晶圆级封装光刻胶去除剂

参考价:面议
供货周期: 现货
品牌: 杜邦
规格: 1、5、50加仑/桶
货号: EKC
CAS号:
德国韦氏纳米系统有限公司
银牌会员9年生产商
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用于晶圆级封装的光刻胶去除剂和TSV清洁剂

杜邦的光刻胶去除和硅通孔 (TSV) 清洗配方是我们 EKC 技术产品组合的一部分,经过优化,可通过焊接电镀或钢网印刷有效去除用于 TSV 掩模和晶圆凸块的厚和薄光刻胶。TSV 掩模和 TSV 清洁剂旨在有效去除 TSV 蚀刻后的残留物。

EKC® 162 抗蚀去除剂
EKC® 162 是一种经过优化的配方,可通过焊接电镀或模板印刷有效去除用于 TSV 掩模和晶圆凸块的厚薄光刻胶,具有出色的浴槽寿命和晶圆容量。该产品设计用于喷雾加工设备和湿工作台,能够比竞争对手更快、更低温地去除抗蚀剂。

EKC® 175 抗蚀去除剂
EKC® 175 可完全有效地去除 DRIE TSV 工艺中形成的坚韧的蚀刻后残留物,从而实现无缺陷的通孔填充工艺。

EKC® 830 抗蚀去除剂
EKC® 830 是有效去除存在铝的杜邦 MX5000 系列干膜的理想选择。本产品可用于喷雾加工设备和湿式工作台。

晶圆级封装光刻胶去除剂信息由 德国韦氏纳米系统有限公司为您提供,如您想了解更多关于晶圆级封装光刻胶去除剂报价、型号、参数等信息, 欢迎来电或留言咨询。除供应晶圆级封装光刻胶去除剂外, 德国韦氏纳米系统有限公司还可为您提供其他等产品, 公司有专业的客户服务团队,是您值得信赖的合作伙伴。

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