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6inch
AXIC基准800®ICP蚀刻和沉积
经济实惠的高性能驱动器和低温等离子体处理系统
AXIC公司的基准800®电感耦合等离子体(ICP)处理系统定义了深度反应离子蚀刻(DRIE)和低温低损伤等离子体增强化学气相沉积(ICP PECVD)等离子体处理的新概念。该系统基于模块化设计，从通用腔室和机柜单元开始，具有ICP蚀刻和沉积底部电极，可轻松安装到腔室单元中。我们相信您会发现基准800®ICP的易用性，各种等离子工艺，可维护性和有吸引力的价格是市场上任何其他等离子产品所无法超越的。
系统描述
在等离子体加工的研究和发展中，一直非常需要一种高度通用和可靠的工具。随着等离子体研究需求的不断变化，所选择的系统必须提供最广泛的工艺参数和高度的可重复性，以进行工艺验证。它还必须易于修改以适应新的工艺要求。我们相信我们的基准800®ICP蚀刻/沉积等离子体系统满足这些非常苛刻的要求。
BenchMark 800®ICP工具是一种等离子体工具，可用于研究，工艺开发或小批量生产，可在直径达8″的基板上进行精确蚀刻和沉积。该系统还可以容纳硅片。
在设计基准800-III®ICP工具时，主要指令是创建一个系统，该系统结合了专用生产导向系统的质量，可靠性和过程控制能力，同时大大降低了成本，维护和占地面积要求。
BenchMark 800®ICP工具独特的机柜和电极设计使其易于安装在层流模块或洁净室中。经过验证的高质量组件，模块化组件，通用腔室和电极设计，紧凑的尺寸，自动化和现场验证的工艺配方使AXIC基准800®ICP工具成为等离子工程师的“首选系统”。以上翻译结果来自有道神经网络翻译（YNMT）· 通用场景
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