型号: | seaFAST 半导体应用 |
产地: | 美国 |
品牌: | ESI |
评分: |
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ESI seaFAST
高基质样品预处理系统(半导体应用)
高基质样品中超痕量金属自动化测定:自动校准、自动基质匹配、预浓缩和基质去除以及氢化物发生。
高总溶解固体(TDS)样品的基质效应会给ICP-MS准确测定多种元素带来严重干扰。高稀释因子可以减弱基质效应,但是会影响检测极限。从历史上看,各种先进技术已被用于准确测定高TDS样品中的微量元素。其中一种常见的方法是预浓缩和基质去除,这为化学性质与所选螯合树脂相容的元素提供了极好的结果。对于其他元素,手动将校准空白和标准品的矩阵与稀释样品的矩阵匹配,可以在高TDS样品中获得非常准确的结果。最后,氢化物发生改善了难以测定的元素如As和Se的定量。seaFAST 高基样品预处理系统(半导体应用)使用一种或多种先进的分析技术分析样品:预浓缩和基质去除、在线稀释的直接分析和氢化物生成。为了提高精度,seaFAST对校准空白、标准和QC样品以及自动稀释的样品执行自动在线矩阵匹配。
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