曝光分析仪
曝光分析仪

曝光分析仪

参考价:¥5 - 10
型号: Model 659
产地: 美国
品牌: OAI
评分:
核心参数
德国韦氏纳米系统有限公司
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产品详情

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45年来,OAI始终是紫外能量测试仪器领域的全球领导者,其仪器用于半导体、微机电系统、晶圆封装和晶圆植球行业中光刻工艺的可靠,精确校准控制。

Model 659是款手持式紫外功率计,配有触摸屏和 USB 接口。通过使用特殊探头(365nm、400nm、420nm 和 436nm),可以测量主要用于步进应用的宽范围波长。


             ●  多达400个曝光参数

             ●  以太网和USB接口,用于下载记录的测量值

             ●  强度范围达7500mW/cm2

             ●  强度分辨率:0.01mW/cm2

             ●  探头波长:365nm、400nm、420nm、436nm



Model 659 型曝光分析仪,与晶圆步进光刻机配合使用,专为Ultratech Stepper等高强度光刻设备而设计(读数高达7500mW/cm2,1000000mJ/cm2'',最长9999秒)。可选择探头光谱响应:365nm、400nm、420nm或436nm.


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        OAI拥有完整的认证校准实验室,以确保仪器的性能,质量,和可靠性。Model 659 可追溯至NIST标准。

        


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曝光分析仪信息由 德国韦氏纳米系统有限公司为您提供,如您想了解更多关于曝光分析仪报价、型号、参数等信息, 欢迎来电或留言咨询。除供应曝光分析仪外, 德国韦氏纳米系统有限公司还可为您提供其他等产品, 公司有专业的客户服务团队,是您值得信赖的合作伙伴。
售后服务
  • 产品货期: 7天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训
  • 安装调试时间: 到货后7天内
  • 电话支持响应时间: 2小时内
  • 是否提供维保合同:
  • 维修响应时间: 1天内

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