MBE分子束外延系统

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武汉赛斯特精密仪器有限公司

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第2年

产品详情

MBE分子束外延系统
1.蒸镀源Cell&电源：
金属沉积蒸镀Cell
    --zui大温度: < 1800℃
    --坩埚容量和材料: up to 200 ccAl2O3, BN, PBN, etc
    --包括超高真空shutterCooling shroud
电源：
    --直流电源：20A, 100V
    --温度控制：PID control

2.等离子体Cell&电源：
射频等离子体Cell
•坩埚材料：Alumina(Al2O3)
电源：300W射频发生器with matching box
质量流量控制器：N2 or O2

3.薄膜沉积控制：
•膜厚测量：石英晶体振荡器
•束流量：微离子规

4.RHHED枪&电源：
•配电功率： max. 30 kV at 1mA
•灯丝功率：max. 3A

5.真空室：
•圆柱形腔体
    •直径: OD 355 ~1,000 mm (Substrate : up to OD600mm)
    •高度: 700 ~1,000 mm
真空泵系统及测量
    •低真空：干泵和Convectron真空规
    •超高真空：两级涡轮分子泵，低温泵和离子规

6.系统控制：PLC, 触摸屏计算机控制

主要特点

扩展功能：
•温度控制器：基底加热
•LN2 or CW 冷却系统
•超高真空离子泵
•反射计：原位光学厚度测控
•带自动样品递送装置的Loadlock样品加载系统

售后服务

保修期： 1年

是否可延长保修期：是

现场技术咨询：有

免费培训：免费提供技术支持及培训

免费仪器保养： 1年

保内维修承诺：一年免费维修质保

报修承诺： 24小时之内解决客户问题

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