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电子束曝光EBL

报价 ¥400万 - 500万

品牌

暂无

型号

电子束曝光EBL

产地

亚洲日本

应用领域

暂无

纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是最好的方法之一。或称电子束直写(EBD)、电子束爆光系统。 

超高分辨率的电子束光刻

技术参数:
加速电压:最高130keV
单段加速能力达到130keV,尽量减少电子枪的长度
超短电子枪长度,无微放电
电子束直径<1.6nm
最小线宽<7nm
双热控制,实现超稳定直写能力


售后服务

1年

技术人员现场培训

2个月1次

软件免费重装,硬件维修

24小时到达

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