研发型大面积曝光系统

研发型大面积曝光系统

参考价:面议
型号: Model 212
产地: 美国
品牌: OAI
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德国韦氏纳米系统有限公司
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Model 212 型大面积光罩校准器是一种经济高效的高性能光罩校准器,它采用 OAI 业经验证的组件进行设计,这些组件使 OAI 成为光罩

校准器行业的领导者。

Model 212 型是台式光罩校准器,只需最小的洁净室空间,并且只需最小的洁净室空间,并且为大面积基板、液晶显示器、薄膜

晶体管、面板级封装和OLED。

Model 212大面积掩膜对准器采用了OAI 紫外光源,可提供近紫外、中紫外或深紫外准直紫外光。

灯管提供近紫外、中紫外或深紫外准直紫外光,功率从 200 瓦到 2000 瓦不等。

恒定强度控制器相连,以控制曝光强度控制在所需强度的 ±2% 范围内。


Model 212系统参数:



Substrate Size


Substrate Stage



X, Y Travel Z Travel

Up to 12” square or 300mm


±10mm 5mm


Micrometer

.001”; .0001”


Graduations

or .01mm; .001mm


Rotation

±3.5˚

Mask

Size

Up to 14” x 14”

Lightsource

Beam Size

Up to 12” square


Lamp Power

200, 350, 500, 1,000, and



2,000 Watt NUV



500, 1,000 and 2,000 Watt DUV

Shutter Timer

Timer

0.1 to 99.0 sec. at 0.1 second increments



or 1.0 to 999 sec. at 1.0 second increments

Facilities

Electrical

110 or 220 vac



(or other according to Power Supply requirements



and Country)


Vacuum

20 - 28” Hg.


Air and N2 Exhaust

CDA at 60 PSI and N2at 20 PSI 0.35” to 0.5” Water

Dimensions

Height

42” (1067mm)


Width

60” (1524mm)


Depth

53” (1346mm)


研发型大面积曝光系统信息由 德国韦氏纳米系统有限公司为您提供,如您想了解更多关于研发型大面积曝光系统报价、型号、参数等信息, 欢迎来电或留言咨询。除供应研发型大面积曝光系统外, 德国韦氏纳米系统有限公司还可为您提供其他等产品, 公司有专业的客户服务团队,是您值得信赖的合作伙伴。
售后服务
  • 产品货期: 7天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训
  • 安装调试时间: 到货后7天内
  • 电话支持响应时间: 2小时内
  • 是否提供维保合同:
  • 维修响应时间: 1天内

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