能量能够单独控制，因此Process window宽。
均一性好。
离子性蚀刻到radical性蚀刻都能都大幅度控制。
构造简单，维护性能优越。
来自半导体技术研究所的工艺支持体制。
CS（Customer’s Support ）解决方案的综合服务体制。
可选Cassette室，提高生产量。
丰富的Process Application：
1.ISM: Inductively Super Magnetron有磁场ICP型
2.ISM是可以由低电源得到稳定均一的放电，达到Damage最少的蚀刻。
3.使用不挥发性材料的次时代memory‐Al2O3,磁性体，Pt, Ir, PZT, SBTO 等
4.超高频率器件，光器件。
‐绝缘膜，GaAs/AlGaAs(In),AlGaInP,InP,SiC,ZnSe, Sapphire，GaN，STO/Pt, Au/Pt, W, WSi, Ti, Mo, Ta, BCB, Polyimide，BST, STO
5.各种传感器器件等Photo Nic结晶。
6.MEMS(micromachine）
1年
是
有
技术人员现场培训
2个月1次
软件免费重装，硬件维修
24小时到达
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