高纯度金颗粒蒸镀仪
采用电子束蒸镀金膜时,会有微小的黑色颗粒出现在金膜的表面,这些黑色的颗粒形状大多不规则,尺寸集中在100 nm~-1μm之间,传统的蒸镀理论较难解释这些黑色颗粒的成因。本文尝试提出液态金属表面热发射电子引起液面上杂质颗粒"放电"的理论来解释这一现象。这类电晕放电造成颗粒附近温度极高,瞬间将颗粒蒸发沉积在衬底。通过改变蒸镀功率,或保持功率不变,改变电子束斑点形状、落点位置等一系列实验,验证了理论的合理性。
分别用钨坩埚和玻璃碳涂层坩埚蒸镀金膜,采用EDS分析金膜表面黑色颗粒的主要成分.对比金膜表面黑色颗粒分布的密度;根据两种坩埚蒸金膜时的物理学特征不同,研究黑色颗粒产生的机理,解释碳玻璃涂层坩埚蒸金黑色颗粒较多的原因;并利用玻璃碳坩埚采取不同的工艺条件进行对比试验,成功减少了金膜表面的黑色颗粒,为教学实验、真空镀膜工艺和集成电路生产领域蒸镀高质量的金膜提供帮助.
-热蒸发源:电阻式热蒸发舟,交流电源、坩埚蒸发;
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腔体:不锈钢或石英腔体可供客户选择;
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泵:前级干泵,分子泵;
- Load Lock
样品传输腔室:手动或自动传输,高真空,支持多种样品衬底(选配);
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工艺控制:PC/PLC机制的自动控制、数据处理、工艺记忆储存;
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衬底固定:单衬底固定,客户化衬底固定方式;
- 衬底夹具:加热,冷却,偏置,旋转等;
- 保护样品:配有样品挡板,可手动或自动开/关挡板,达到及时遮挡样品效果;
高纯度金颗粒蒸镀仪KT-Z1650CVD技术资料
控制方式 | 7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 |
加热方式 | 数字式功率调整器 |
镀膜功能 | 0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
最 大功率 | ≤1200W |
最 大输出电压电流 | 电压≤12V 电流≤120A |
真空度 | 机械泵 ≤5Pa(5分钟) 分子泵≤10^-3Pa |
挡板类型 | 电控 |
真空腔室 | 石英+不锈钢腔体φ160mm x 160mm |
样品台 | 可旋转φ62 (最 大可安装φ50基底) |
样品台转速 | 8转/分钟 |
样品蒸发源调节距离 | 70-140mm |
蒸发温度调节 | ≤1800℃ |
支持蒸发坩埚类型 | 钨丝蓝 带坩埚钨丝蓝 钨舟 碳绳 |
预留真空接口 | KF25抽气口 KF16真空计接口 KF16放气口 6mm卡套进气口 |
可选配扩展 | 机械真空泵(可抽真空 5分钟<5Pa) 数显真空计(测量范围大气压到0.1Pa) 分子泵机组(可抽真空20分钟≤5x10-3Pa) |
1年
否
无
视频沟通教学
根据需求商议
工作日在线应答
工作日在线应答
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