熔融石英

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熔融石英相关的耗材

  • VICI的镀镍熔融石英管路
    镀镍熔融石英管拥有良好的惰性和较高的传热系数。在工艺上,首先我们在聚酰亚胺上镀熔融石英,然后在去除聚酰亚胺层的熔融石英管上镀镍。在高压应用中,建议搭配316型不锈钢压环。
  • 熔融石英管切割器
    熔融石英管切割器我们提供方便使用的铅笔形工具和一种陶瓷片,这些工具可以清理和很容易地切割熔融石英、玻璃及镀铝的毛细管柱。订货信息:说明部件号金刚石尖的柱切割器420-1000陶瓷片柱切割器,4/包5181-8836带有金刚石刀片的色谱柱切割器5183-4620更换金刚石刀片(用于5183-4620)5183-4621
  • VICI的熔融石英管路
    熔融石英管路可耐温350℃,耐压87000psi,因此是Micro-LC和Nano-LC的理想选择。管路具有良好的惰性,可用于有机溶剂,以及PH值在1到10之间的流体。为了保证管路的挠性和坚韧性,在熔融石英毛细管路外部均覆盖有聚合物涂层。

熔融石英相关的仪器

  • KEWLAB旗下熔融石英高精度反射镜均可根据您的需求添加镀膜,镀膜方式可选:1. 普通铝膜+保护2. 紫外反射铝膜+保护3. 银膜+保护4. 金膜+保护5. 介质膜@350~400nm6. 介质膜@400~800nm7. 介质膜@750~1250nm8. 介质膜@1200~1800nm 产品概述:材料:熔融石英表面面型:波长/10 @ 633 nm平行差:小于3分反射面光洁度:1级背面:细磨直径误差:+0.0/-0.1mm厚度公差:±0.2mm倒边:0.2mmX45°镀膜:详见KEWLAB产品列表 产品规格:图纸直径Dia (mm) 5厚度(mm)2KEWLAB为您提供更多不同尺寸紫外熔融石英高精度反射镜基底。
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  • 紫外熔融石英楔形激光窗口片”参数说明型号:紫外熔融石英楔形规格:2.0 - 16 μm商标:一博包装:纸箱Diameter Tolerance:+0.0 / -0.2 mm紫外熔融石英楔形激光窗口片”详细介绍特性30弧分楔形N-BK7或者UV熔融石英基底镀增透膜,中心波长在普通激光激发波长附近(范围为261 - 1100 nm)?1英寸窗口片,厚5.0 mm损伤阈值高(请参看下方了解细节)联系我们可定制尺寸QXKJ提供一系列两边都镀膜的楔形激光保护窗口片。这种楔形光学元件消除了条纹样式,避免了腔反馈。窗片可以保护激光输出不受环境影响方面,用于光束取样应用 。这些楔形窗口片镀有中心波长在普通激光波长附近的增透膜,并且损伤阈值很高,能为大多数工业和激光保护应用提供非常好的解决方案。我们还提供不同基底材料和镀膜选项的其它楔形窗口片。此外,可定制楔形窗口片的尺寸、厚度或楔形角度;更多详情请联系我公司技术。 Wedge Angle30 ± 10 arcminDiameter 1"Diameter Tolerance+0.0 / -0.2 mmClear Aperture≥22.86 mmThickness5.0 mmThickness Tolerance±0.4 mmSurface Flatnessa≤λ/20 Over Central ?10 mm ≤λ/10 Over Entire Clear ApertureSurface Quality10-5 Scratch-DigAR Coating Range261 - 266 nm350 - 450 nmReflectance over AR Coating Rangeb每个表面Ravg 0.5%;两面镀膜SubstrateUV Fused SilicacDamage Threshold2 J/cm2 (266 nm, 10 ns, 10 Hz, ?0.271 mm)10 J/cm2 (355 nm, 10 ns, 10 Hz, ?0.170 mm)
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  • 非球面镜 | 熔融石英(FusedSilica)优化设计波长的熔融石英材料的非球面镜,具有超低粗糙度Rq≤0.5nm的高端成品光学器件,完美匹配您的紫外应用!姓名:刘工(Pindy)电话:(微信同号)邮箱:非球面镜|熔融石英(FusedSilica)产品简介:非球面镜的形状经过优化,具有出色的成像特性。主要优势在于能够校正球面像差。使用非球面镜可以减少光学系统中的元件总数。这样,与基于球面透镜的同类系统相 比,其结构设计更加紧凑、功能更强大。德国Asphericon公司的StockOptics产品(库存标准产品)种类繁多,有包含精密抛光的非球面透镜、非球面柱面镜和锥透镜的丰富产品组合任您挑选。Asphericon特别推出的非球面镜、锥透镜、非球面柱面镜和已安装光学器件——得益于asphericon在高精度非球面镜制造领域的技术领跑者地位。质量优异、交付快速,可带来诸多受益。除此之外,Asphericon也可根据客户要求提供定制型非球面透镜。熔融石英透镜针对多种高功率激光应用进行了优化,例如,作为试验装置中的样机或作为光束聚焦或准直的标准组件。提供已安装光学器件形式的产品,具有更优粗糙度值,三种不同品质等级,可选7种不同的镀膜。UV级熔融石英透镜提供三种直径(12.5mm、25mm、50mm),并针对多种应用进行了优化,可作为测试设备中的原型或作为光束聚焦或准直的标准组件。这些非球面具有三种不同的质量等级、出色的粗糙度值、已安装的光学元件和 7 种不同的涂层,在紫外激光应用领域尤其令人信服。非球面镜|熔融石英(FusedSilica)主要优点:RMSi ≤ 0.02 μm的出色表面形状偏差具有超低粗糙度(Rq≤0.5 nm)的高端成品光学器件,优化散射 可提供7种标准镀膜(可根据要求定制镀膜)激光损伤阈值:12 J/cm2,100 Hz,6 ns,532 nm现货供应符合RoHS标准非球面镜|熔融石英(FusedSilica)产品特性:表面形状偏差(RMSi)[ μm ]≤0.02EFL容差[ % ]≤0.1表面缺陷[ 伤痕-亮点 ]20-20直径容差[ mm ]+0/-0.05中心厚度容差[ mm ]±0.05通光孔径[ % ]≥90AR膜UV镀膜A: RMAX1.0%, RAVG≤0.4%, 400-600 nm, AOI=0°K: R 0.25%, 355 nm, AOI=0°B: RMAX1.0%, RAVG≤0.4%, 600-1050 nm, AOI=0°L: R 0.25%, 532 nm, AOI=0°C: RMAX1.0%, RAVG≤0.4%, 1000-1600 nm, AOI=0°M: R 0.25%, 1064 nm, AOI=0°X: RMAX1.0%, RAVG≤0.4%, 240-380 nm, AOI=0 说明: 1、RMSi对应于ISO 10110-5(表面形状容差)。 2、对于AFL50-60、AFL50-80透镜,请考虑中心 厚度容差±0.1。 3、可根据要求提供定制镀膜。 4 、保护玻璃厚度为250 μm时的计算结果。StockOptics - 库存标准产品一、精密透镜系列表面形状偏差(RMSi)≤0.5 um波前RMS ≤235 nm产品代码?EFLNAf/dWD设计波长[ mm ][ mm ][ mm ][ nm ]AFL12-10-P12.5100.580.8335.7355AFL12-15-P12.5150.391.212.3285AFL12-20-P12.5200.291.617.3285AFL25-17-P25170.640.710.0355AFL25-20-P25200.560.812.6355AFL25-25-P25250.481.017.0285AFL25-30-P25300.391.223.3285AFL25-40-P25400.291.634.6285AFL25-50-P25500.232.045.1355AFL25-75-P25750.153.070.9355AFL25-100-P251000.114.096.3355AFL50-40-P50400.560.825.2355AFL50-50-P50500.481.037.0355AFL50-60-P50600.391.248.3285AFL50-80-P50800.291.670.6285AFL50-100-P501000.232.091.5355二、超精密度透镜系列表面形状偏差(RMSi)≤0.3 um波前RMS ≤140 nm产品代码?EFLNAf/dWD设计波长[ mm ][ mm ][ mm ][ nm ]AFL12-10-U12.5100.580.8335.7355AFL12-15-U12.5150.391.212.3285AFL12-20-U12.5200.291.617.3285AFL25-17-U25170.640.710.0355AFL25-20-U25200.560.812.6355AFL25-25-U25250.481.017.0285AFL25-30-U25300.391.223.3285AFL25-40-U25400.291.634.6285AFL25-50-U25500.232.045.1355AFL25-75-U25750.153.070.9355AFL25-100-U251000.114.096.3355AFL50-40-U50400.560.825.2355AFL50-50-U50500.481.037.0355AFL50-60-U50600.391.248.3285AFL50-80-U50800.291.670.6285AFL50-100-U501000.232.091.5355三、光束调谐透镜系列表面形状偏差(RMSi)≤0.02um波前RMS ≤10 nm表面粗糙度(Rq)≤0.5 nm产品代码?EFLNAf/dWD设计波长[ mm ][ mm ][ mm ][ nm ]AFL25-50-D25500.232.045.1355AFL25-75-D25750.153.070.9355AFL25-100-D251000.114.096.3355非球面镜|熔融石英(FusedSilica)生产能力:StockOptics - 库存标准产品定制非球面镜规格紫外级熔融石英规格标准 - 质量精度 - 质量高端精加工金刚石 - 车削直径12.5 - 50mm直径8 - 300mm4 - 250mm6 - 300mm1 - 420mm直径容差+0/-0.05mm直径容差± 0.10 mmNA0.11 - 0.64中心厚度2 - 60mm2 - 60mm60mm0.5mm 起f/d0.7 - 4.0中心厚度容差± 0.10 mm± 0.05 mm± 0.05 mm波长285nm, 355nmRMSi0.75 - 0.3μm0.09μm 0.015μm0.02 μmRMSi≤ 0.02μm表面缺陷60 - 4040 - 20对于? 2″,10–5;对于? 2″,20–10EFL容差≤ 0.1%表面粗糙度3nm15nm0.5nm1nm表面缺陷20 - 20全表面干涉测量可选可选保证保证中心厚度容差± 0.05mm镀膜客户特定通光孔径≥ 90%镀膜7种标准镀膜非球面镜|熔融石英(FusedSilica)主要应用:生命科学激光加工具有高成像品质的光学器件光束调谐/光束成形可优化照明(例如,在荧光显微镜检术中)用于分离波长的高精度抗反射、介电和滤光膜衍射受限光学系统紧凑型设计,具有非常高的成像效果光学器件、反射镜和强大的系统,可用于高激光功率精密光学表面的高端精加工高精度高斯-平顶转换光束整形器可提供所需光谱特性的镀膜,改善高能激光器的耐久性耐受严苛环境的光学器件/镀膜工业与机械工程成像与显示具有非常低的粗糙度值的透镜,高质量的聚焦光线并尽量减少散射具有高反射率和优异的长期稳定性的反射镜和反光镜耐热镀膜高性能自由曲面系统,具有小型化设计和优异的图像品质具有优异的成像特性的紫外、可见光、红外光学器件高端非球面镜,可提供优异的成像品质和高分辨率图像客户特定的反射镜紧凑型自由曲面镜,用于尺寸缩小的图像处理系统防反射膜或特定于波长的滤光膜高端精加工,以获得非常小的粗糙度值、更好的成像和入射光线聚焦效果汽车与航天工业安全保障解决方案具有优异的成像效果的耐高温、耐用光学器件高端精加工,粗糙度非常低可提供优异的图像、高清晰的视野且眩光很小的非常高品质的反射镜自由曲面系统,可有效传输辐射并缩小产品尺寸适用于复杂LIDAR解决方案的光学组件紧凑高效的光学设计尽可能地减少完整系统的尺寸和重量的光学设计光学器件坚固、耐用,可抵抗严苛环境(如,高温差异、 湿度或污染)Max. 5.1 μm的超硬溅射镀膜(抗反射)镀膜,提高光学元件质量可透射红外线的红外光学器件高精度热成像相机用光学器件
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  • 高纯度熔融石英圆筒等离子熔融工艺研究——真空度(压强)控制系统

    高纯度熔融石英圆筒等离子熔融工艺研究——真空度(压强)控制系统

    [color=#cc0000]摘要:等离子熔融工艺是目前国际上生产高纯度熔融石英玻璃圆筒最先进的工艺之一,在产品的低羟基浓度、低缺陷浓度、成品率、生产效率和节能环保等方面具有非常突出的优势。本文针对石英玻璃等离子熔融工艺成型设备,设计并提出了一种真空过程实现方案,可进行等离子加热过程中的炉内真空度(气压)实时控制和监测,以满足高纯度熔融石英等离子工艺过程中的不同需要。[/color][hr/][size=18px][color=#cc0000]1.简介[/color][/size] 等离子熔融工艺是目前生产透明和不透明熔融石英空心圆筒坯件最先进的工艺技术,通过此工艺可以一次完成高纯度熔融石英圆筒胚件的制造,在成品率、生产效率和节能环保等方面具有独到的优势。 在等离子熔融工艺过程中,将高纯石英砂注入到旋转炉中,依靠离心力控制成品尺寸。在熔融工艺过程中,旋转炉中的高纯保护气体使得电极间能够激发等离子电弧,所产生的等离子电弧使晶态石英砂熔化为熔融石英。 目前全球唯一采用此独特工艺生产熔融石英空心圆筒的厂家是德国昆希(Qsil)公司,如图 1所示,昆希公司使用这种独有的“一步法”等离子加热熔融工艺生产透明和不透明熔融石英空心圆筒(坯)。[align=center][img=,690,]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2020/10/202010262149468212_8828_3384_3.png!w690x438.jpg[/img][/align][align=center][color=#cc0000]图1. 德国昆希(Qsil)公司等离子熔融工艺石英玻璃成型设备[/color][/align] 熔融石英玻璃在生产过程中,熔融态的石英玻璃将发生极其复杂的气体交换现象,此时气体的平衡状态与加热温度、炉内气压、气体在各相中的分压及其在玻璃中的溶解、扩散速度有关。因此,为获得羟基浓度小于50ppm且总缺陷(直径小于20um的气泡和夹杂物)浓度小于50个/立方厘米的高纯度熔融石英玻璃锭,需要根据加热温度选择不同的气体和真空工艺。本文提出了一种真空工艺实现方案,可进行等离子加热过程中的炉内气压实时控制和监测,以满足高纯度熔融石英等离子熔融工艺过程中的各种不同需要。[size=18px][color=#cc0000]2.真空度(气压)控制和监测方案[/color][/size] 与等离子熔融工艺石英玻璃成型设备配套的真空系统框图如图 2所示,可实现成型设备加热桶内的真空度(气压)在0.1~700Torr范围内的精确控制,控制精度可达到±1%以内。 如图2所示,真空系统的设计采用了下游控制模式,也可根据具体工艺情况设计为上游和下游同时控制模式。整个真空系统主要包括气源、进气流量控制装置、真空度探测器、出气流量控制和真空泵等部分。[align=center][color=#cc0000][img=,690,]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2020/10/202010262150259848_5706_3384_3.png!w690x345.jpg[/img][/color][/align][align=center][color=#cc0000]图2. 真空系统框图[/color][/align] 来自不同气源的气体通过可控阀门形成单独或混合气体进入歧管,然后通过一组质量流量控制器和针阀来控制进入成型设备的气体流量,由此既能实现设备中的真空度快速控制和避免较大的过冲,又能有效节省某些较昂贵的惰性气体。 成型设备内真空度的形成主要靠真空泵抽取实现,抽取的工艺气体需要先经过滤装置进行处理后再经真空泵排出。 工艺气体的真空度(气压)通过两个不同量程的真空计来进行监测,由此来覆盖整个工艺过程中的真空度控制和测量。 真空度的精确控制采用了一组质量流量控制器、调节阀控制器和阀门,可以实现整个工艺过程中任意真空度设定点和变化斜率的准确控制。 整个真空系统内的传感器、装置以及阀门,采用计算机结合PLC进行数据采集并按照程序设定进行自动控制。[size=18px][color=#cc0000]3.说明[/color][/size] 上述真空系统方案仅为初步的设计框架,并不是一个成熟的技术实施方案,还需要结合实际工艺过程和参数的调试来对真空系统方案进行修改完善。 真空度控制与其他工程参数(如温度、流量等)控制一样,尽管普遍都采用PID控制技术,但对真空度控制而言,则对控制器的测量精度和PID控制算法有很高的要求,而进口配套的控制器往往无法达到满意要求。 另外,如在真空度控制过程中,真空容器中的真空度会发生改变,系统的时间常数 也随之改变,这意味着具有固定控制参数的控制器只能最佳地控制一个压力设定值。如果压力设定值改变,控制器的优化功能将不再得到保证。必须对控制参数进行新的调整,通常是手动进行。

  • CE熔融石英毛细管

    请问大家CE的分离柱就是熔融石英毛细管是在哪里买的?国产的和进口的效果怎样?价位如何?我想买75微米或者100微米内径的柱子。

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  • 港理工/港大/港城大《Nature Communications》:亚微米精度单光子3D打印熔融石英
    透明熔融石英玻璃作为一种不可或缺的重要材料,在现代社会中具备广泛应用价值。其卓越性能使得它在日常生活、科学和工业领域均发挥着重要作用。尽管熔融石英玻璃具备卓越的光学性能、热稳定性和化学耐久性等优异特点,但其高硬度和高脆性使得其可加工能性备受诟病。目前,传统熔融石英玻璃微结构制备工艺面临着流程复杂、成本高昂以及材料易碎等诸多挑战,并且在实现复杂三维(3D)结构方面仍然存在巨大困难。这给新型玻璃微纳米器件的开发、高效制造和在先进功能领域的应用带来了巨大的挑战。近年来,以3D打印/增材制造为代表的先进制造技术为玻璃加工行业带来了全新变革和重大突破。相较于传统的减材及等材成型工艺,这些新兴技术以数字设计和逐层累积为手段,成为赋予玻璃构件极高设计自由度和精确成型能力的强大工具,使得制造任意熔融石英玻璃三维结构成为可能。德国Karlsruhe理工学院科学家利用立体光刻(SLA)技术制备玻璃已取得重要突破(Nature, 2017, 544),成功实现了玻璃制品在质量、复杂度和精确度诸多方面的显著提升。这一里程碑式的进展也预示着通过3D打印技术制造具有出色光学性能的玻璃结构离普及更近了一步。随着时间的推移,全球范围内的研究者一直在不断努力提升玻璃打印技术的精确性。通过采用双光子飞秒激光直写(TPP-DIW)技术,实现了微纳米尺寸3D分辨率的玻璃结构的有效成形(Adv. Mater., 2021, 33)。然而,尽管立体光刻和双光子飞秒激光直写已分别实现了约50 μm和约100 nm的成型分辨率,并在宏观及纳观尺度上显著扩展了玻璃三维构件的应用领域,但由于3D打印技术在精度和效率方面存在固有矛盾,迄今为止,已有文献中报道的方法无法有效地制造出既具有毫米/厘米级尺寸又带有亚微米级特征的复杂玻璃三维结构。这一限制严重影响了该技术在微光学、微流控、微机械及微表面等先进领域上的应用。有鉴于此,香港理工大学3D打印中心温燮文教授联合香港大学机械工程系陆洋教授,在此前工作(Nat. Mater., 2021, 20, 1506)基础上更进一步,提出了一种通过摩方精密面投影微立体光刻(PμSL)3D打印技术制备同时具有亚微米特征及毫米/厘米级尺寸的熔融石英玻璃三维构件的方法。研究者选择了聚乙二醇功能化的二氧化硅纳米颗粒(平均直径~11.5 nm)胶体和两种丙烯酸酯作为聚合物前驱体,保证二氧化硅纳米颗粒良好的相容性和分散性。结合面投影微立体光刻3D打印灵活地创建具有复杂的三维亚微米结构的高性能透明熔融石英玻璃,其分辨率、构建速度及成型幅面均超越了目前大多数其他3D打印玻璃技术几个数量级。 图1:通过面投影微立体光刻3D打印所得透明熔融石英玻璃。(a)面投影微立体光刻3D打印示意图,呈现了打印所得熔融石英玻璃制成微缩维多利亚港的光学和电子显微镜图像。(b)复合纳米前驱体的各化学组分。(c)面投影微立体光刻3D打印透明熔融石英玻璃微透镜阵列在高温环境下展示了出色的稳定性。(d)4 × 6阵列的透明熔融石英玻璃蜂窝结构的光学和电子显微镜图像,其中央的细长悬线具有亚微米级别尺寸。(e)该方案所制备的熔融石英玻璃在分辨率及成型速度上的关系图,及与已报道的其他同类技术的比较。 图2:面投影微立体光刻3D打印所得具有多尺度临界特征的透明熔融石英玻璃多层级点阵。(a)多层级点阵结构;(b)多层级点阵网络;(c & d)单个多层级点阵胞元;(e)多层级架构;(f)基础点阵;(g & h)基础杆件及其具备的亚微米特征。尺寸跨度由mm逐步减少到nm,接近5个数量级。利用面投影微立体光刻3D打印透明熔融石英玻璃微透镜阵列,其具有亚纳米级别的表面粗糙度(Ra≈0.633 nm)。同时,研究者展示了通过3D打印制造的熔融石英玻璃微透镜阵列在成像方面的出色能力,具备优良的均匀性、清晰度、对比度和锐度。 图3:面投影微立体光刻3D打印的具有亚纳米级别表面粗糙度的熔融石英玻璃微透镜阵列。单个透镜的高精度光学显微镜图像,方框区域显示了白光干涉共聚焦显微镜测试结果,沿XY方向均能实现亚纳米级别表面粗糙度,以此制备高均匀性、高清晰度、高对比度和高锐度的微透镜阵列。面投影微立体光刻3D打印技术赋予了熔融石英玻璃微流体器件高精度、简化工艺、高直视性、大结构尺寸及复杂三维设计自由度,进一步展现出该器件出色的液滴/流体操控能力。 图4:面投影微立体光刻3D打印具备超疏水性能的仿生三维熔融石英玻璃微表面结构,以及具有Y型流道的免键合三维熔融石英玻璃微流控芯片。超疏水仿生三维熔融石英玻璃微表面展现了极佳的液滴黏附能力(即“花瓣效应”),即使在翻转180°后仍能牢固锁住液滴;在免键合Y型流道三维熔融石英玻璃微流控芯片,由于表面张力占主导,两种流体呈现了不互溶的“层流”现象。该工作进行于香港城市大学深圳研究院纳米制造实验室,相关成果以“One-photon Three-dimensional Printed Fused Silica Glass with Sub-micron Features”为题发表于国际期刊《自然通讯》(Nature Communications)上,课题组2020级博士研究生黎子永为该论文第一作者。在该研究中,熔融石英玻璃三维微纳样品由摩方精密2 μm精度的nanoArch® P130超高精密3D打印系统制备。相关技术已申请专利,后续将与摩方精密合作进行商业化应用。
  • 认识高频熔融制样
    摘要: 1、 熔融法制样的优点: 目前制样方法中有压片法和熔融法两种,而熔融法是世界公认的最先进的制样法。 压片法:将样品粉碎后,压成圆片,就可分析;制样时间短,5分钟可出报告。但因粒度效应、基体效应和矿物效应,分析精度低。 熔融法:将样品与硼化物熔剂在高温加热状态下发生化学反应,并使样品中各元素转化硼酸盐,得到均匀、平整、光洁、透明的玻璃片;并能减少粒度效应、基体效应和矿物效应,分析精度高。 2、 高频熔融制样 高频熔融制样是用高频感应加热方式进行熔融制样,与传统的熔融法相比,有节能、方便、环保、熔样质量高。 高频熔样样片 3、 高频熔融制样基本流程: 1)样品前处理: A、研磨粒度不超过200目。 B、在600&mdash 700℃温度下灼烧后,存于干燥器内。 2)称样:要求样品称量精度达到0.1毫克。 3)配方:不同的样品一定按照不同的配方方法。如: 铁矿石:矿样 /熔剂=1/20 铝土矿:矿样/熔剂=1/5 4)混合:必须要用玻璃棒混合均匀并立即置于干燥器中。 5)熔样:根据不同的矿样,设置相对应的温度(精度± 2℃)和时间(精度± 0.001秒)。 6)取片:不能触摸被测面,放于干燥器皿备用。 4、 高频熔样的适用以下行业: 1)矿业:矿石、精矿、粉尘、金属氧化膜、炉 渣等。 2)窑业:水泥、石灰石、白云石、玻璃、石英、粘土、耐火材料等。 3)钢铁工业:铁矿石、煤、转炉、高炉、电炉渣等。 4)有色工业:氧化铝、铝土矿、铜矿等。 5)化学工业:催化剂、聚合物等。 6)地质土壤:岩石、土壤。
  • 使用Avio ICP-OES对硼酸锂熔融地矿样品进行稳定分析
    地矿样品的分析由于其基体组成以及将样品转换为溶液的制备过程而颇具挑战。最常用的制备技术是锂熔融,熔融过程包括将样品与过量硼酸锂混合并加热,直至硼酸锂熔化并溶解样品形成均质物后,将得到的固体溶解在酸中进行分析。硼酸锂熔融样品因其含有高浓度的IA族元素,如锂 (Li)、钠 (Na) 和钾 (K) ,使得采用电感耦合等离子体发射光谱(ICP-OES)分析时遇到以下难点:雾化器和进样器内出现沉积物,导致信号漂移,测量结果不稳定。石英炬管很快变得不透明,测量结果的精密度受到很大影响。通过选择合适的样品导入组件,上述困难和挑战均可在珀金埃尔默 Avio ICP-OES 上得到圆满解决:采用配有Elegra™ 氩气加湿器的SeaSpray™ 雾化器来避免雾化器阻塞,并减少中心管头处沉积物形成。采用陶瓷炬管,同时使用1.2mm中心管以减少等离子体负载,减轻不透明现象。图1显示了锂熔融样品12.5小时分析过程中内标元素(钇)的回收率稳定在95~105%之间。图2显示了锂熔融样品12.5小时分析过程中Si、Al、Ca、Mg和Mn元素的回收率稳定在95~105%之间。另外,Avio ICP-OES的PlasmaShear™ 技术也有助于提高高盐基体样品分析的稳定性。该技术可产生空气流来切除等离子体尾焰(图3),避免基体沉积接口窗口。上述结果表明,Elegra™ 氩气加湿器与SeaSpray™ 雾化器、旋流雾室、细孔中心管和陶瓷炬管的联合使用,以及PlasmaShear™ 等离子体尾焰切割技术可以减少盐沉积,从而实现ICP-OES对高盐样品进行准确、稳定的分析。欲了解珀金埃尔默《采用 Avio ICP-OES 对偏硼酸锂熔融样品进行稳定分析》及Avio系列ICP-OES的详细内容,请扫描下方二维码即刻获取应用资料。更多详情请联系当地销售。
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