方案摘要
方案下载应用领域 | 电子/电气 |
检测样本 | 电子元器件产品 |
检测项目 | 物理性质>其他 |
参考标准 | 日标 |
可整面快速检测膜厚分布的新一代椭偏仪,透明基板上的极薄膜厚也可检测。
新一代全检膜厚测量椭偏仪ME-210(-T)
常规椭偏仪通常只能对一点进行膜厚测量,而且单点测量也需要耗费时间,虽然也有可以做到自动扫描检测整个样品膜厚状况的手段,但是点数和时间以及精度往往无法满足工业客户的需求;对客户的这一痛点日本Photonic lattic 通过以自研的偏振传感器为核心的新一代全检膜厚测量椭偏仪,可以做到1000点/分钟,6寸产品最快可以在3分钟内完成,不仅如此,ME-210-T针对透明基板也可测量。
高速/面分布测量
最大每分钟1000点以上超高速全面测量膜厚,短时间内就可以取得整个产品膜厚和分布图
微小领域测定(20un左右)
可简单测量任意微小区域
透明基板上的薄膜厚度也可测量
适用于玻璃基板上的极薄膜测定
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