微纳制作平台

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微纳制作平台相关的厂商

  • 天津微纳制造技术有限公司(天津微纳),2005年11月于天津经济技术开发区注册成立,坐落于开发区天大科技园园区内,主要投资方为天大科技园有限公司。围绕天津滨海新区重点发展的先进制造技术,将其中前沿的微纳制造技术作为公司的发展方向,以生产光学仪器、生物医疗仪器、日用及计算机外围设备中微小精密器件作为自己的发展目标。同时,天津微纳将引进微纳领域的海外先进仪器设备作为主要业务之一,目前是德国SIOS Messtechnik GmbH(SIOS)和Piezosysem Jena GmbH(PSJ)公司的中国总代理,为国内引进SIOS公司纳米级精度激光干涉仪和PSJ公司的纳米级压电致动与定位系统。这2类产品为微纳技术领域提供了纳米级测量与驱动的手段。
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  • 400-860-5168转0745
    微纳立方科技(北京)有限公司致力于为客户提供微流控实验(Lab-on-a-chip)整体解决方案。我们努力将微流控技术成为试验系统及数据,将试验系统成为产品,将产品应用于实验室、企业、医院乃至家庭。 微纳立方首次将模块化理念引入微流控系统,我们将微流控系统分解为进样、操控、芯片、分析模块, 我们称之为立方块(Blox),进一步分解为微立方块(Micro-blox)或纳立方块(Nano-blox),通过该理念,我们将微流控系统简单化、小型化和低成本化。 微纳立方拥有一支经验丰富的团队,核心成员在微流控领域均有超过10年的工作或研发历程,在微流控芯片设计加工、化学合成、石油驱替、细胞、器官培养、数字PCR应用领域积累了丰厚的理论知识和实操经验。 微纳立方建立了一个完整的微流控实验室(BloxLab),配置了微流控综合实验台、显微镜,单细胞操控及给药系统,细胞培养系统和微滴制备系统等多个实验平台,微流控实验室在辅助我司技术团队进行产品研发的同时也为客户提供多种微流控实验。我们的服务: • 微流控实验室搭建,包括:芯片实验室、微流控实验平台;• 微流控系统订制及合作开发;• 微流控实验相关仪器;• 微流控芯片设计加工,PDMS芯片、塑料芯片;• 微流控OEM部件供应及订制加工;• 微流控实验验证服务。联系我们: 微纳立方科技(北京)有限公司总部地址:北京市朝阳区酒仙桥电子城研发中心A2座西七层 电话:010-58237080 网址:www.microblox.cn
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  • 江苏集萃微纳自动化系统与装备技术研究所有限公司暨江苏省产业技术研究院微纳自动化系统与装备技术研究所(简称“微纳自动化所,Micro-Nano Automation Institute”),是由江苏省产研院、苏州高铁新城、核心团队三方共建的国际化新型研发机构,是集机械、光学、电子、传感、图像及计算机技术为一体的综合性高端装备平台,面向生物医药、高端装备、新能源、新材料、新一代信息技术等领域,以微纳操控、微纳加工和微纳测量等关键技术为研发方向,开发系列微纳自动化仪器及装备,实现对微纳米尺度物体的精密操作、加工、超高精度测量及精密制造。公司面向全球引进、招聘科技人才,以市场需求为导向,开发微纳自动化关键和共性技术,积极推动科技成果的转移转化,衍生孵化科技型企业,培养创新人才,将微纳自动所建成一流的微纳自动化系统与装备技术产业研发和成果转化基地、以及国际高端人才集聚、技术交流合作平台。
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微纳制作平台相关的仪器

  • DSR300系列微纳器件光谱响应度测试系统是一款专用于低微材料光电测试的系统。其功能全面,提供多种重要参数测试。系统集成高精度光谱扫描,光电流扫描以及光响应速率测试。40μm探测光斑,实现百微米级探测器的*对光谱祥响应度测量。超高稳定性光源支持长时间的连续测试,丰富的光源选择以及多层光学光路设计可扩展多路光源,例如超连续白光激光器,皮秒脉冲激光器,半导体激光器,卤素灯,氙灯等,满足不同探测器测试功能的要求。是微纳器件研究的优选。 功能:? 光谱响应度? 外量子效率? 单色光/变功率IV;? 不同辐照度IT曲线(分辨率200ms)? 不同偏压下的IT曲线? LBIC,Mapping? 线性度测试? 响应速率测试 微纳器件光谱响应度测试系统主要技术参数显微镜头标配:10倍超长工作距离物镜,工作距离大于17mmNA值:0.42光谱范围:350-800nm选配:1,50倍超长工作距离消色差物镜,工作距离大于17mmNA值:0.42光谱范围:480-1800nm 2,15倍紫外物镜,工作距离大于8.5mmNA值:0.32光谱范围:250-700nm 3,50倍超长工作距离紫外物镜,工作距离大于12mmNA值:0.42光谱范围:240-500nm 4,40倍反射式长工作距离工作距离大于7.8mmNA值:0.5光谱范围:200nm-20um光斑中心空心光源选配光源1、半导体激光器波长:405nm,532nm,633nm,808nm,980nm可选不稳定性:<1% 2、皮秒脉冲激光器波长:375nm,405nm,488nm,785nm,976nm可选脉宽:100ps频率:1-20M Hz 3、氙灯光源光谱范围:250nm-1800nm不稳定性:<1% 4、超连续白光激光光源光谱范围:400-2400nm频率:0.01MHz-200MHz脉宽:100ps光谱仪焦距:300mm;相对孔径:f/3.9;光学结构:C-T;光谱仪分辨率:0.1nm;倒线色散:2.7nm;波长准确度:±0.2nm波长重复性:±0.1nm扫描步距:0.005nm狭缝规格:圆孔抽拉式固定狭缝,孔径:0.2mm,0.5mm,1mm,1.5mm,2mm,2.5mm,3mm;三光栅塔台;光栅配置:1-120-300、1-060-500、1-030-1250,光栅尺寸:68×68mm6档自动滤光片轮,光谱范围200-2000nm;内置电动机械快门,软件控制快门开关;杂散光抑制比:10-5探针台配置4个探针座,配20/10微米针尖探针2米三同轴电缆,漏电流小于1pA。真空吸附样品台。探针座:XYZ方向12mm调节行程,0.75um调节分辨率,0-30°调节探针角度。LBIC MaappingXY方向行程50mm,分辨率5um。数釆v 锁相放大器斩波频率:20Hz~1KHz;频率6位显示,2.4英寸屏,320×240液晶显示;电压输入模式:单端输入或差分输入;电压、电流两种输入模式; 满量程灵敏度:1nV至1V;电流输入增益:106或108V/A;动态储备:>100dB;时间常数范围:10μs至3ks; v keithley2612B量程:100nA/1A最小信号:1nA本地噪音:100pa分辨率:100fa通道数:2 v keithley2636B量程:1nA/1A最小信号:10pA本地噪音:1pa分辨率:10fa通道数:2制冷样品台温度范围:-196℃-600℃,(-196℃需要选择专用冷却系统)全程温度精度/温度性:0.1℃/<0.01℃光孔直径:2.4mm样品区域面积:直径22mm两个样品探针,1个LEMO接头(可增加至1探针)工作距离:4.5-12.5mm气密样品腔室,可充入保护性气体独立温度控制响应速率测试示波器型号:MDO32模拟带宽100MHz采样率5GS/s记录长度10M时间范围:uS-S,需要配合调制激光器使用时间范围:10nS-S,需要配合皮秒脉冲激光器使用 三维可调高稳定探针台结构,方便样品位置调节。内置三路半导体激光器或者两路光纤激光器,外置一路激光光路。可以引入可调单色光源,进行全光谱范围的光谱响应度测试。测试功能曲线:40um光斑@550nm@50倍物镜200um光纤 70um光斑@550nm@50倍物镜400um光纤5um光斑@375nm皮秒激光器@40倍物镜 紫外增强氙灯和EQ99光源的单色光能量曲线,使用40倍反射式物镜,300mm焦距光谱仪,光谱仪使用1200刻线300nm闪耀光栅,光斑直径大小80um。
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  • nanoArch微纳3D打印机 P130 /S130产品详情nanoArch P130 微纳3D打印机nanoArch P130是可以实现高精度微尺度3D打印的设备系统,它采用的是面投影微立体光刻(PμLSE:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技术。该技术使用高精密紫外光刻投影系统,将需打印图案投影到树脂槽液面,在液面固化树脂并快速微立体成型,从数字模型直接加工三维复杂的模型和样件,完成样品的制作。该技术具备成型效率高、打印精度高等突出优势,被认为是目前最有前景的微纳加工技术之一。 科研级3D打印系统nanoArch P130是科研级3D打印系统,拥有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印层厚,从而实现超高精度的样件制作,非常适合高校和研究机构用于科学研究及应用创新。 NanoArch P130/S130系统性能性能参数nano Arch P130产品规格nano Arch S130产品规格光源:UV-LED(405nm)UV-LED(405nm)打印材料:光敏树脂光敏树脂光学精度:2μm2μmXY打印精度:2-10μm2-10μm打印层厚:5-20μm5-20μm打印样品尺寸:3.84mm(L)x2.16mm(W)x10mm(H)模式1:3.84mm(L)x2.16mm(W)x10mm(H)模式2:38.4mm(L)x21.6mm(W)x10mm(H)模式3:50mm(L)x50mm(W)x10mm(H)打印件格式:STLSTL系统外形尺寸:1720(L)x650(W)x1820(H)mm31720(L)x650(W)x1820(H)mm3重量:450kg450kg电气要求:200-240V,AC,50/60HZ,3KW200-240V,AC,50/60HZ,3KW注:样品高度典型2mm,最高10mm打印材料: 。通用型:丙烯酸类光敏树脂,如HDDA,PEGDA等 。个生化:高强度硬性树脂,纳米颗粒掺杂树脂,生物医用树脂等。系统特性: 。高精度:XY打印精度高达2μm; 。低层厚:5μm-20μm的打印层厚; 。微尺度打印能力; 。光学监控系统,自动对焦功能; 。配置气浮平台,提高打印质量; 。优良的光源稳定性; 。配备完善的样品后处理组件,包括抽真空及紫外后固化。
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  • 中图仪器CP系列微纳样品接触式微观表面台阶测量仪是一款超精密接触式微观轮廓测量仪器。主要用于台阶高、膜层厚度、表面粗糙度等微观形貌参数的测量。工作过程测量时通过使用2μm半径的金刚石针尖在超精密位移台移动样品时扫描其表面,测针的垂直位移距离被转换为与特征尺寸相匹配的电信号并最终转换为数字点云信号,数据点云信号在分析软件中呈现并使用不同的分析工具来获取相应的台阶高或粗糙度等有关表面质量的数据。结构主要组成部分1、测量系统(1)单拱龙门式设计,结构稳定性好,而且降低了周围环境中声音和震动噪音对测量信号的影响,提高了测量精度。(2)线性可变差动电容传感器(LVDC),具有亚埃级分辨率,13μm量程下可达0.01埃。高信噪比和低线性误差,使得产品能扫描到几纳米至几百微米台阶的形貌特征。(3)传感器设计使得在单一平台上即可实现超微力和正常力测量。测力恒定可调,以适应硬质或软质材料表面。超低惯量设计和微小电磁力控制,实现无接触损伤的精准接触式测量。2、工件台(1)精密的XY平台结合360°连续旋转电动旋转台,可以对样品的位置以及角度进行调节,三维位置均可以调节,利于样品调整。(2)超高直线度导轨,有效避免运动中的细微抖动,提高扫描精度,真是反映工件微小形貌。3、成像系统500万像素高分辨率彩色摄像机,即时进行高精度定位测量。可以将探针的形貌图像传输到控制电脑上,使得测量更加直观。4、软件系统测量软件包含多个模块。5、减震系统防止微小震动对测量结果的影响,使实验数据更加准确。CP系列微纳样品接触式微观表面台阶测量仪对被测样品的反射率特性、材料种类及硬度等均无特殊要求,广泛应用于半导体、太阳能光伏、光学加工、LED、MEMS器件、微纳材料制备等各行业领域内的工业企业与高校院所等科研单位,其对表面微观形貌参数的准确表征,对于相关材料的评定、性能的分析与加工工艺的改善具有重要意义。产品功能1.参数测量功能1)台阶高度:能够测量纳米到330μm甚至1000μm的台阶高度,可以准确测量蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料;2)粗糙度与波纹度:能够测量样品的粗糙度和波纹度,分析软件通过计算扫描出的微观轮廓曲线,可获取粗糙度与波纹度相关的Ra、RMS、Rv、Rp、Rz等20余项参数;3)翘曲与形状:能够测量样品表面的2D形状或翘曲,如在半导体晶圆制造过程中,因多层沉积层结构中层间不匹配所产生的翘曲或形状变化,或者类似透镜在内的结构高度和曲率半径。2.数采与分析系统1)自定义测量模式:支持用户以自定义输入坐标位置或相对位移量的方式来设定扫描路径的测量模式;2)导航图智能测量模式:支持用户结合导航图、标定数据、即时图像以智能化生成移动命令方式来实现扫描的测量模式。3)SPC统计分析:支持对不同种类被测件进行多种指标参数的分析,针对批量样品的测量数据提供SPC图表以统计数据的变化趋势。3.光学导航功能配备了500W像素的彩色相机,可实时将探针扫描轨迹的形貌图像传输到软件中显示,进行即时的高精度定位测量。4.样品空间姿态调节功能CP系列微纳样品接触式微观表面台阶测量仪配备了精密XY位移台、360°电动旋转平台和电动升降Z轴,可对样品的XYZ、角度等空间姿态进行调节,提高测量精度及效率。性能特点1.亚埃级位移传感器具有亚埃级分辨率,结合单拱龙门式设计降低环境噪声干扰,确保仪器具有良好的测量精度及重复性;2.超微力恒力传感器1-50mg可调,以适应硬质或软质样品表面,采用超低惯量设计和微小电磁力控制,实现无接触损伤的接触式测量;3.超平扫描平台系统配有超高直线度导轨,杜绝运动中的细微抖动,真实地还原扫描轨迹的轮廓起伏和样件微观形貌。典型应用在太阳能光伏行业的应用台阶仪通过测量膜层表面的台阶高度来计算出膜层的厚度,具有测量精度高、测量速度快、适用范围广等优点。它可以测量各种材料的膜层厚度,包括金属、陶瓷、塑料等。针对测量ITO导电薄膜的应用场景,CP200台阶仪提供如下便捷功能:1)结合了360°旋转台的全电动载物台,能够快速定位到测量标志位;2)对于批量样件,提供自定义多区域测量功能,实现一键多点位测量;3)提供SPC统计分析功能,直观分析测量数值变化趋势;
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微纳制作平台相关的资讯

  • 上海大学张源课题组《Nano Letters》封面文章:3D打印微纳一体化电化学检测平台助力“外泌体
    随着微纳一体化检测技术的不断进步以及规范化、信息化管理的逐渐普及,以多种疾病标志物并行联合检测为目标的医用POCT技术在医学检验中发挥越来越重要的作用。该技术以血液、尿液等体液样本为检测对象,通过检测一些特定的生物分子、循环肿瘤DNA(ctDNA)、循环肿瘤细胞(CTC)和外泌体等与癌症进展相关联的变化,可在癌症发病早期就提供预警,从而做到“早发现,早治疗”,而且还可辅助诊断、病程监测和预后判断等,有助于提高重点人群的癌症早诊率和治疗率,提高患者生存率和生活质量。图1. 基于MOF杂化材料的通用型多通道传感检测平台为了实现对多个待测标志物的联合检测,上海大学的张源团队开发了一种多通道的传感芯片检测平台。利用3D打印技术(NanoArch S140,摩方精密)辅助制作了PDMS的微流控通道,并在微通道内部集成了电化学传感检测电极,用于对外泌体表面多个标志蛋白进行同时检测。所设计的微流控通道不但方便开展各种多通道和系列化操作与实验,更适于在复杂环境中对痕量待测物进行检测研究。论文相关工作以“Design and Application of Metal Organic Framework ZIF-90-ZnO-MoS2 Nanohybrid for an Integrated Electrochemical Liquid Biopsy”为题被国际著名期刊《Nano Letters》接收发表,并被选为封面论文。 图2. 采用多通道传感芯片平台对临床样本的检测分析结果在该工作中开发了一种对复杂血液环境中外泌体进行直接、快速检测的技术;大大简化了外泌体的分析流程,总分析时间少于30 min,而且可以并行读出多个分析信号。该研究分析了12名肺癌患者和12名非癌对照组的血液样本,显示了对两组临床样本良好的区分结果。
  • 国家纳米中心等在微纳制造方法研究种获进展
    微纳加工是纳米研究的两大基础之一,备受重视。然而,随着各种新型器件和结构的出现,常规的微纳加工方法已无法完全满足需要,激发了人们探索更高性价比、更强加工能力的非常规加工方法。中国科学院国家纳米科学中心刘前团队基于自主开发的新概念激光直写设备,开发出多种非常规加工方法。近日,该团队在物理不可复制功能(PUF)防伪标签研究中取得新进展。相关研究成果以Random fractal-enabled physical unclonable functions with dynamic AI authentication为题,在线发表在《自然-通讯》(Nature Communications)上。   当前,传统防伪标签因其确定性的构筑模式在自身安全性上面临挑战。PUF标识本征的唯一性和不可预测性可作为商品的“指纹”秘钥,从根本上遏制标签自身被伪造的可能。为此,科学家利用金属薄膜去湿原理产生的随机分形金网络结构作为PUF,开发出一种由随机分形网络标识符和深度学习识别验证模型组成的新型PUF防伪系统,并展示该PUF的多层级防克隆能力。   借助高通量的图案化光刻(镂空模板)、薄膜沉积及一步热退火技术,可实现晶圆级PUF单元制作,体现了批量化、低成本(单个标签成本不到1美分)的生产特点。为了应用到实际防伪场景,研究人员开发了一种基于深度学习算法的图像PUF识别验证系统,借助ResNet50分类神经网络模型对37000个PUF标识符(10348)实现了可溯源、快速(6.36 s)、高精度(0%假阳性)验证,并提出了动态数据库策略,赋予深度学习模型极高的数据库扩容能力,理论上打破了庞大数据库的建立与低时间成本之间难以兼容的障碍。此外,这种PUF制作与微电子工艺流程高度兼容,有望与元器件同时集成并完成元件单元的真实性验证。PUF系统可初步满足工业化需求,有望推动商业化的PUF防伪技术的发展与普及。相关技术已申请国家发明专利并已获授权。   研究工作得到国家自然科学基金,国家重点研发计划“纳米科技”专项等的支持。该工作由国家纳米中心、北京航空航天大学和德国卡尔斯鲁厄理工学院合作完成。图1. PUF的制作流程及表图2. 深度学习识别验证系统的建立与性能展示
  • 重磅新品!Nanoscribe全能双光子微纳加工系统Quantum X shape
    Quantum X shapeReshaping precision,output,usabilityQuantum X shape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系统,用于快速原型制作和晶圆级批量生产,以充分挖掘3D微纳加工在科研和工业生产领域的潜力。作为2019年推出的第一台双光子灰度光刻 (2GL ) 系统Quantum X的同系列产品,Quantum X shape提升了3D微纳加工能力,即完美平衡精度和速度以实现高精度增材制造,以达到最高水平的生产力和打印质量。作为一款真正意义上的全能机型,该系统是基于双光子聚合技术(2PP)的专业激光直写系统,可为亚微米精度的2.5D和3D物体的微纳加工提供极高的设计自由度。Quantum X shape可实现在6英寸的晶圆片上进行高精度3D微纳加工。这种效率的提升对于晶圆级批量生产尤其重要,这对于科研和工业生产领域应用有着重大意义。总而言之,该系统拓宽了3D微纳加工在多个科研领域和工业行业应用的更多可能性(如生命科学、材料工程、微流体、微纳光学、微机械和微电子机械系统(MEMS)等)。作为Nanoscribe的新型高精度3D打印系统,Quantum X shape可自由设计几乎任何2.5D或3D形状的结构,并提供大尺寸高质量结构制作。Reshaping precision.作为已被工业界认可的Quantum X平台的二代加工系统,Quantum X shape在3D微纳加工领域无与伦比的精度,比肩于Nanoscribe公司在表面结构应用上突破性的双光子灰度光刻(2GL )。全新的Quantum X shape的高精度有赖于其最高能力的体素调制比和超精细处理网格,从而实现亚体素的尺寸控制。此外,受益于双光子灰度光刻对体素的微调,该系统在表面微结构的制作上可达到超光滑,同时保持高精度的形状控制。双光子聚合(2PP)是一种可实现最高精度和完全设计自由度的增材制造方法。而作为同类最佳的3D微加工系统Quantum X shape具有下列优异性能:在所有空间方向上低至 100 纳米的特征尺寸控制,适用于纳米和微米级打印制作高达 50 毫米的目标结构,适用于中尺度打印左图:机械器件的快速高精度小批量生产。200个结构的通宵产量右图:使用Nanoscribe微纳加工技术制作的3D微针,轻松实现具有高纵横比,形状精度和锋利边缘的不同设计变化Reshaping output.高速3D微纳加工系统Quantum X shape可实现一流形状精度和高精度制作。这种高质量的打印效果及产量是结合了最先进的振镜系统和智能电子系统控制单元的结果,同时还离不开工业级飞秒脉冲激光器以及平稳坚固的花岗岩操作平台。Quantum X shape具有先进的激光焦点轨迹控制,可操控振镜加速和减速至最佳扫描速度,并以 1 MHz 调制速率动态调整激光功率。Quantum X shape 带有独特的自动界面查找功能,可以以低至 30 纳米的精度检测基板表面。这种在最高扫描速度下的纳米级精度体现,再加上自校准程序,可在最短的时间内实现可靠和准确的打印,为 3D 微纳加工树立了新标杆。这些优异的性能使Quantum X shape 成为快速原型制作和应用于微纳光学、微流体、材料表面工程、MEMS 等其他领域中晶圆级规模生产的理想工具。Reshaping usability.通过系统集成触控屏控制打印文件来大大提高实用性。通过系统自带的nanoConnectX软件来进行打印文件的远程监控及多用户的使用配置,实现推动工业标准化及基于晶圆批量效率生产。Quantum X shape作为具备光敏树脂自动滴配功能的直立式打印系统,非常适合标准6英寸晶圆片工业批量加工制造。用户还可以通过设备的集成触控屏直接或远程访问Quantum X shape打印系统来控制打印作业。通过远程访问软件nanoConnectX ,用户可以看到触控屏的显示选项并操控所有功能,实现从任何地方启动、监控和控制连接打印系统的打印作业进程。这使得整个小组成员(例如研究小组或部门所有成员)均可在个人电脑访问打印系统。实现了最低限度减少实验室准备时间,简化并提高整个制备、执行和监控打印作业效率,并在共享系统时大大提升团队协作。nanoConnectX远程访问软件实现任意电脑连接到Quantum X shape系统进行远程执行,检查和控制整个打印作业。了解更多相关应用,欢迎联系Nanoscribe中国子公司纳糯三维科技(上海)有限公司

微纳制作平台相关的方案

  • 微纳米气泡的粒度测试方法
    微纳米气泡是指液体中存在的直径在100nm-100μ m之间的气泡,是通过专用的气泡发生器产生的。含有微气泡的水具有很多奇特的功效:用微纳米气泡养鱼能提高产量,用微纳米气泡栽培或灌溉能促进作物生长,微纳米气泡浴能有清洁、镇静和愉悦身心的效果,向污水中注入微气泡能加速水体及底泥中污染物的生物降解过程,实现水质净化。但是,微纳米气泡的粒度分布决定了它的性能,准确测试微纳米气泡的粒度,对验证微纳米气泡发生器的效能、评价微纳米气泡的效果至关重要。那么,怎样测试微纳米气泡的粒度呢?
  • 微纳米气泡发生器在水处理中的应用
    微纳米气泡的出现及其不同于普通气泡的特点,使其在水处理等领域显现出优良的技术优势和应用前景,介绍了微纳米气泡以及其比表面积大、停留时间长、自身增压溶解、界面电位高、产生自由基、强化传质效率等特点,论述了微纳米气泡在水体增氧、气浮工艺、强化臭氧化、增强生物活性等环境污染控制领域的应用研究。引 言微米气泡(microbubble)通常是指存在于水中直径为10~50μ m的微小气泡,直径小于200nm的超微小气泡称为纳米气泡(nanobubble),介于微米气泡和纳米气泡之间的气泡称为微纳米气泡(micro-nano bubble),与传统大气泡(coarse bubble,直径50mm)和小气泡(fine bubble,直径5mm)相比,微纳米气泡直径小,其传质特性和界面性质均显著不同于传统大气泡。
  • 应用闪光法测试评价微纳结构材料的热扩散率
    随着微电子技术的发展,微纳结构材料的热性能测试评价越来越得到广泛的需求和重视,这主要是由于这些低维材料热性能的测试十分困难。本文介绍了一种测试具有高导热性能的微纳尺寸纤维的测试方法,这种方法基于经典的闪光法(激光脉冲法),但对测量精度和不必要的复杂形式进行了改进。本文采用改进后的闪光法测量了各种碳基结构由聚酰亚胺和沥青构成的纤维,研究了这些纤维热性能随沥青含量的变化规律,测试结果与文献值相比不超过5%。

微纳制作平台相关的资料

微纳制作平台相关的试剂

微纳制作平台相关的论坛

  • 微纳形貌分析利器——4D微纳形貌动态表征DHM

    微纳形貌分析利器——4D微纳形貌动态表征DHM

    科研史上前所未有的观测手段——数字全息DHM可高速实时测量三维形貌,达到了亚纳米精度。克服了传统AFM、CLSM等需要扫描进行三维成像的特性。 表征透明/半透明三维形貌Ø 测量厚度从几纳米到几十微米Ø 可测最高三层透明薄膜Ø 测量薄膜折射率Ø 微纳器件动态三维形貌时序图(1000fps), 还可测频率响应(高达25MHz) 主要应用北京大学 搭建平面应变鼓膜实验平台测量纳米薄膜的动态力学性能天津大学 微结构表面形貌和运动特性测量华中科技大学 微纳制造与测试,微小光学元件检测,微电子制造封装与测试清华大学 透射式全息显微镜,测量透明样品形貌,还可以测量材料光学参数、内部结构以及缺陷杂质等 • 超快速高精度的三维成像,大面积三维形貌表征,表面粗糙度,MEMS振动测量分析,表征微流体器件和微颗粒三维追踪测试配合MEMS Analysis Tool、光学反射软件Reflectometry Analysis等专用软件实现更多功能[img=,600,400]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/10/201710131406_01_1546_3.gif[/img][img=,384,216]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/10/201710131407_01_1546_3.gif[/img][img=,690,]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/10/201710131406_02_1546_3.jpg[/img]

  • 微纳形貌分析利器——4D微纳形貌动态表征

    微纳形貌分析利器——4D微纳形貌动态表征

    科研史上前所未有的观测手段——数字全息可高速实时测量三维形貌,达到了亚纳米精度。克服了传统AFM、CLSM等需要扫描进行三维成像的特性。 表征透明/半透明三维形貌Ø 测量厚度从几纳米到几十微米Ø 可测最高三层透明薄膜Ø 测量薄膜折射率Ø 微纳器件动态三维形貌时序图(1000fps), 还可测频率响应(高达25MHz) 主要应用北京大学 搭建平面应变鼓膜实验平台测量纳米薄膜的动态力学性能天津大学 微结构表面形貌和运动特性测量华中科技大学 微纳制造与测试,微小光学元件检测,微电子制造封装与测试清华大学 透射式全息显微镜,测量透明样品形貌,还可以测量材料光学参数、内部结构以及缺陷杂质等 • 超快速高精度的三维成像,大面积三维形貌表征,表面粗糙度,MEMS振动测量分析,表征微流体器件和微颗粒三维追踪测试配合MEMS Analysis Tool、光学反射软件Reflectometry Analysis等专用软件实现更多功能[img=,690,]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/10/201710131349_01_1546_3.jpg[/img][img=,600,400]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/10/201710131350_01_1546_3.gif[/img][img=,384,216]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/10/201710131351_01_1546_3.gif[/img][img=,384,216]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/10/201710131354_01_1546_3.gif[/img][img=,384,216]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/10/201710131351_04_1546_3.gif[/img][img=,384,]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/10/201710131358_01_1546_3.jpg[/img]

微纳制作平台相关的耗材

  • 飞秒激光微纳加工系统配件
    工业级飞秒激光微纳加工系统配件专业为工业微加工研究和生产而研发的成熟的技术,可用于飞秒激光打孔,飞秒激光蚀刻,飞秒激光多光子聚合等微纳加工应用。飞秒激光微纳加工系统配件具有非常绝佳的可靠性和超高的加工速度,飞秒激光器由于激光脉冲超短,提供了常见激光无以伦比的激光功率密度,其加工效果远远超过纳秒和皮秒激光。光束所到之处能够瞬间将材料汽化,由于激光脉冲超短,激光能量无法在如此短的时间内扩散到周围材料中,所以对加工区域周围影响微乎其微,是一种冷加工技术,加工效果堪称一流。飞秒激光微纳加工系统配件采用高达10W的Yb:KGW(1030nm)飞秒激光器作为激光光源,重复频率在1--1000KHz范围内可调,结合一流的精密扫描振镜,提供超高的微加工速度。系统配备Arotech公司高分辨率的定位平台,并同步激光光束扫描振镜和脉冲选择器, 在空间,时间和能量上提供全方位高精度控制。从而提供超高难度的加工能力,并达到亚微米精度的分辨率和重复性。配备机械视图系统,使用高分辨率的相机监控加工过程。飞秒激光微纳加工系统配件使用了贴别为微加工而设计的飞秒激光器,它比市场上出售的商业飞秒激光器具有更多优势,具有更高的稳定性和可靠性,达到工业使用的标准,飞秒激光放大器具有更短的脉冲(振动器飞秒激光微纳加工系统配件规格激光放大器参数波长1030nm平均功率6W重复频率1-1000KHz可调脉宽最大脉冲能量1mJ输出稳定性光束质量M2脉冲选择器多种频率选择SH, TH,FH可选激光振荡器参数功率1W脉宽重复频率76MHz飞秒激光微纳加工系统配件特色 超高加工速度:高达350000像素 飞秒微细加工模式下具有最小的热影响区 工作面积高达:150x150mm 使用高性能振镜控制精密激光光束 激光脉冲数可控(1-350KHz)飞 飞秒激光微纳加工系统涉及技术 飞秒激光钻孔,飞秒激光切割,飞秒激光打孔 飞秒激光烧蚀,飞秒激光蚀刻,飞秒激光雕刻 2.5D铣,自定义模型划线, 表面微纳结构价格 改变材料的折射率,飞秒激光材料改性 飞秒激光三维多光子聚合 光学微操作…… MEMS制造掩膜制造和修理微片修复 燃料电池材料制造LIBWE,医疗应用激 光诱导扩散微光学、光子晶体、衍射光学元件制造 波导和微透镜的制备
  • 蛋白质微阵列芯片制作打印机配件
    蛋白质微阵列芯片制作打印机配件是全球领先的微阵列芯片制作仪器,是专业为蛋白质芯片或DNA芯片,基因芯片等微阵列芯片而设计的微阵列芯片制作打印机器,在全球各大实验室已经安装使用的设备超过500多台。nanoprint微阵列芯片制作打印机全自动化和可编程,采用了先进的线性伺服电机技术,在X,Y方向实现高达500nm的分辨率,在Z轴方向实现250nm分辨率,并具有纳米尺度的定位精度。nanoprint微阵列芯片制作打印机具有高精度湿度和温度控制系统,具有方便用户操作的软件,可以全面和高效地打印微阵列和用于分子生物学研究和诊断应用的各种芯片。微阵列芯片制作打印机具有除湿功能可供用户选择配备,除湿功能可让用户在潮湿环境下操作。微阵列芯片制作打印机可打印高达384个微孔的微孔板,最多可以打印60个标准玻璃芯片底片。也可以打印各种微孔板,1“X3”的芯片和其他任何微流体生物芯片。纳米打印机系统提供先进的微孔板,位于微孔板下的 Peltier将其进行冷却。微阵列芯片制作打印机兼容任何PIN生物材料:DNA,蛋白质,抗体,小分子,肽核酸(PNA),碳水化合物,以及许多其他样品。这些引脚基于由美国专利6101946保护 ArrayIt专有工程和表面化学的技术 这样的设计使打印高效,经过数百万的印刷周期依然耐用。 BioTray根据研究结果提供了3种主要的PIN材料。微阵列芯片制作打印机有两种型号:纳米打印机LM60有384个微孔,最多可以打印60个标准玻璃芯片底片;纳米打印机LM210有384个微孔,最多可以打印210个标准玻璃芯片底片。LM60和LM210对可以打印一种特殊的蛋白质种类。General SpecificationsDimensions (L x P x H, cm)LM60 (110 x 85 x 56 cm)LM120 (164 x 85 x 56 cm)WeightLM60 (150 Kg), LM120 (200 Kg)Positional resolution (X,Y-Axis)500 nanometersPrinting speed48 spots per second or 192 Spots second according to the pins and printhead technologyPrinting technologyArrayit Pro, 946 or Stealth pins and printheadsNumber of pinsConfigurable 1 to 48 at 4.5 mm centers or1 to 192 at 2.25mmSpot diameter65 microns or larger to meet all applicationsMinimum spot spacing50 micronsPre-printingUser definableWash/dry stationUltrasonic with 2 wash positions and a dry stationNumber of microplatesThree standard 384-well sample microplates, customizable on the worktableMicroplates to be printed into :- 15 96-wells microplates (LM60)- 45 96-wells microplates (LM120)Number of slides60 glass slide substrates (LM60)120 glass slide substrates (LM120)Microplate coolingCool 1-3 microplates with a Peltier system, for protein microarray applicationsEnvironment controlFully enclosed, HEPA filtration and user-defined humidity controlNanoPrint™ uses 3 linear drives for X, Y and Z axis positioning combined with a proprietary linear drive motion control technology for superior positional resolution and accuracyThe X, Y - axis positional resolution is 500 nm.The high speed, high precision linear servo control system of the NanoPrint™ produces superior instrument performance that is essentially free of friction, noise and thermal emission.NanoPrint™ uses a Z-axis encoder reading at 250-nanometers resolution leading to a superior Z-Axis Resolution for Optimum Spot Morphology.NanoPrint™ offers highly precise resolution, repeatability and computer control over the speed and acceleration settings to ensure optimal printing onto any surface taking into account the biological samples to be printed.Optimal parameters are set at the factory but can be easily changed by the user for printing onto many different surfaces with different samples. The user gets a license to be allowed to use this patented technology.The figure above shows 3 Z-Axis moves to configure distance, speed and acceleration are the parameters to set :Z Profile: High speedZ Extend: Printing speedZ Retract: Quick returnFig.1Fig.2Fig.1: this picture shows three 348-wells microplates, the wash/dry module with sonicator (upper part of the picture) and the printhead and pins printing onto glass substrates (middle left). NanoPrint™ deck is configured in a module manner, allowing different worktables to be inserted and removed from the deck allowing users to easily switch between different printing applications such as glass substrates, microplates, and proprietary cassettes and cartridges or other types of substrates.Fig.2: NanoPrint™ is equipped with a Pin Cleaning Module that has a station providing pin washing, drying and sonication (downwards). The sonicator is filled and emptied during the print run in a completely automated manner.Systems sensors prevent splashing and overflowing for pin and deck safety. Drying is accomplished by vacuum using a quiet but powerful ACM-controlled (Accessory Module Control) function. The Pin Cleaning Module is rugged, durable and easy to maintain.Fig.3Fig.4Fig.3: Here the deck is configured with a capacity of three 384-well sample microplates printing onto 60 standard glass slide substrates using a printhead loaded with 48 pins. A 192-pin printhead can also be used instead of the 48-pin printhead.Fig.4: The screenshot shows a worktable allowing printing into 15 microplates (96-well) for the NanoPrint™ LM60. On the left part, three 348-well sample microplates with the pin cleaning module (wash/dry station with sonicator) can be seen.Fig.5Fig.6Fig.5: The ACM (Accessory Control Module) unit provides computer control for the wash/dry, humidity, and ultrasonication stations on the deck of the NanoPrint™ . Accurate sensing of the humidity inside the chamber assures that proper humidity levels are achieved and maintained during the entire duration of each print run. Humidity is maintained in a user-specified manner of ±1%. HEPA filtration protect the deck from dust to assure the necessary printing quality. Printing onto the worktables and control of the Pin Cleaning Module and the humidity are easily specified in software using the Microarray Manager.Fig.6: Easy connectivity (pump, tubing and connectors) between the ACM and the robot provides proper humidity and tigthness levels.Fig.7: Humidity SensingFig.8: Peltier systemFig.7: A RH sensor monitors the humidity inside the chamber with high accuracy.Together with the ACM, it assures that proper humidity levels are achieved and maintained during the entire duration of each print run.The humidification and dehumidification systems are triggered by the RH sensor that automatically maintain the levels set by the user.Fig.8: NanoPrint™ systems offer sophisticated sample microplates cooling via Peltier s an affordable and highly recommended option in order to minimize sample evaporation during printing. Microplate cooling is highly recommended for protein microarray applications to minimize protein denaturation and microbial growth in recombinant protein samples. The Peltier module fits directly beneath the 348-well sample microplate for highly efficient cooling while maintaining a low deck profile.
  • 飞秒激光微加工平台配件
    工业级飞秒激光微纳加工系统配件专业为工业微加工研究和生产而研发的成熟的技术,可用于飞秒激光打孔,飞秒激光蚀刻,飞秒激光多光子聚合等微纳加工应用。飞秒激光微纳加工系统配件具有非常绝佳的可靠性和超高的加工速度,飞秒激光器由于激光脉冲超短,提供了常见激光无以伦比的激光功率密度,其加工效果远远超过纳秒和皮秒激光。光束所到之处能够瞬间将材料汽化,由于激光脉冲超短,激光能量无法在如此短的时间内扩散到周围材料中,所以对加工区域周围影响微乎其微,是一种冷加工技术,加工效果堪称一流。飞秒激光微纳加工系统配件采用高达10W的Yb:KGW(1030nm)飞秒激光器作为激光光源,重复频率在1--1000KHz范围内可调,结合一流的精密扫描振镜,提供超高的微加工速度。系统配备Arotech公司高分辨率的定位平台,并同步激光光束扫描振镜和脉冲选择器, 在空间,时间和能量上提供全方位高精度控制。从而提供超高难度的加工能力,并达到亚微米精度的分辨率和重复性。配备机械视图系统,使用高分辨率的相机监控加工过程。飞秒激光微纳加工系统配件使用了贴别为微加工而设计的飞秒激光器,它比市场上出售的商业飞秒激光器具有更多优势,具有更高的稳定性和可靠性,达到工业使用的标准,飞秒激光放大器具有更短的脉冲(振动器飞秒激光微纳加工系统配件规格激光放大器参数波长1030nm平均功率6W重复频率1-1000KHz可调脉宽最大脉冲能量1mJ输出稳定性光束质量M2脉冲选择器多种频率选择SH, TH,FH可选激光振荡器参数功率1W脉宽重复频率76MHz飞秒激光微纳加工系统配件特色 超高加工速度:高达350000像素 飞秒微细加工模式下具有最小的热影响区 工作面积高达:150x150mm 使用高性能振镜控制精密激光光束 激光脉冲数可控(1-350KHz)飞 飞秒激光微纳加工系统涉及技术 飞秒激光钻孔,飞秒激光切割,飞秒激光打孔 飞秒激光烧蚀,飞秒激光蚀刻,飞秒激光雕刻 2.5D铣,自定义模型划线, 表面微纳结构价格 改变材料的折射率,飞秒激光材料改性 飞秒激光三维多光子聚合 光学微操作…… MEMS制造掩膜制造和修理微片修复 燃料电池材料制造LIBWE,医疗应用激 光诱导扩散微光学、光子晶体、衍射光学元件制造 波导和微透镜的制备
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