吐温

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  • 【资料】怪怪的吐温80

    【资料】怪怪的吐温80

    [img]http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2009/11/200911121041_183980_1610969_3.jpg[/img][color=#DC143C]吐温80[/color] Tween 80   CAS No.: 9005-65-6   质量指标(Specification)   外观(Appearance): 浅黄色粘稠液体   包装(Package): 50公斤/200   物化性质(Physical Properties)   密度:1.064;折射率:1.471-1.473;闪点110°C   储运(Storeage)   阴凉干燥处密封保存   聚山梨酸酯80  拼音名 Jushanlisuanzhi 80  英文名 POLYSORBATE 80  来源(分子式)与标准 本品为聚氧乙烯20山梨醇酐单油酸酯。  性状:本品为淡黄色至橙黄色的粘稠液体;微有特臭,味微苦略涩,有温热感。  本品在水、乙醇、甲醇或醋酸乙酯中易溶,在矿物油中极微溶解。  用途:注射液及口服液的增溶剂或乳化剂。  软膏剂且乳化剂和基质  在食品工业中用做乳化剂。  用途:该产品用做注射液及口服液的增溶剂或乳化剂;胶囊剂用分散剂;软膏剂用乳化剂和基质;栓剂用基质等。在食品工业中用做乳化剂。  质量标准:CP2000标准  质量指标  项目 指标  HLB值 15.0  外观 淡黄色至橙色的粘稠液体  含水量% ≤3.0  粘度25℃(mm2/s) 350-550  酸值(mgkOH/g) ≤2.2  皂化值(mgKOH/g) 45-60  羟值(mgKOH/g) 65-80  碘值(mgl2/g) 18-24  PH值 5.0-8.0  炽灼残渣% ≤0.2  重金属(ppm) ≤10  比重:(g/cm2) 1.06-1.09  吐温80是一个亲水性的表面活性剂,具有很强的破裂细胞膜的作用而引起刺激性,溶血性和组胺释放(致敏性)。吐温80作为一个聚合物本身纯度波动极在,高纯度的吐温80是无色透明的,而大多数吐温产品则是微黄到棕色,含有大量杂质或降解产品。吐温80中亲脂成份包括不饱和脂肪酸,这些不饱和脂肪酸十分容易氧化降解而产生更多的有毒成份,由此而产生的毒副反应将会超过产品本身带来的益处。医学界证实,吐温80用于注射剂,会引起过敏反应,包括休克,呼吸困难,低血压,血管性水肿,风疹等过敏样反应症状。这些不良反应在人的临床实验可以十分严重,有死亡报道。因此,使用吐温80是有严格限制条件的,它是一种有潜在不安全性的辅料,使用不当会对人的健康造成很大影响。  鉴于以上情况,有关标准都对吐温80的安全使用限量作出了规定。在一般药品制备中,根据药品的服用量,吐温80允许用量为0.5—5%。而注射剂的吐温80用量限制在100ug/ml。« 食品添加剂使用卫生标准» (GB2760-1996)中规定,吐温80在雪糕、冰淇淋中的限量为1‰,在牛乳中的限量为1.5‰。« 绿色食品 食品添加剂使用准则» (NY/T392-2000)明确规定,吐温80和司盘是生产绿色食品禁止使用的食品添加剂。

  • 豆腐中的吐温

    今日早上买回一盒豆腐,准备中午做汤,仔细看了下豆腐的配料:有黄豆、吐温40、吐温60、吐温80,为何需要这么多种类的吐温呢?

吐温相关的方案

  • 表面活性剂吐温 80 和吐温 20 分析
    吐温 20(聚山梨酯 20)和吐温 80(聚山梨酯 80)均属于非离子型表面活性剂,亲水性和化学稳定性强,对药物具有良好的助溶作用。添加到药物制剂中,可提高活性成分的溶解度,同时抑制大分子蛋白药物的自动聚合,提高蛋白药物的稳定性。
  • 吐温280在水溶液中的表面活性研究
    目的: 研究吐温280的表面活性, 为吐温280质量评价和增溶应用提供依据。方法: 测定水溶液中吐温280的CMC和SFT, 采用效率和效能进行综合表征及应用吉布斯吸附理论定量描述。结果: 由CMC和SFT可反映吐温280的质量, 且实验数据和吉布斯吸附方程式一致。结论: 通过对不同厂家的吐温280的CMC和SFT的分析测定, 采用CMC和SFT能从本质上反映吐温280样品的质量, 也使我们得到了研究吐温280增溶的重要依据) ) ) CMC和SFT, 同时应用吉布斯吸附理论对吐温280的实验事实进行了解释, 从而使我们获得了在中药制剂中应用吐温280的理论依据。
  • 生产工艺残留吐温 20 分析
    在基因治疗过程中,需要使用裂解剂对病毒进行裂解。这些裂解剂包括表面活性剂、去污剂以及有机溶剂,其中吐温是一类常用的病毒裂解剂,可以破坏病毒的脂膜或类脂,使其上蛋白质或包裹的蛋白质溶解,并经过纯化后使用。这些裂解剂的大量使用会对环境造成污染,而且试剂残留可能给后续的生产工艺产生影响,尤其对于制成供人体直接使用的生物制品,即使有微量的残存也将对使用者产生潜在的危害。因此安捷伦针对基因治疗生产过程中的吐温 20 进行准确定量分析,保证这些生物制品的用药安全性、稳定性和有效性。

吐温相关的资讯

  • 吐温成分分析好帮手——岛津吐温成分分析系统
    吐温Tween(聚山梨酯polysorbate),是由脱水山梨醇与环氧乙烷加成聚合,再与脂肪酸酯化后形成的聚合物,通常为混合物。吐温是一种非离子型表面活性剂,广泛用作乳化剂和油类物质增溶剂,通常被认为是无毒、无刺激材料。它对亲脂性药物有较好的助溶作用,常被用作注射剂及口服液的增溶剂或乳化剂,是一种常用的药物制剂辅料。近些年来,在临床应用中,出现了一些副作用和不良反应的报道,如过敏、溶血等。研究表明,这些副作用的产生与吐温的纯度有关。吐温传统检测方法专属性不足,其他检测方法如色谱分离搭配高分辨质谱及软件,整个系统的采购成本较高,并且对实验操作人员的知识水平和技术要求也较高。 岛津台式机MALDI系列 由岛津中国创新中心开发的“吐温成分分析工作站”软件,可搭配岛津台式机MALDI系列使用,吐温成分分析系统性价比更优,且操作简单,对工作人员的知识储备和实验技能要求不高,非常适合吐温成分分析。 MALDI吐温成分分析系统特点准确以MALDI-TOF质谱数据为基础,内嵌药典相关48种(1920个)化合物信息,包括脱水山梨醇、异脱水山梨醇及聚乙二醇的单酯化物和多酯化物等。通过大量样本迭代验证,可保证数据结果准确可靠。 高效包括相似性比较、组分鉴定及聚类分析三大功能,界面友好、操作简单。每个样本只需5~10分钟即可得到定性及定量测试结果,满足各级别用户需求。 可扩展软件内嵌标准谱库并支持自建库功能,可由用户自行添加目标数据信息,以满足本部门数据趋势化分析、质量稳定性内控等定制化检测需求。 无缝连接与岛津台式机MALDI-TOF系列无缝连接。岛津台式机MALDI系列具有200Hz长寿命固态激光器,特有防污染技术宽口径离子光学技术,TrueClean自动源清洁功能,配备基于紫外激光器的源清洁功能,可自动快速实现源自清洁。使仪器长期使用中源的污染风险降得更低。进样速度快,静音(02成分鉴定内嵌多种聚山梨酯类化合物的成分信息,能快速自动识别主成分及各类杂质成分,并给出各成分的相对含量。03聚类分析对不同类别的聚山梨酯类化合物或未知混合物等进行聚类分析。本文内容非商业广告,仅供专业人士参考。
  • Avantor吐温20申报IDL受理成功
    2012年8月,Avantor Performance Materials公司的吐温20产品,正式申报IDL受理成功,受理号为:JXFL1200028国。Avantor公司吐温20符合NF及EP,BP,JEP等多国药典,更满足注射制剂要求,此次申请中国食药监局IDL受理成功,将有利于中国领先的制药企业提升药品质量,有助于国内领先的制药企业走向国际市场。 吐温20的成功受理,标志着Avantor公司制药业务部在中国大陆地区迈出了坚实的一步。Avantor公司第一批准备申请注册的其他辅料正在积极筹划中,之后Avantor将继续推动药用级辅料在国内的注册工作,以满足国内及国际药厂对高品质辅料的需求。 随着国内制药企业技术实力的不断增强,国内制药企业不止瞄准国内市场,逐渐进军国际市场。2010年以来,国内制药企业特别是生物制药企业对符合多国药典的高品质辅料有了日益强劲的需求,同时为了提高产品的通用性,制药企业陆续在国内销售的成品药中使用进口辅料。 Avantor公司作为全球制药辅料的主要供应商,特别在生物制药辅料的领导者,十分愿意与国内领先的制药企业共同为中国制药行业的发展不懈努力,欢迎来电咨询,相关产品信息如下: Avantor公司药用级吐温20的产品信息如下: http://jtbaker.instrument.com.cn/down_214574.htm Avantor公司制药辅料及生物制药产品专刊: http://jtbaker.instrument.com.cn/down_206784.htm 关于Avantor:   艾万拓化工产品贸易(上海)有限公司(APMs)于2009年正式成立,是美国Avantor&trade Performance Materials的全资子公司。Avantor&trade Performance Materials拥有的J.T.Baker和Macron&trade 两大品牌有140多年的历史,其化学品领域的高品质产品,最优化的应用方案和功能性检测可以满足客户的高端应用需求,并确保高精度和高重现性的结果。 http://www.avantormaterials.com/
  • 南京大学最新Nature中的变温拉曼测量
    大地繁花已似锦,白衣战士正凯旋,再来话科研—南京大学新Nature中的变温拉曼测量经过人民的不懈努力我国的疫情阻击战已经取得重大胜利,祖国大地已繁花似锦,我们可敬的白衣战士正凯旋而归。2020年的春天少了应有的热闹与繁华,多了些宁静的处与思考,而思想的火花经过时间的沉淀能够酿造出科研的精华。希望我们重新回归科研岗位的时候能够创造出更多出色的科研成果。其实在疫情期间我国的科研工作者依然做出了很多的工作,仅Quantum Design China的用户就在Science和Nature上发表了多篇重要的科研成果。今天我们要介绍的是南京大学高力波教授、奚啸翔教授等多个课题组合作在Nature上发表的新科研成果,采用质子辅助的CVD方法生长制备出了无褶皱的超平石墨烯。该方法成功解决了传统CVD制备石墨烯过程中由于石墨烯与基质材料强耦合作用而形成的褶皱,这为石墨烯在二维电子器件等领域的应用扫除了一大障碍。文章表明,在质子辅助的CVD制备方法中,质子能够渗透石墨烯,对石墨烯和衬底之间的范德瓦尔斯相互作用进行去耦合,使褶皱完全消失。该方法还可以对传统CVD制备过程中产生的褶皱进行很大程度的去除。此外,通过新方法制备的超平石墨烯材料,不仅具有优异的清洁能力,还在测量中展示了室温量子霍尔效应。研究认为,质子辅助的CVD方法不仅能制备出高质量的石墨烯,并且对制备其他种类的纳米材料具有普适性,为制备高质量的二维材料提供了一种新途径。值得一提的是,文章中对样品进行了高质量的变温Raman测量,清晰的展示了不同制备与处理条件的石墨烯G峰和2D峰随温度变化的峰位移动。揭示了石墨烯与衬底之间相互作用的强弱以及石墨烯受到的应力大小。原文图4节选,不同制备与处理条件的石墨烯变温拉曼光谱中G峰与2D峰位置随温度的变化曲线补充材料图8节选,不同条件生长的石墨烯与通过转移方法在Cu和SiO2衬底上的石墨烯变温拉曼图谱文章中高质量的变温拉曼测量是南京大学物理学院奚啸翔教授通过Montana Instruments公司生产的Cryostation® 系列高性能恒温器与普林斯顿光谱仪联合测量完成的。高质量的数据表明了基于Cryostation系列恒温器的变温拉曼具有非常优异且稳定的性能。了解文章全部精彩内容请浏览原文https://www.nature.com/articles/s41586-019-1870-3目前由Montana Instruments公司与Princeton Instruments联合开发的超精细变温显微拉曼系统——microReveal RAMAN已经正式向全球销售。该集成式系统实现了变温拉曼的优化测量,省去了自己搭建变温拉曼的繁琐过程。该系统根据不同的应用可以实现4K-350K(500K可选)大温区范围内的拉曼光谱与成像、荧光光谱与成像、吸收光谱、电学测量和光电输运测量等多种功能。 拓展阅读:microReveal RAMAN在二维材料方面的应用--之石墨烯 背景简介从某种意义上说,石墨烯是的二维积木,所有sp2杂化碳的同素异形体均可以由石墨烯来构成,例如可以将石墨烯裹成零维的富勒烯、卷成一维的纳米管、堆砌成三维的石墨。石墨烯中载流子的高迁移率与近弹道输运性质使其在高频纳米电子器件方面有广阔的应用前景[1–10]。此外,他的光学和机械性能非常适合应用于薄膜晶体管、透明导电复合材料和电、柔性光电子材料等。显微拉曼系统是对石墨烯材料进行的非破坏性表征手段中效果较好的一种。例如通过G带和2D带的特征可以用来确定石墨烯的确切层数,而D和D’带可以用来评估石墨烯的缺陷。因此Raman是对石墨烯进行优化和应用不可或缺的测量设备。与其他二维材料相比,所有碳基材料的拉曼光谱数据中都蕴含了丰富有趣的信息。在室温研究中温度的波动与晶格的震动会引起局部性质的平均以及谱线的展宽,这限制了对光谱中有用信息的获取与分析。这种情况下只有材料中存在很强的扰动或化学组分的变化才能在展宽的谱线上表现出来。相比之下,在低温下谱线非常锐利,微小的峰位移动与形状变化都很容易观察到,可以对诸如多层重叠、副产物、不规则行为、损坏、官能团信息、化学修饰等等进行准确观测[12-14]。变温拉曼是分析石墨烯的理想方法,因为它可以对样品特性进行的表征并且还可以对其温度依赖行为进行研究[15]。石墨烯的峰位移动非常微小且容易受到温度波动的影响,因此想要获得一套、完整的变温拉曼光谱通常需要等待材料达到热平衡,在普通的变温设备中每一个温度点的稳定通常需要20分钟以上。此外高数值孔径物镜景深非常小(1um),温度波动时由于试验装置的热胀冷缩效应特别容易出现跑焦或样品漂出测量位置等问题。为了解决上述问题,Montana Instruments推出了MicroReveal RAMAN。该设备采用了超低热容快速变温样品台使样品快速实现热平衡(20-30秒达到热平衡)。集成的真空环境物镜采用立控温设计确保实现超低位置温漂。该套装置可以快速实现大温度范围内的(4K-350K,500K可选)高精度拉曼测量。实验与测量进行变温拉曼测量的样品处在高性能的恒温器中,样品所处环境的控温范围4K-350K。集成加热器和温度计的低热容快速变温样品台可实现样品的快速变温。激光光源通过100X, 0.75 NA的物镜聚焦在样品上。拉曼信号由该物镜收集后经过滤波光路进入光谱仪。预准直的模块化光路装置是连接样品低温环境与光谱仪的重要组成部分,封闭的模块可以防止漏光。光路中同时耦合了白光显微镜,有助于样品的观察和定位。通过高精度纳米位移器可实现对样品特定区域的定位观察以及全温区范围内的聚焦调整。本次实验中,我们将对石墨烯的D峰、G峰和2D峰进行观测。石墨烯的G峰是一个位于1587 cm-1附近较为锐的峰[3]。该峰位对应石墨烯SP2杂化碳原子面内振动模式。D峰也就是缺陷峰,出现在1350 cm-1,对应石墨烯边缘或被缺陷活化的sp2杂化碳原子环的呼吸振动模式[3]。D峰的强度直接与样品中的缺陷数量成比例,代表了石墨烯晶格的缺陷和无序程度,该峰在石墨和高质量的石墨烯中通常比较弱或消失。2D峰位出现在2687 cm-1是D峰位的倍频峰,有时称为是D峰的“谐波”,是两个声子晶格的振动模式。与D峰不同的是,它并不需要缺陷的激活,因此2D峰在石墨烯中始终是一个很强的峰,与是否存在D峰或缺陷无关[1-11]。按照经验来说,虽然G峰与2D峰没有关联,但是我们可以根据2D峰强和G峰强的比例来识别单层的石墨烯。对于单层石墨烯,峰强比例I(2D)/I(G)约为2,而对于双层石墨烯比例约为1。这个I(2D)/I(G)比例与D峰的消失以及2D峰形状的对称通常是用来判断无缺陷石墨烯的标准。本文研究中使用的单层和双层石墨烯样品是放置在带有SiO2层的Si衬底上。本次测试使用的条件:激发光:532 nm激光,带宽优于1 MHz。光斑尺寸:0.75 NA、100X镜头,1.5 um光斑直径。光谱仪:Princeton Instruments IsoPlane 高性能光谱仪。光栅:600线, 闪耀波长 500 nm。谱宽:3800 cm-1。样品安装:单层和双层石墨烯在硅衬底上,通过导热良好的Apiezon N grease粘在样品座上。样品先降温至低温度,然后间隔20K或50K进行升温测量。样品每次到达新的温度点后进行30秒钟的热稳定。通过控温软件读出的温度可以清楚的看到,温度稳定性优于10mK。每个温度点的光谱采集时间约为20 s。图1、白光显微镜观察照射在单层石墨烯上的1.5 um直径激光光斑结果与讨论单层石墨烯单层石墨烯样品拉曼光谱与温度的依赖关系如图2所示。该石墨烯样品2D峰位随温度的移动系数为-0.034 cm-1/K,如图2a所示。图2b中峰强比例I(2D)/I(G)约为2.5,这表明样品为纯净的单层石墨烯。图2 a) 在温度从5K增加到300K时,2D峰向低波数方向移动。b) 单层石墨烯拉曼光谱的温度依赖性(5K到300K)双层石墨烯对于双层石墨烯样品,温度相关的拉曼光谱如图3所示。I(2D)/I(G) 的比值约为1.2,与双层石墨烯的预期值一致[3-13]。双层石墨烯的2D峰随温度的移动系数为-0.066 cm-1/K,温度与2D峰位的关系如图3b所示。图3 a) 双层石墨烯的温度依赖性(5K到300K)拉曼光谱;b)不同温度的归一化拉曼光谱。总结温度相关性测量在开发和表征新型材料时起着关键性作用。当材料从3维降至2维时,对相变、分子热运动、晶体结构对称性变化的表征要求对样品温度和测量环境进行更加的控制。对于光谱测量,在系统的变温测量过程中位置热漂移与温度稳定性尤为重要。本次测量中如图2和图3所示,拉曼光谱显示出了预期的I(2D)/I(G)比值,以及2D峰位在从5K升至300K时向低波数的偏移。单层石墨烯的2D峰位随温度变化系数为-0.034 cm-1/K,如图2a)所示。双层石墨烯的2D峰位随温度变化系数为-0.066 cm-1/K,如图3b)所示。这些结果与预期和先前报到的结果一致。本次实验采用全干式的光学恒温器,配备快速变温样品台、集成真空高数值孔径物镜,通过预准直的光学模块与普林斯顿的完全无像差光谱仪IsoPlane相连,形成一套高性能的变温拉曼测量系统。现在,研究人员可以直接购买Montana Instruments公司具有拉曼光谱和成像功能的高性能变温拉曼系统。MicroReveal RAMAN解决方案显著地减少了搭建变温拉曼实验装置的时间与成本。研究者可以快速获得理想的实验环境,将更多精力专注于开发和研究新材料。想要了解怎样使用MicroReveal RAMAN来提升您的科学研究,请联系我们。我们的样机应用实验室即将投入使用,可以为您试测样品。参考文献1. Geim, A. K. Novoselov, K. S. The rise of graphene. Nature Mater. 2007, 6, 183–191.2. Charlier, J. C. Eklund, P. C. Zhu, J. Ferrari, A. C. Electron and phonon properties of graphene: their relationship with carbon nanotubes. Topics Appl. Phys. 2008, 111, 673–709.3. Malard, L. M. Pimenta, M. A. Dresselhaus, G. Dresselhaus, M.S. Raman spectroscopy in graphene, Physics Reports 2009, 473, 51-87.4. Bonaccorso, F. Sun, Z. Hasan, T. Ferrari, A. C. Graphene photonics and optoelectronics. Nature Photon. 2010, 4, 611–622.5. Bonaccorso, F. Lombardo, A. Hasan, T. Sun, Z. Colombo, L. Ferrari, A. C. Production and processing of graphene and 2d crystals. Materials Today 2012, 15, 564–589.6. Lin, Y.M. et al. 100-GHz Transistors from Wafer-Scale Epitaxial Graphene. Science 2010, 327, 662.7. Torrisi, F. et al. Inkjet-Printed Graphene Electronics. ACS Nano 2012, 6, 2992–3006.8. Sun, Z. et al. Graphene mode-locked ultrafast laser. ACS Nano 2010, 4, 803–810.9. Novoselov, K. S. Geim, A. K. Morozov, S. V. Jiang, D. Zhang, Y. Dubonos, S. V. Grigorieva, I. V. Firsov, A. A. Electric Field Effect in Atomically Thin Carbon Films, Science 2004, 306, 666-669.10. Zhang, Y. Tan, Y. W. Stormer, H. L. Kim, P. Experimental Observation of the Quantum Hall Effect and Berry' s Phase in Graphene, Nature 2005, 438, 201-204.11. Bolotin, K. I. Sikes, K. J. Jiang, Z. Klima, M. Fedenberg, G. Hone, J. Kim, P. Stomer, H. L. Ultrahigh Electron Mobility in Suspended Graphene, Solid State Comunn. 2008, 146, 351-355.12. Dieing, T. Hollricher, O. Toporski, J. Editors “Confocal Raman Microscopy”, Springer Series in Optical Sciences ISBN 978-3-642- 12521-8 Springer Heidelberg Dordrecht London New York, SpringerVerlag Berlin Heidelberg 2010.13. Tian, Y. Reijnders, A. A. Osterhoudt, G. B. Valmianski, I. Ramirez, J. G. Urban, C. Zhong, R. Schneeloch, J. Gu, G. Henslee, I. Burch, K. S. Low vibration high numerical aperture automated variable temperature Raman microscope, Rev. Sci. Instr. 2016, 87, 043105.14. Ferrari, A. C. Basko, D. M. Raman spectroscopy as a versatile tool for studying the properties of graphene, Nature Nanotechnology, 2013, 8, 235-246.15. Calizo I. Miao, F. Bao, W. Lau, C. N. Balandin, A. A. Variable temperature Raman microscopy as a nanometrology tool for graphene layers and graphene-based devices, Applied Physics Letters 2007, 91, 071913.

吐温相关的仪器

  • 涂料涂层耐温变试验箱产品简介涂料涂层耐温变试验箱是我厂根据JG/T25-2017《建筑涂料涂层耐温变性试验方法》、JG/T157-2001《建筑外墙用腻子》、JG/T172-2005《弹性建筑涂料》、JG/T24-2018《合成树脂乳液沙壁状建筑涂料》等标准研发生产的,该产品主要用于涂层经受冷热交替的温度变化面保持其原性能的能力。该设备具有高自动化、高效率、不进行任何调整和监视,自动完成冻融循环。涂料涂层耐温变试验箱产品热点1.箱体全部采用优质钢材,内胆水箱和储水箱完全采用优质的不锈钢板,整体结构坚固,材料经过防锈处理,耐腐蚀性能好。2.箱体保温材质采用硅酸铝纤维棉具有耐高温、传热系数低等特点。3.彩色触摸屏控制(工业级),内置操作系统,智能操控,简单方便。4.原装进口节能、环保型涡旋式低温压缩机组,高质量、低能耗,性能优异5.自动控制,数据曲线实时动态显示、试验数据自动存储,具有试验意外终断自动恢复功能。涂料涂层耐温变试验箱技术参数1.冷凝器冷却方式:风冷2.浸泡水温:23℃ 浸泡时间:0-18小时3.冷冻温度:20℃ 冷冻时间:3-10小时4.烘干温度:50℃ 热烘时间:3小时5.循环次数 0-9996.温度显示:箱体内温度极差不超过1℃7.加热功率:2kW8.运行功率:3kW9.重量:220㎏
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  • 涂料涂层耐温变性试验机WB-II符合规范:JGT 25-2017 建筑涂料涂层耐温变性试验方法涂料涂层耐温变性试验机WB-II技术参数:冷凝器冷却方式:风冷浸泡水温:23℃ 浸泡时间:0-18小时冷冻温度:20℃ 冷冻时间:3-10小时热烘温度:50℃ 热烘时间:3小时循环次数 0-999温度显示:箱体内温度极差不超过1℃内胆尺寸:500×400×450(mm)外形尺寸:1400×750×900(mm)加热功率:2kW最大运行功率:3kW重量:220㎏涂料涂层耐温变性试验机WB-II产品特点:1、压缩机、加热部分、电源控制部分均采用进口件,高质量、高性能2、满载运转时冻融箱内各点温度极差不超过1℃3、自动控制,数据曲线实时动态显示、试验数据自动存储,具有试验意外终4、自动恢复功能5、安装方便,占地小,低噪音涂料涂层耐温变性试验机WB-II设备控制系统:1、仪表:中国昆仑天辰2、接触器:法国施耐德3、继电器:日本欧姆龙4、热继电器:法国施耐德5、接触器: 法国施耐德6、接线端子:法国施耐德涂料涂层耐温变性试验机WB-II制冷系统:1.压缩机:原装进口节能、环保型涡旋式低温压缩机组,风机为无极调速,可根据环度可根据环境温度从而改变风机的转速。 (法国泰康原装进口涡旋式压缩机组)2.冷凝器:耐腐蚀鳞片式散热效果更佳 (台湾永强)3.制冷剂:采用环保式制冷剂404A (美国杜邦)4.膨胀系统:毛细管容量控制制冷大小 (丹麦丹佛斯)5.过滤器: 为铜管内的系统过滤 (丹麦丹佛斯)6.其他:原装进口油分离器、电磁阀等 (丹麦丹佛斯)安全保护措施:1.安全可靠的接地保护装置 2.压缩机超高温保护3.压缩机超低温保护4.压缩机过热保护5.压缩机超电流保护6.加热器短路、超载保护 7.风机超载保护8.水泵超载保护9.加热器超温保护10.总电源缺项短路
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  • 四川成都有机硅耐温漆/有机硅耐温涂料供应-冠牌厂商028◇85919808;有机硅耐温漆是一种长期在高温环境下仍具有防护能力的涂料,保护被涂物不被氧化生锈,同时兼顾一定的装饰性,涂层颜色多样,可以在高温环境下保持稳定的涂膜,漆膜不易开裂,不易脱落。有机硅耐温漆广泛应用于高温环境下的设备和管道的防腐保护,如发动机外壳、烟囱、排气管、热交换器等。施工参考:1.涂装前须将物体表面灰尘、油物、焊渣、锈蚀、旧漆膜等处理干净 , 钢材表面要求喷砂、喷丸到Sa2.5级,局部修补表面要求打磨到St3 级。施工中严禁带入水份。2.漆质过稠、可用专用稀释剂稀释。未配完的材料要密封保存。3.阴雨天或相对湿度大于 75% 时,应停止施工。4.产品应存放在阴凉干燥处,防止日光直接照射 , 隔绝火源 , 远离热源。部分内容截取自网络,如有不适,可联系告知我们,我们会尽快处理,谢谢。
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