产品详情
芬兰PICOSUN高级原子沉积机P-300B Advanced ALD
技术参数
。基片尺寸和类型 300mm晶圆10片/批次(标准间距)
。200mm晶圆25+2片/批次(标准间距)
工艺温度 :50 - 500 °C
基片传送选件:。 气动升降(手动加载)
。半自动装载,用线性装载器实现
。52片晶圆盒式全自动装载,用真空批量Load lock实现
前驱体: 。液态,固态,气态,臭氧源
。前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务
。4根独立源管线,最多加载6个前驱体源
重量 :400 + 300 kg
尺寸: (W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm
选件 :PICOFLOW™ 扩散增强,N2发生器,尾气处理器,定制设计,与工厂软件连接服务。
验收标准 :标准设备验收标准为 Al2O3 工艺
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