热释电阵列相机

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热释电阵列相机相关的厂商

  • 上海璞凌光电科技有限公司,专业从事各类镜头的研发设计以及塑胶非球面镜片的生产加工。公司拥有万级标准的无尘注塑车间,千级标准的无尘装配车间。生产设备都是全电动日本住友注塑机。所有产品都是在无尘室内完成生产,检验,装配和测试。公司拥有专业设计人员,可根据客户要求提供定制服务。提供注塑加工非球面光学透镜,光纤耦合镜,接收发射透镜,复眼阵镜,TIR透镜,TOF镜片,耦合镜阵列,准直镜阵列,透镜阵列,复眼透镜,蜂眼透镜,蝇眼透镜,微透镜。我们的产品应用到激光系统,传感器自动化,机器视觉,无人驾驶,平衡车,航空航天,单点/ 多点阵列控制器,安全,光通信,TOF传感器,医疗等。主营生产各类镜头:监控安防类,医疗内窥类,运动DV类,车载类,FA机器视觉,二维条码扫描类,产品可用于行车记录仪、汽车后视环视、安防监控、360度全景相机、数码相机、运动DV、智能家居可视门禁、无人机航拍、高拍仪、文字扫描、指纹识别等众多的光学领域。
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  • 400-860-5168转6119
    上海先箴光电科技有限公司于2018年成立于上海,主要致力于为高校及科研院所提供所需求的光电成像相机、光谱仪、激光器光源及其系统。我司是一家囊括了高速成像探测、高灵敏度成像探测、红外成像探测、光谱遥感成像、显微镜成像(SEM、LSCM)系统、3D成像系统及其激光器光源系统等诸多产品的专业光电技术公司。 公司涵盖行业应用方向广泛,主要专注于流体力学及其成像系统、燃烧诊断、高光谱成像系统、计算成像学、非接触式应变测量系统及生命科学成像系统等等。公司依托于在以上行业领域内的专业知识和技术积累,与多家国际专业成像探测器和系统厂商建立了代理和合作联系,包括PCO、Andor、FLI、XenICs、Telops、FLIR、AIM、Specim、Lavision、Quantel、FEI、Carl Zeiss、SLM、OptiTrack、Navitar、Schneider等公司,服务于专业研究机构,包括全国各大理工科院校、中国科学院及天文台,并扩展到农业、林业、海洋、地质的检测勘探,生物医疗成像、自适应光学、半导体检测等各大专业应用领域。 公司总部位于上海,目前公司关连有两家公司,包含了上海先箴光电科技有限公司以及对应的外贸公司先箴科技国际有限公司。公司拥有多名专业性极强的博士及其在光电方向颇有研究的专业技术人员,并与多位国内光电成像及激光的专家及相关领域的知名学者建立了联系合作。公司确保为客户提供全方位服务,打造出良好的信誉和口碑。 先箴光电专注于物理光电计算成像、红外光谱成像探测的产品、流体力学和燃烧诊断的相关产品及系统。我们致力于为高校及科研院所提供所需求的光电成像相机、光谱仪、激光器光源及其相关系统和专业化服务。公司旨在成长为国内科研成像及光电系统领域内的高科技专业技术公司。官方网站:www.shforesight.com
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  • 北京声望声电技术有限公司(简称声望技术)成立于1998年,在声学测量领域发展多年,是国内规模大、声誉好的高新技术企业之一。声望技术依托中国科学院声学研究所的研究成果和自身的研发力量,每年都推出许多声学测量新产品。产品包含了声学测量的方方面面,主要分为以下几类: 传声器 校准器 传声器阵列 声级计 测量系统 吸声隔声测量系统 电声测量系统和配件 户外环境噪声监测系统 建筑声学测量系统 声学附件 经过十几年的努力,声望技术已发展成为国内声学测量的主要品牌,客户遍及航空、航天、汽车、电子、家电,高校研究所和环保等领域。在国际市场上,声望生产的传声器已得到全球广泛的认同,主要的声级计厂家都会使用声望传声器。在占领OEM市场的同时,声望技术也在积极地推广自主品牌,在全球发展了28家经销 商,在世界各地都可以买到声望技术的产品。 在产品质量控制方面,声望技术通过了德国TUV的ISO9000 的认证。从这些侧面可以反映出声望技术在产品质量控制上的成绩。 2004年,声望公司与德国Mueller-BBM VAS GmbH公司合资成立了米勒贝姆振动与声学系统(北京)有限公司。 我们提供的高效率噪声振动测试分析系统可应用于汽车制造厂家、汽车零部件供应厂家、航天航空业、学术与科研机构、日用商品厂家等各个领域。 近10年来 ,声望公司依托声学所的专家,积极借鉴国外专家和公司的经验,在国内建造了超过200座不同形式规模,具有不同技术要求和特点的声学实验室,客户遍及国家 科研单位,重点大专院校,著名跨国企业等,赢得了广泛的好评和赞誉。因业务发展的需要,且为了更好、更专业的为各位客户提供服务,2007年9月成立了上海声望声学工程有限公司,专业提供各类声学试验室的设计和建造 。
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热释电阵列相机相关的仪器

  • SureScan 基因芯片微阵列扫描仪是紧凑式的新型系统,适于灵敏而准确的芯片应用。这款新型 SureScan 芯片扫描仪是安捷伦完整芯片解决方案的基石,代表了安捷伦扫描仪科技创新的最新成果。它具有极佳的检测限,凭借其卓越的灵敏度和分辨率,无论是从单个数据点或一次实验,用户都可以从中获得尽可能多的生物学信息。连续式芯片加载能力,可消除分批加载的限制;集成式的特征数据提取软件,可实现图像的自动转换;紧凑式的设计,可优化台面空间的利用率。技术参数:动态范围:104(16 位数据格式),105(20 位数据格式),106(XDR 扫描)分辨率:2、3、5、10 微米动态自动聚焦:连续调节扫描仪焦距,始终保持对焦自动装片机:24 片装芯片盒,无需用户干预集成的条形码识别器:可识别 128 码、39 码、93 码以及 CODABAR兼容的染料:Cyanine 3 和 Cyanine 5,以及 Alexa 647、555、660激光器信息:- 绿色固相激光器,532 nm- 红色固相激光器,640 nm- 功率:在 532 nm 和 633 nm 下为 20 mW,均控制到 13 mW最大扫描窗口:71 mm x 21.6 mmPMT 调节:每次运行前自动校准 PMT 增益;允许将信号水平从 100%(默认)调至 1%检测限:每平方微米 0.01 个发色团像素位置误差:在 5 微米的分辨率下小于 1 个像素均一性:5% CV 整体非均一性,平均局部非均一性通常为 1%(基于 100 微米的特征)扫描时间:双色同步数据采集:16 分钟(3 微米扫描),24 分钟(2 微米扫描)(扫描范围 61 mm x 21.6 mm)数据工作站和操作系统:安装了 Windows 7(64 位)的计算机;数据分析软件 — 包括 2 份安捷伦特征数据提取软件的永久性许可扫描仪近似尺寸:高:16.5 英寸(42 cm),宽:17 英寸(43 cm),深:26 英寸(67 cm)重量:125 磅(56.8 kg)
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  • InGaAs阵列短波红外相机PSEL公司使用的InGaAs阵列短波红外相机,具有极低低暗电流和低缺陷像素数。得益于高效的冷却和稳定的偏置基线,PSEL的短波红外InGaAs相机可以在SWIR光谱中进行精确的计量测量。Camera Link和千兆以太网视觉兼容的界面接口使相机集成到客户现有系统变得很容易。具有可见光扩展的640 x 512 VGA SWIR芯片以及320 x 256分辨率的qVGA两种选择。有特殊要求项目或冷却选项的OEM客户自定义版本可用于集成到客户特定的仪器/系统中。 InGaAs阵列短波红外相机主要特征:14bit 数字化读出/16bit 影像处理;读出噪音低至 30-120e-帧频 110fps 完美线性响应在不同强度或曝光;千兆以太网/ Camera Link 接口l提供SDK软件开发包和Labview VI 主要应用:IC器件检测、IC工艺过程检测短波红外嵌入式视觉加强系统短波红外机载装备太阳能电池的光致发光天文高光谱成像激光束整形 技术参数:型号PSEL VGA 15μmPSEL qVGA 30μm光谱响应范围900-1700nm帧频174fps(在全VGA分辨率下) 570fps(在1/4 VGA分辨率下) 7200fps( 640x4分辨率或光谱模式)110 fps 在全幅qVGA 分辨率芯片尺寸9.6mmx7.68mm像素分辨率640x512像素 320x256像素单像元大小15um x 15um30um x 30um满阱容量20k-23k e-(高增益模式) 80k-105ke-(中增益模式)1000K-1500k e-(低增益模式)110k-150k e- (高增益模式)1500k-2200k e- (低增益模式)读出噪声28-38e-(高增益模式) 50-77e-(中增益模式) 500-800e-(低增益模式)110-200e-(高增益模式) 1000-1590e-(低增益模式)制冷温度-25°C (风冷) -40°C (水冷) -20°C (风冷) -40°C (水冷) 暗电流0.7fA(风冷) 0.1fA (水冷)8 fA(风冷) 0.5fA (水冷)A/D14-bit 数字化读出,16-bit数字化处理曝光时间30us - 1 min1us-1s QE@ 1500 nm80% IC 版显微发光成像—水冷SWIR InGaAs 相机, 20倍物镜,曝光时间30s MEMS 圆片透射显微红外成像—使用SWIR InGaAs 相机,6x 物镜,曝光时间15ms
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  • 全度影像推出标准化互动视频内容制作解决方案——时空凝结拍摄系统。提供从阵列相机采集、处理、编辑到生成的全链路互动视频解决方案,支持“子*弹时间”、“时间切片”、“自由视角”三大制作模式,为5G时代互动内容制作先行者提供性能好、体验佳的标准化内容生产工具。专为多维互动视频打造全链路内容生产解决方案,覆盖前端采集阵列搭建(专*利号:ZL202020820348.6)、实时预览与采集(软件著作权登记号:2020SR0128676)、分布式存储与处理、后期快速剪辑(软件著作权登记号:2021SR1304228)、云端直播及内容分发等关键流程。相对组装相机产品,自主研发的软硬件高度耦合架构使系统时刻保持高饱和工作状态,满足各类复杂使用场景。应用场景赛事直播、综艺节目、动作教学、广告拍摄、智能裁判、展会互动、新品发布、商业庆典功能:子*弹时间拍摄体验、时间切片拍摄体验、自由视角拍摄体验 特点:自主研发相机系统、同步技术、多维互动视频剪辑软件、快速便捷安装调试、大量现场执行经验
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热释电阵列相机相关的资讯

  • “活字印刷式”光电探测器阵列,实现多通道超构红外成像
    受神经形态计算并行处理能力的启发,多通道超构成像(meta-imaging)在成像系统的分辨率增强和边缘识别方面取得了相当大的进步,甚至扩展到中远红外光谱。目前典型的多通道红外成像系统由分离的光栅或合并的多个相机构成,这需要复杂的电路设计和巨大的功耗,阻碍了先进的类人眼成像器的实现。近期,由成都大学郭俊雄特聘研究员、清华大学Yu Liu、电子科技大学黄文教授和北京师范大学张金星教授领导的科研团队开发了一种由铁电超畴(superdomain)驱动的可打印石墨烯等离子体光电探测器阵列,用于具有增强边缘识别能力的多通道超构红外成像。通过直接重新调整铁电超畴而不是重建分离光栅,所制造的光电探测器在零偏压下表现出多光谱响应。与单通道探测器相比,研究人员所开发的多通道红外成像技术表现出更强和更快的形状分类(98.1%)和边缘检测(98.2%)。研究人员开发的概念验证光电探测器阵列简化了多通道红外成像系统,并为人脑型机器视觉中的高效边缘检测提供了潜在的解决方案。相关研究成果以“Type-printable photodetector arrays for multichannel meta-infrared imaging”为题发表在Nature Communications期刊上。基于“活字印刷式”多通道光电探测器阵列的红外成像使用铁电超畴打印的光电探测器的多通道超构红外成像技术方案如上图所示。与多个相机的合并不同,所提出的超构成像的像素点被设计为使用通过“活字印刷式”探测器实施的单个孔径实现并行多通道。通过将单层石墨烯和具有纳米级宽度条纹超畴的BiFeO₃ (BFO)薄膜集成,研究人员开发了一种简单的双端零偏压多通道阵列(MCA)探测器,用于超构红外成像。基于拉曼信号的载流子密度空间监测表明,通过重新调整铁电超畴可以实现石墨烯导电性的非均匀图案化。当工作在零偏压和室温下时,所开发的器件阵列在中红外区域表现出可调谐的透射光谱和选择性响应。“活字印刷式”等离子体光电探测器的制造和架构为了验证这种可打印架构的性能,研究人员通过重新调整铁电畴宽度(对应于活字印刷技术的排版过程)在同一BFO薄膜上制作了一个器件阵列。研究人员重点研究了石墨烯/ BFO超畴(不同宽度)混合结构的光谱响应。所开发的光电探测器实现了约30 mA W⁻ ¹ 的增强响应度和10⁹ Jones数量级的比探测率(D*)。“活字印刷式”光电探测器阵列的表征重要的是,研究人员展示了MCA光电探测器在红外成像应用中的集成,与单通道阵列(SCA)探测器相比,显示出对整体目标形状和边缘检测的更高识别精度,以及更快的训练和识别速度。“活字印刷式”探测器在手势红外成像和识别中的应用总而言之,通过将单层石墨烯和具有纳米级宽条纹超畴的BFO薄膜集成,研究人员开发了一种可打印的光电探测器阵列,证明了这种类型的器件阵列是为多通道超构红外成像应用而设计的,并实现了增强的边缘检测。所开发的可打印光电探测器在零偏压下工作,在室温下表现出约30 mA W⁻ ¹ 的高响应度。这可以归因于石墨烯等离子体与入射光的共振耦合。此外,器件阵列在中红外区域表现出选择性响应,这是通过在环境条件下直接重新调整BFO超畴宽度实现的。这项研究证明,通过在纳米尺度上改变铁电畴可精确控制石墨烯载流子密度。与依赖复杂纳米制造技术的传统器件相比,石墨烯片与不同衬底的兼容性提供了多种优势。此外,该研究还证明了MCA探测器可以增强红外成像中的形状和边缘检测。这些特性使得未来具有简单的电路设计和低功耗的集成光电子平台成为可能。论文链接:https://www.nature.com/articles/s41467-024-49592-4
  • Bruel & Kjaer成功举办2015阵列技术研讨会
    世界声学与振动测量专家Bruel & Kjaer于11月2日和4日分别在上海和北京各举办了一场阵列技术研讨会,总共吸引了近200名用户到场。 11月2日Bruel & Kjaer阵列技术研讨会(上海场) 来自Bruel & Kjaer丹麦总部的讲师向与会者介绍了噪声源识别技术概览;平面波束形成、优化波束形成和球面波束形成、移动声源波束形成;声全息,宽带声全息,保形绘图;手持阵列应用等方面的知识。 11月4日Bruel & Kjaer阵列技术研讨会(北京场) 讲师还在会议现场介绍和演示了Bruel & Kjaer近期推出的PULSE Reflex声学照相机的功能与应用,这款功能强大的产品能够在20秒内显示噪声源彩图,使得定位飞机舱、驾驶舱和其他区域的噪声变得前所未有的简单。 根据会后反馈,与会者均表示讲师的讲解非常清晰,对各种阵列技术覆盖全面,内容对实际工作有实用价值。 了解更多关于Bruel & Kjaer阵列产品与技术的信息,请访问如下网页: http://www.bksv.cn/Products/transducers/acoustic/acoustical-arrays 关于Bruel & Kjaer Bruel & Kjaer是先进的声学与振动测量系统制造商和供应商。 我们帮助客户测量和管理其产品与环境中的声音与振动质量。我们关注的领域包括航空航天、太空、国防、汽车、地面交通、机场环境、城市环境、电信和音频。 我们的声学与振动设备系列包括声级计、传声器、加速度计、适调放大器、校准器、噪声与振动分析仪和PULSE软件。 我们还设计和制造LDS系列振动测试系统,以及完整的机场和环境监测系统:WebTrak,ANOMS,NoiseOffice和Noise Sentinel。 全面了解我们的解决方案、系统和产品,请访问我们的网站:www.bksv.cn。 Bruel & Kjaer是总部位于英国的思百吉集团(www.spectris.com)旗下的子公司。思百吉集团2013年销售额达12亿英镑,集团的4个业务板块在全球共有大约7,500名员工。 媒体联系朱立市场传播经理Bruel & Kjaer 中国电话:+86 21 61133678邮箱:julie.zhu@bksv.com.cn网站:www.bksv.cn
  • 用于柔性成像的宽带 pbs 量子点石墨烯光电探测器阵列的研制
    胶体量子点(QD)/石墨烯纳米杂化异质结构为量子传感器提供了一种有前途的方案,因为它们利用了量子点中的强量子限制,具有增强的光-物质相互作用、光谱可调性、抑制的声子散射和室温下石墨烯中非凡的电荷迁移率。在这里,我们报告了一个灵活的,九通道的 PbS 量子点/石墨烯纳米混合成像阵列在聚对苯二甲酸乙二酯上的开发,使用了一个简单的工艺,用于器件制造,信号采集和处理。PbS 量子点/石墨烯成像阵列具有高度均匀的光响应特性。在1.0 V 偏置下,400-1000nm 入射光[紫外-可见-近红外(UV-vis-NIR)]的最高响应度为9.56 × 103-3.24 × 103A/W,功率为900pW。此外,该阵列具有一致的光谱响应,弯曲到几毫米的曲率半径。在紫外-可见-近红外(UV-vis-NIR)范围内的宽波长成像表明,量子点/石墨烯纳米杂化体为柔性光探测器和成像器提供了一种可行的方法。图1.(a-c)九通道 PbS 量子点/石墨烯传感器阵列的器件制作方法。(b)石墨烯通道上的 PbS QD 涂层 以及(c) MPA 配体交换。(d,e)是分别在刚性硅和柔性 PET 衬底上制作的9通道 PbS 量子点/石墨烯传感器阵列的示意图。(f)用短链导电 MPA 配体封装 PbS 量子点以促进从量子点到石墨烯的电荷转移的替换长链绝缘 OLA 和 OA 配体的示意图。(g)九通道 PbS 量子点/石墨烯传感器阵列中像素的结构示意图和 PbS 量子点/石墨烯界面上的内置电场。(h)使用 Arduino 读出器在九通道 PbS 量子点/石墨烯光电探测器阵列上进行传输成像的光学设置。图2。(a)在量子点沉积之前,在九通道 PbS 量子点/石墨烯传感器阵列上的石墨烯或“ Gr”通道的光学图像。(b)石墨烯/Si 和 Si 之间边界处的 G 峰(左上)和2D 峰(右上)的拉曼图,以及石墨烯上随机选择的点的拉曼光谱。单层石墨烯的 I2D/IG 2。(c)在1200nm 附近显示吸收峰的 PbS 量子密度吸收光谱。插图显示了 PbS 量子点的 TEM 图像,表明了 PbS 量子点的大小和均匀性。(d) PbS 量子点直径大小的分布。(e) PbS 量子点的高分辨透射电镜图像。条纹间距约为0.3 nm,相当于 PbS 的(200)晶格面。图3。(a)在硅衬底上的九通道 PbS 量子点/石墨烯传感器阵列上的选定像素在制作后的少数选定次数上的动态光响应。入射光功率为230nW,波长为500nm。整个像素的偏置电压为1.0 V (b)三个光开/关周期,显示重现性以及上升和下降时间定义。(c)相同的九通道 PbS 量子点/石墨烯传感器阵列对400-1000nm 范围内几个选定波长的入射光功率的光响应性。(d)相同的九通道 PbS QD/石墨烯传感器阵列对入射光功率为900pW 和偏置电压为1.0 V 的波长的检测率显示相同的九通道 PbSQD/石墨烯传感器阵列对入射光功率为900pW 和波长为500nm 的偏置电压的归一化响应性。数据在6783A/W 的1V 响应下进行了归一化处理。图4。(a)硅基板上的九通道 PbS QD/石墨烯传感器阵列对2.5 μW 的入射光功率和1V 的偏置电压的波长和通道(像素)的响应度(b)在500nm 的波长下9个像素的归一化响应度。(c)在黑暗中使用带有“ X”的阴影掩模显示五个中心通道和四个角通道的透射成像示意图。(d)使用(b)中的归一化方法对9个像素进行归一化响应,显示“ X”阴影掩模成像的结果。图5。(a)显示阴影掩模位置的图像扫描系统,透过线性致动器水平和垂直扫描,以取得安装在“样本”位置的九通道 PbSQD/石墨烯传感器阵列上的传输图像。(b)透过光束扫描以在阵列上产生传输图像的阴影掩模的光学图像。(c-e)通过在(c)400,(d)500和(e)1000nm 的波长的衬底上的九通道 PbS QD/石墨烯传感器阵列获得的图像。图6。(a)在 PET 基板上安装在弯曲虎钳上的九通道 PbS QD/石墨烯传感器阵列。转动图中所示的螺丝,将虎钳的两边连接在一起产生弯曲。(b) PET 阵列对几个选定波长的入射光功率的归一化响应率和1V 的偏置电压(c)柔性 PET 阵列的响应率作为入射光波长的函数以及刚性 Si 阵列,两者都在400nm 处归一化以进行比较。在这种情况下,入射光功率约为120nW,偏置电压为1 V (d)对于具有500nm照明的 PET 阵列,响应率与曲率半径之比。这种情况下的光功率为2.5 μW,偏置电压为1 V。插图展示了在弯曲条件下的阵列,并用500nm 光照明。图7.在 PET 上分别以(a)400,(b)500和(c)1000nm 的波长用9通道 PbS QD/石墨烯混合传感器阵列拍摄的图像。图8.在 PET 上用9通道 PbS QD/石墨烯混合传感器阵列拍摄的图像,阵列(a)平坦,(b)弯曲半径为5厘米。相关科研成果由堪萨斯大学Andrew Shultz、Bo Liu和Judy Z. Wu等人于2022年发表在ACS Applied Nano Materials上。

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  • 【原创大赛】纳米阵列电极简述

    【原创大赛】纳米阵列电极简述

    纳米阵列电极是多个纳米电极的集合体。根据单个纳米电极的组合方式,纳米阵列电极可分为有序纳米阵列电极(nanoelectrode arrays) 和无序纳米阵列电极( nanoelectrode ensembles) 。纳米阵列电极不仅具有单个纳米电极高传质速率、低双电层充电电流、小时间常数、小IR 降及高信噪比等优势,而且由于成千上万个单个纳米电极集中在一个基体上,克服了单个纳米电极响应信号过小、易受干扰和难以操作等缺点,能极大地提高测量的灵敏度和可靠性,降低操作难度和测量成本。特别是作为人工组装的纳米结构体系,纳米阵列电极更能突出研究者的设计和创新理念。人们能够通过设计和组装实现对纳米阵列组成、结构和性能的有效控制。因而,纳米阵列电极自20 世纪80 年代诞生起就受到人们的普遍关注。迄今为止,人们已相继设计制作出如圆盘状、井状、叉指状、圆柱形、圆锥形、截锥形、球形和半球形等多种形状的纳米阵列电极,所用电极材料包括金属、半导体、高聚物和碳纳米管等多种材料。其在电化学分析、微型生物传感器、电催化和高能化学电源等领域已日益显示出广阔的应用前景。1、纳米阵列电极的制备方法1. 1 模板法模板法是选择具有纳米孔径的多孔材料作为模板,在模孔内合成纳米阵列,然后组装成纳米阵列电极。此方法通过调整模板的参数,可以实现对纳米电极结构和尺寸的有效控制。可采用纳米阵列孔洞膜做模板,通过电化学沉积法、溶胶一凝胶法、溶胶一凝胶一聚合法、化学气相沉积法等技术将纳米结构基元组装到模板孔洞中而形成纳米管或者纳米线的方法。常用的模板主要是有序孔洞阵列氧化铝模板(AAO)和含有孔洞有序分布的高分子模板。多孔阳极氧化铝模板是通过高纯铝片在适当温度的酸性溶液中阳极氧化制得。依阳极氧化时所加的氧化电压、电解液类型、电解温度及电解时间的不同,可得到不同孔径、孔深和孔间距的膜,这种膜是典型的具有纳米孔阵列的自组装微结构。Keller等在1953年报道了多孔阳极氧化铝的理想结构模型如图1所示,该模型指出多孔层是由许多六角柱形结构单元紧密有序地排列而构成的。Martin等在模板法制备纳米线方面做了开拓性工作,1989年他们在阳极氧化铝模板的孔道内合成了金纳米线,并研究了它的透光性能。此后,模板法得到了迅速发展。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509251646_567915_3043450_3.jpg图1 多孔阳极氧化铝的理想结构模型纳米阵列电极的模板法制作过程如图2所示,大致是先在通孔的模板膜的一面用各种方法覆盖一层金属。这层金属膜较厚是为了保证电极能覆盖所有的孔。然后将覆有金属的一面与导电基体接触或者直接将金属膜作为导电基体进行电沉积。通过溶解或部分溶解模板控制纳米线的长度,可得到不同类型的纳米阵列电极。如图2b为纳米孔阵列电极,图2c为纳米盘阵列电极,图2d、e为纳米线阵列电极。用化学沉积的方法填充模板时不需事先镀覆金属膜。例如,在金属已充满膜的纳米孔洞之后继续沉积,可在模板膜的两面均得到一层金属膜,去除其中的一层,另一层留作阵列电极的基体,则得到典型的纳米盘阵列电极。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509251646_567916_3043450_3.jpg图2 纳米阵列电极的模板法制作过程示意图1.2 刻蚀法刻蚀法是基于化学腐蚀或光化学反应,对材料进行加工的一种方法。在纳米阵列电极制备过程中,主要通过对电极覆盖层、阵列模板或电极材料进行加工,从而制备出各种立体形状的电极,是目前制备形状可控的纳米阵列电极较为有效的方法。目前主要的刻蚀方法有化学刻蚀法和光刻法。化学刻蚀操作简便,只要控制得当就能得到理想的纳米阵列电极。Crooks等报道了通过刻蚀覆盖在平面电极上的绝缘层来获得纳米孔阵列电极的方法。他们制得直径为60~80 nm 的Au (111) 有序凹进并且高度对称的六边形纳米阵列。具体做法是:选择一定面积的Au(111),其余部分用蜡覆盖,电化学方法纯化45 min 后,欠电位沉积单层铜;再将硫醇化学吸附在上层的铜上形成硫醇自组装层;最后在氰化物溶液中用化学刻蚀的方法扩大硫醇自组装层的缺陷,以制成凹进的Au (111) 纳米阵列电极。光刻法在制备有序带状纳米阵列电极方面具有特殊的优势。典型的制作过程如下:首先设计阵列的形状,采用气相沉积在绝缘基体上沉积厚度约为100 nm的薄层金属,再涂上一层光刻胶,然后在其上覆盖光刻模板,通过光照和选择性化学溶解得到阵列。Finot等采用电子束光刻及离子刻蚀的方法得到纳米插指阵列电极。其中单个插指电极的宽度为100 nm、电极间距离为200nm、电极面积为100 m×50 m,如图3所示。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2015/09/201509251646_567917_3043450_3.jpg图3 金插指阵列电极SEM图(1000×)1.3 自组装法自组装法通过非共价键之间的相互作用使纳米粒子聚合在一起,自发地在基底表面形成有序纳米结构薄层的一种方法,是近年来非常活跃的研究方法之一。在纳米阵列电极制备过程中,自组装层可作为电极反应的活性部分,也可作为惰性覆盖层。汪尔康等采用自下而上自组装法制成金纳米粒子阵列电极。他们首先将云母基体在巯基的作用下表面功能化,再将云母浸入到金胶溶液中,云母表面的硫醇基团将12 nm的金颗粒固定。不同的浸入时间获得的金阵列的密度不同,时间越长,得到的纳米金粒子阵列的密度越高。Radford等采用自组装法将氧化还原活性物质单层膜固定在以金为基体的单层十二烷基硫醇自组装膜上,制成纳米阵列电极。其中活性部分是固定在直链硫醇自组装层终端的氧化还原类物质,每个活泼的氧化还原分子相当于单个纳米电极。这种电极灵敏度高,可用来研究以氧化还原介质作电子传递媒介的生物大分子氧化还原反应机理。2、前人相关纳米阵列制备的研究高度取向的纳米阵列是以纳米颗粒、纳米线、纳米管为基本单元,采用物理和化学等方法在二维或三维空间构筑的纳米体系。高度取向的纳米阵列结构除具有一般纳米材料的性质外,它的量子效应突出,具有比无序的纳米材料更加优异的性能。纳米阵列结构很容易通过电、磁、光等外场实现对其性能的控制,从而使其成为设计纳米超微型器件的基础。目前,有序纳米结构材料已经在垂直磁记录、微电极束、光电元件、润滑、传感器、化学电源、多相催化等许多领域开始得到应用。2.1TiO2纳米管阵列的制备及其研究目前TiO2纳米管的制备方法主要有包括利用多孔氧化铝、有机聚合物和表面活性剂作为模板的模板合成法和利用TiO2纳米粉在碱性条件反应的水热合成法。其中最主要的方法是多孔氧化铝模板法和碱性条件下的水热合成法。在多孔氧化铝模板合成法中,通过调节工艺参数来控制,不同模板的孔径尺寸,可以制备出不同管径的纳米管,但难以合成直径较小的纳米管;而水热合成法虽然操作简单,且可以制得管径较小的纳米管,但纳米管的特征却严重依赖于颗粒的尺寸和晶相。同时这两种方法制备的纳米管是一种分散状态,不能直接固定在电极的表面。从高级氧化技术应用角度来看,TiO2固定薄膜比悬浮颗粒更为实用。美国科学家Grimes利用电化学阳极氧化的方法制备了TiO2纳米阵列材料,采用阳极氧化技术制备的TiO2纳米管分布均匀,以非常整齐的阵列形式均匀排列,纳米管与金属钛导电基底之间以肖特基势垒直接相连,结合牢固,不易被冲刷脱落。TiO2纳米阵列材料是制备工艺流程如表1所示。表1 TiO2纳米阵列材料是制备工艺流程 步 骤操 作 工 艺Ⅰ金属钛在含有F-的酸性电解质中迅速阳极溶解,阳极电流很大,并产生大量Ti4+离子(反应式(1))。接着Ti4+离子与介质中的含氧离子快速相互作用,并在Ti表面形成致密的TiO2薄膜,电流急剧降低(反应式(2))。Ⅱ多孔层的初始形成阶段,随着表面氧化层的形成,膜层承受的电场强度急剧增大,在氟离子和电场的共同作用下,在TjO2阻挡层发生局部蚀刻,形成许多不规则的微孔凹痕(反应式(3)),此时,电流呈轻微增大趋势。Ⅲ多孔膜的稳定生长阶段,电流完全由发生在阻挡层两侧的离子迁移提

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