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KLA NanoFlip原位纳米压痕划痕力学测试系统
NanoFlip纳米压痕仪可以提供您的材料研究实验室带来无限的便捷。 高性能多功能性是NanoFlip设计的标志，当需要进行成像集成，需要进行频繁的转换和广泛的样本控制时，无论是环境测量还是原位测试，无论有无真空，都能提供同样出色的结果。
Fib2Test技术允许用户将样品倾斜90度，以便在双光束SEM内从FIB无缝过渡到压痕测试，而无需移除样品。
设计为完全真空兼容，并且具有独特的样品触发功能，NanoFlip非常适用于现场环境，如SEM，FIB和真空室，或者当您的实验带您迁移时，可以在任何情况下工作 可以想象的成像系统，如AFM，光学显微镜和光学Pro测量仪，为您提供几乎无限的成像选项。
电磁执行器用于KLA生产的所有系统，包括NanoFlip。 这些执行器是坚固的线性装置，固有地解耦力和位移。 它们的最大力为50 mN，分辨率为3 nN，超低噪声电流小于200 nN。
NanoFlip的时间常数为20微秒，是唯一同时符合规格的商用纳米压痕仪，最大压痕行程为50μm，噪声<0.1nm，数字分辨率为0.004 nm，漂移率为< 0.05nm/s。
为了确保业内最广泛，最可靠的数据，NanoFlip能够实现0.1 Hz至1 kHz的动态激励频率。
样品台移动，Z轴为25 mm，X为20 mm，Y轴为20 mm，分辨率为nm，可在大面积上精确定位样品。
载荷框架刚度> 7 e5N/m
独特的尖端校准系统集成到软件中，可实现快速，准确和自动的尖端校准。
可用的方法包，包含聚合物，薄膜和生物材料的提示，方法和标准
可用刮擦选项，最大正常载荷为50 mN，最大刮擦距离为2.5 mm，最大刮擦速度为500μm/ s。
可选的NanoBlitz地形和层析成像软件，用于材料的3D和4D映射。
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