表面元素化学态

仪器简介：仪器名称：Zeta电位分析仪 研究对象：纤维、薄膜、粉末、粒子、固体金属或非金属片等材料。 主要用途：测量材料的表面电荷，了解材料表面上的电荷状况，研究材料表面性能。 主要应用：材料表面改性 材料表面黏附、吸附、脱附等 材料组成 材料亲水性与疏水性 材料洁净处理等 表面活性剂相互作用 SurPASS 3固体电运动分析仪/ 固体表面Zeta 电位仪帮助科研人员在化学与材料科学领域内改善和调整表面特性，设计新型、特定性质的材料，如聚合物、纺织、陶瓷、玻璃、或表面活性剂等。 通过测量宏观固体物表面的流动电流或流动电压（电势），SurPASS 3固体电运动分析仪给出了Zeta 电位这样一个重要的信息。 Zeta 电位是一种界面特性，这对于理解固体材料在很多工艺技术处理方面非常重要。Zeta 电位给出了固体表面电荷、吸附性质等的信息。 SurPASS 3 固体电运动分析仪/ 固体表面Zeta 电位仪拓展丰富了表界面分析知识。 SurPASS 3 固体电运动分析仪/ 固体表面Zeta 电位仪对不同形状和尺寸的固体及粉末材料均适用。 在表面分析中，固体表面 Zeta电位分析仪SurPASS 3基于流动电势和流动电流测量法，从而研究宏观固体表面 Zeta电位。 它可以提供有关表面电荷和相关性质的信息，并可检测表面性质中最微小的变化。 Zeta电位： 范围：所用测量原理决定没有限制再现性：+/-0.5 mV 等电点： 再现性：+/-0.1 pH 平板固体： 最小 35 mm x 15 mm，厚度20 mm， 20 mm x 10 mm，厚度2 mm， 直径为 14 mm 或 15 mm 的圆片 纤维： 最少重量 100 mg 粉末： 最小粒径 25 μm 膜和过滤材料 生物材料 半导体工业 纤维、织物和无纺布 化妆品和洗涤剂 矿物 针对各种形状的固体 各种不同的测量池适用于天然的和人造的纤维和织物、颗粒样品、粗颗粒和平板样品。 突破极限-流动奥妙 快速测量： Zeta电位测量少于2分钟 表面Zeta电位直接分析： 适用于实际样品，无需使用示踪颗粒 主要特点：测量原理 ： 在电化学双电流层的模型中，电荷分布形成固定层与可移动层。滑动层将这两层彼此分离。 Zeta 电位指定为在滑动层上固体表面与液相之间电势的衰减。电解质流动的外部力平行应用于固体与液体界面导致固定层与可移动层之间相对运动与电荷分离，由此得出实验的Zeta 电位。 流动电势的大小由液相的流动压差P决定。Zeta 电位即可定义为固体表面的固定层电荷与离子移动层之间的电势，相应的流动电势系数为dU/dP， Zeta 电位表示为： 固体表面特性，粘性，介电常数，电解质电导率K 等都影响Zeta 电位的大小。得出Zeta 电位值时，需要说明电解质溶液的类型，浓度，pH值。 稀释的电解质循环流经装有样品的测量池，由此产生一个压差，其电荷在电化学双电层中相对运动产生并增加流动电压，这个流动电压/ 流动电流（可选择）由置于样品两边的电极检测。SurPASS 3可同时测量出电解质的电导率，温度及pH值。

仪器简介：microCMA是一种俄歇光谱圆柱镜分析仪，专为许多不需要AES映射功能的俄歇分析应用而设计，这些应用包括以下分析：薄膜元素组成样品清洁度金属部件热氧化物轻元素表面薄膜的量化microCMA操作简单，易于维护，提供完整的定量表面敏感元素俄歇电子 （AES） 分析仪包，安装在 2.75“/70 mm CF 法兰上。对于元素分析，microCMA比独立的XPS系统便宜得多。完整的AES系统包括圆柱镜分析仪（带有集成的同轴电子枪），USB接口控制器以及Windows采集和数据软件。俄歇分析变得简单！基本配置：microCMA 分析仪、USB 接口控制器、带 15 英尺（4.6 米）电缆的前置放大器、数据采集软件以及手册。可选配件：XYZ转换器，9103 USB皮可安培计，CMA和前置放大器电缆的定制长度。独有的优异性能：紧凑的：适合 2.75“ / 70 mm CF 法兰（最小 1.52” / 38.6 mm 内径管）。现在只需一个分子泵和一个小型离子泵就可以建立一个俄歇光谱系统！成熟的设计：二阶聚焦提供了良好的透射率和分辨率。易于使用：USB控制和数据俄歇软件界面易于使用，使俄歇分析变得容易。功能强大：俄歇光谱（AES）是一种强大的表面敏感技术，可为您提供样品前几层单层的定量信息。microCMA的小直径使其能够安装在现有的沉积或分析室中。由于microCMA基于经典的圆柱形镜面分析仪设计，因此与较大的CMA相比，它具有相似的信噪比。基本上，microCMA收集的电子与较大的CMA相同 它只是收集靠近样品的电子。集成的 3 kV 电子枪简化了 CMA 与样品的对准。电子枪具有预热和调节等自动化功能。microCMA非常适合薄膜的元素表面分析和检查样品的清洁度CMapp Auger 软件提供对采集参数的全面控制，然后在采集后量化数据。应用说明和文章使用顺序表面反应在室温和 100 °C 下电子增强结晶氮化镓薄膜的生长 - Sprenger， Sun， Cavanagh， Roshko， Blanchard， George， 材料化学， U. Colorado - 2016具有二次电子噪声抑制功能的微型圆柱镜俄歇电子能量分析仪的设计与仿真 - Jay A. Bieber，南佛罗里达大学- 2017在室温和100°C-Sprenger，Sun，Cavanagh，Roshko，Blanchard，George - J Phys Chem C纳米界面下氮化硼薄膜的电子增强原子层沉积。科罗拉多大学 - 2018俄歇电子能谱与微同步辐射X射线光电子能谱研究Ba-Sc-O解吸对W（100）$-孟彩霞的影响， 李轶凡， 吴浩， 魏伟， 宁艳晓， 崔毅， 傅强， 包新和 - 物理化学 化学物理 - 2018开发和测试离子束分析的原位方法，用于使用AIMS诊断pdf测量托卡马克内部的高Z侵蚀 - Leigh A. Kesler，麻省理工学院 - 2019氧化气氛中Pt（111）上h-BN覆盖层的结构转变）$- Mroz， Kordesch， Sadowski， Tenney， Eads - 真空科学与技术杂志，B.布鲁克海文国家实验室 - 2020SO2在石墨烯上的吸附和反应动力学：超高真空表面科学研究$- Stach，Johnson，Stevens，Burghaus - 北达科他州真空科学与技术杂志 - 2021通过电子增强原子层沉积对钴膜进行低温沉积的空心阴极等离子体电子源- Sobell1，Cavanagh1，鲍里斯，沃尔顿，乔治 - 真空科学与技术杂志，美国科罗拉多州，海军研究实验室 - 2021

厂家正式授权代理商：岱美有限公司 联系电话：，（贾先生） 联系地址：北京市房山区启航国际3期5号楼801 公司网址：Subnano 轮廓仪??NanoX-2000/3000系列、3D光学干涉轮廓仪建立在移相干涉测量(PSI)、白光垂直扫描干涉测量(VSI)和单色光垂直扫描干涉测量(CSI)等技术的基础上，以其纳米级测量准确度和重复性(稳定性)定量地反映出被测件的表面粗糙度、表面轮廓、台阶高度、关键部位的尺寸及其形貌特征等。广泛应用于集成电路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技术、材料、太阳能电池技术等领域。产品参数： n 测量模式 移相干涉（PSI），白光垂直扫描干涉（VSI），单色光垂直扫描干涉（CSI）n 样 品 台 150mm/200mm/300mm样品台（可选配） XY平移：±25mm/150mm/200mm/300mm，倾斜：±5° 可选手动/电动样品台n CCD相机像素 标配：1280×960n 视场范围 560×750um（10×物镜） 具体视场范围取决于所配物镜及CCD相机n 光学系统 同轴照明无限远干涉成像系统n 光 源 高效LEDn Z方向聚焦 80mm手动聚焦（可选电动聚焦） n Z方向扫描范围 精密PZT扫描(可选择高精密机械扫描，拓展达10mm )n 纵向分辨率 ＜0.1nmn RMS重复性* 0.005nm，1σn 台阶测量** 准确度 ≤0.75％；重复性 ≤0.1%，1σn 横向分辨率 ≥0.35um（100倍物镜）n 检测速度 ≤ 35um/sec , 与所选的CCD和扫描模式有关 产品优势??美国硅谷研发的核心技术和系统软件??关键硬件采用美国、德国、日本等知名品牌??PI纳米移动平台及控制系统??Nikon干涉物镜??NI信号控制板和Labview64 控制软件??TMC光学隔振台??测量准确度重复性达到世界先进水平(中国计量科学研究院证书) 上海分公司地址: 上海市浦东金高路 2216 弄 35 号6 幢 306-308 室电话: ，卜先生: 东莞分公司地址: 东莞市南城街道宏六路一号国金大厦401室电话: ，唐女士： 北京分公司地址: 北京市房山区长阳镇启航国际3期5号楼801电话: ，贾先生: