超二维材料等离子软刻蚀系统ETCH

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品牌

MOORFIELD

型号

ETCH

产地

欧洲英国

应用领域

暂无

上海麦科威半导体技术有限公司

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第1年
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台式超二维材料等离子软刻蚀系统—nanoETCH

用于超刻蚀二维材料与样品表面处理的等离子体刻蚀系统，诺奖团队都在用！

石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度，而目前成熟的传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。为了解决目前维纳加工中常用的蚀系统功率较大、难以精细控制的问题，Moorfield Nanotechnology 推出了台式超二维材料等离子软刻蚀系统 - nanoETCH。该系统对输出功率的分辨率可到达毫瓦量，对二维材料可实现超的逐层刻蚀，也可实现对二维材料进行层内缺陷制造，此外还可对石墨基材等进行表面处理。

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