仪器对比
关注
产品特点：
设备实现2"-12"晶圆
涂胶、显影模块自带暂停/恢复功能
同片盒内每个硅片可分别制定工艺运行
设备和各工位全封闭设计，不受外环境干扰
可独立增加层流罩，提升小环境洁净度
干湿分离，电液分隔
维护省力、简便
一、使用领域:
IC半导体、LED、Bumping、化合物、光通讯、OLED、MEMS等 Wafer Size 晶圆尺寸：Φ2"-8"
Spin motor主轴转速：0-8000rpm±1rpm
Uniformation膜厚均匀性：＜1％(参考AZ1500）
Temperation温度均匀性：0-250℃±0.5℃
MTBF：≥1500小时
Uptime95％
二、涂胶单元 Coater Uint： 胶盘：Teflon，Delrin
可编程移动式滴胶
可配3路喷嘴
正/背面去边清洗
主轴电机：伺服电机（高速：8000rpm）
匀胶温度控制（选配）
喷嘴预清洗（选配）
环境温湿度控制（选配）
三、显影单元 Developer：
胶盘:Delrin
4路喷液（2 spray，1 streaam, 1 Dl water）
主轴电机：伺服电机（高速：8000rpm）
背面清洗
滴液方式：胶泵或压力罐
液体温度控制（选配）
排风控制
体积尺寸：1400mm（W）×1400mm（D）×1700mm(H)
陕西爱姆加电子设备有限公司成立于2011年，注册资本500万元，位于古都西安西咸新区、国际港务区中南高科西安临空产业港7栋2单元，专业从事半导体和显示行业工艺设备的设计、生产，以及半导体和显示行业工艺技术开发、技术服务。所提供的半导体和显示工艺设备产品包括：匀胶机、半自动和全自动匀胶显影机、半导体喷胶机、槽式（Wet Bench）及单片(Single Wafer)的蚀刻-剥离-清洗自动生产线。
公司拥有专业的集成电路工艺开发和检测实验室以及半导体设备生产组装车间。公司通过多年技术积累、创新提高，形成自主知识产权体系。建有工艺设备演示培训中心，在提供工艺设备演示和为客户提供技术人员培训服务的同时，可提供半导体及显示相关功能薄膜的工艺技术开发、技术验证和加工技术服务。主要包括：各类金属功能薄膜和ITO透明导电薄膜、光学功能薄膜的沉积和黄光图形化（高精度曝光、显影、刻蚀）工艺相关的开发和加工服务。
公司拥有一批多年从事半导体设备的机械、电气、光学、计算机、以及从事半导体工艺线生产的专业的高中级工程技术人员，其中研发部门5人，高级工程师3人，工程师10人,等生产加工人员10人，拥用CAD计算机网络开发系统-FAB的MES等管理软件，各类检测仪器等先进的设计手段。
公司先后完成半导体设备100余件，其中半自动和全自动匀胶机、半导体喷胶机62件，半自动和全自动显影机28件，全自动匀胶显影机18台，为企业、研究所提供技术支持500余次。与上海鲲游科技有限公司、上海交通大学 上海泽丰半导体科技有限公司、众芯坚亥半导体技术（安徽）有限公司 山东省赛富电子有限公司、中国电子科技集团第十三研究所、成都泰美克晶体技术有限公司、西安微电子技术研究所(７７１所)、上海光机所、上海泽锋科技有限公司达成了良好的合作关系。
多年来，爱姆加电子设备始终坚持“和善互助为贵，争优创先为荣” 的职业道德;坚持“业主第一、质量第一、服务第一”的经营服务理念;在推行现代化管理制度的同时，注重企业文化建设，树立“高技术、专业化”的企业形象，我们愿以精湛的专业技术，卓越的设计质量、完善的服务措施，竭诚和行业内各届朋友、有识之士合作，为城市建设、发展半导体事业做出更大贡献。
专业的设备解决方案
产品适应不同工艺等级的客户要求，广泛应用于半导体、太阳能、MICROLED、MINILED、MEMS、PUMPING工艺、平板显示及PHOTO-MASK等产品的清洗、湿法刻蚀、薄膜旋涂、喷涂、显影、传统后道封装工艺技术服务及生产。
180天
3年
提供付费培训
到货后3天内
12小时内
是
7天内
相关产品
