微波等离子去胶机

参考价：¥5万 - 10万

型号：	Q系列
产地：	德国
品牌：	阿尔法
评分：

核心参数

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产品详情

微波等离子系统全自动系列

简介：

ALPHA Plasma 在半导体和电子行业里是一个全球化运营的微波等离子系统设备供应商。

我们专注于为晶圆制造和芯片封装产业提供先进的低压微波等离子技术。

我们的目标不仅仅是提供我们的精密设备，更是为我们客户提供一个能改进工艺的一站式等离。

ALPHA Plasma 的Q系列产品主要包括批处理式的2.45Ghz微波等离子去胶机，可以快速且无害的去除光刻胶。并且可以满足大多数在Descum过程中对一致性的严格要求。

除此之外，当Alpha Plasma Q系列产品配置一个晶圆用的加热卡盘时，它同样可用于单片晶圆的其他苛刻应用，比如SU-8,PI去除等。

技术选型指南：

		Q 150		Q 235			Q 240
Process Chamber	石英 Quartz					Glass
Chamber Size(mm)	φ150 x L260		φ240 x L260		φ240 x L460
Volume(L)	6		11		21
最大样片尺寸 Wafer Size		4”		6”			8”
Chamber door	铝制抽屉式,带微波屏蔽观察窗Aluminum,drawer type door with viewing port
工作压力 Working Pressure(Pa)		≤100
Microwave Source	2.45GHz,50~600W连续可调50~600W Adjustable				2.45GHz,50~1200W连续可调50~1200W Adjustable
Gas Supply	标配2路MFC控制最大支持6路 2 MFC Standard,Max to 6				标配3路MFC控制最大支持6路 3 MFC Standard,Max to 6
Vacuum Gauge	Pirani, 1~1*10⁵ Pa				Baratron, 1~1000Pa
Vacuum Valve	电子气动阀 Electro-pneumatic valve
显示屏尺寸 Display Size		7”		10.4”			10.4”
Interface	Ethernet,USB,RS 232
System Control	正版Windows Embedded Compact 2013,触摸控制图形界面显示, 图形化参数设置;支持权限控制、安全互锁、多级菜单设置;可保存并导出运行、报警、错误等数据;导出数据格式兼容Windows Office软件。 Windows Embedded Compact 2013, Graphical user interface Software.
Dimensions(mm)	W500H370D550		W620H500D550		W760H775D775
Weight(Kg)	40		70		95
Utilities	1 connection 3/N/PE AC 50/60 Hz 400/240 V 16 A
Vacuum Pump	标配干泵，可选配油泵 Dry pump or oil pump on request.
Options:
Wafer Boat	√
Light Tower	-		√
HT加热台盘 Heating Chuck		-		√
TC温控台盘 Temperature Control Chuck		-		√

微波等离子去胶机信息由德国韦氏纳米系统有限公司为您提供，如您想了解更多关于微波等离子去胶机报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。除供应微波等离子去胶机外，德国韦氏纳米系统有限公司还可为您提供Harrick等离子清洗机、Harrick 等离子清洗机等产品，公司有专业的客户服务团队，是您值得信赖的合作伙伴。

典型用户

用户单位	采购时间
深圳大学	2018/10/16
中山大学深圳泌尿外科医院	2018/04/19
台州学院	2018/10/19
中科院微系统所	2018/07/27
香港科技大学	2017/11/15
郑州大学	2016/11/26
上海复旦大学	2016/09/26
上海交通大学	2016/12/26
合肥工业大学	2016/03/30
兰州大学	2016/04/10

售后服务

产品货期： 7天
培训服务：安装调试现场免费培训
安装调试时间：到货后7天内
电话支持响应时间： 2小时内
是否提供维保合同：是
维修响应时间： 1天内