扫描电镜原理

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扫描电镜原理相关的仪器

  • 国仪量子钨灯丝扫描电镜SEM2000钨灯丝扫描电镜SEM2000是一款基础款的多功能分析性钨灯丝扫描电镜。20kV分辨率可以做到3.9nm,支持升级30kV电压,可观察亚微级尺度样品的微观结构信息。拥有比台式电镜更大的移动范围,适用于快速筛选待测样品,更多的扩展接口,可搭载BSED、EDS等附件,使应用领域更广。产品特点简洁的操作界面纯中文的操作界面功能设计简单易操作。符合国人使用习惯,即使是新手用户,简单了解后也能快速上手。完善的自动化功能自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散,均可一键调节,提高工作效率。丰富的测量工具长度、面积、圆度、角度等测量功能强大的照片管理和预览、编辑功能。丰富的扩展性高灵敏度背散射探测器 多通道成像探测器设计精巧,灵敏度高,采用4分割设计,无需倾斜样品,可获得不同方向的阴影像以及成分分布图像。 二次电子成像和背散射电子成像对比 背散射电子成像模式下,荷电效应明显减弱,并且可以获得样品表面更多的成分信息。能谱金属夹杂物能谱面扫分析结果。电子背散射衍射钨灯丝电镜束流大,完全满足高分辨EBSD的测试需求,能够对金属、陶瓷、矿物等多晶材料进行晶体取向标定以及晶粒度大小等分析。该图为Ni金属标样的EBSD反极图,能够识别晶粒大小和取向,判断晶界和孪晶,对材料组织结构进行精确判断。应用案例产品参数
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  • 国仪量子钨灯丝扫描电镜SEM3300钨灯丝扫描电镜SEM3300SEM3300 是全新一代钨灯丝扫描电子显微镜,分辨率优于2.5nm。特殊的电子光路设计,突破钨灯丝分辨率极限,在低电压 1 kV 下,达到 5 nm 的分辨率。拥有出色的成像质量、在不同的视场范围下均可得到高分辨率图像。大景深,成像富有立体感。丰富的扩展性,助您在显微成像的世界中尽情探索。分辨率2.5 nm @20 kV4 nm @ 3 kV5 nm @ 1 kV放大倍率1~300,000x加速电压0.1 kV ~ 30 kV产品优势应用案例产品参数
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  • Thermo Scientific™ Quattro™ 扫描电镜将成像和分析的全面性能与独特的环境模式(ESEM)相结合,使得样品研究得以在自然状态下进行。如今,研究型实验室普遍要求现代的扫描电镜可以适应多种多样的样品分析需求,希望在获得出色的图像质量的同时尽可能简化样品制备过程。Quat t r o 的场发射枪(FEG)确保了优异的分辨率,通过不同的探测器选项,可以调节不同衬度信息,包括定向背散射、STEM 和阴极荧光信息。来自多个探测器和探测器分区的图像可以同步采集和显示,使得单次扫描即可获得各种样品信息,从而减低束敏感样品的束曝光并实现真正的动态实验。Quattro 的三种真空模式(高真空、低真空和 ESEM™ )使得系统极具灵活性,可以容纳任何 SEM 可用的最广泛的样品类型,包括放气或者是与真空状态不相容的样品。此外,ESEM™ 可以在现实世界的条件下对样品进行原位研究,例如湿/潮湿、热或反应性的环境。Quattro 的分析样品仓可以满足日益增长的样品元素信息及晶体结构分析需求,它同时支持相对的双能谱(EDS)探测器、共面能谱(EDS)/电子背散射衍射(EBSD)和平行束波谱(WDS)探测器。无论什么类型的样品,在高真空下或与 Quattro 支持的独特实验条件相结合,无论样品导电、绝缘、潮湿或是在高温条件下,均可获得可靠的分析结果。由于多用户设施要求大量操作人员都能获得所有相关数据,同时尽可能缩短培训时间,所以易用性是至关重要的。Quattro 独特的硬件由帮助功能(用户向导)支持,不仅可以指导操作者,还可以直接与显微镜进行交互。并且通过“撤消(Undo)”功能,鼓励新手用户进行实验,而专家用户可以轻松缩短结果获取时间。主要优势在自然状态下对材料进行原位研究:具有环境真空模式(ESEM)的独特高分辨率场发射扫描电镜最大程度缩短样品制备时间:低真空和环境真空技术可针对不导电和/或含水样品直接成像和分析,样品表面无荷电累积在各种操作模式下分析导电和不导电样品, 同步获取二次电子像和背散射电子像安装原位冷台、珀尔帖冷台和热台,可在-165°C 到 1400°C 温度范围内进行原位分析卓越的分析性能,样品仓可同时安装三个 EDS 探测器,其中两个 EDS端口分开 180°、 WDS 和共面 EDS/EBSD针对不导电样品的卓越分析性能:凭借“压差真空系统”实现低真空模式下的精确 EDS 和 EBSD 分析灵活、精确的优中心样品台,105°倾斜角度范围,可全方位观察样品 软件直观、简便易用,并配置用户向导及 Undo(撤销)功能,操作步骤更少,分析更快速全新创新选项,包括可伸缩 RGB 阴极荧光(CL)探测器、1100°C 高真空热台和 AutoScript(基于 Python 的脚本工具 API)
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扫描电镜原理相关的方案

扫描电镜原理相关的论坛

  • 扫描电镜的特点结构及工作原理

    扫描电镜的特点结构及工作原理扫描电子显微镜的设计思想和工作原理,早在1935年便已被提出来了。1942年,英国首先制成一台实验室用的扫描电镜,但由于成像的分辨率很差,照相时间太长,所以实用价值不大。经过各国科学工作者的努力,尤其是随着电子工业技术水平的不断发展,到1956年开始生产商品扫描电镜。近数十年来,扫描电镜已广泛地应用在生物学、医学、冶金学等学科的领域中,促进了各有关学科的发展。一.扫描电镜的特点和光学显微镜及透射电镜相比,扫描电镜具有以下特点:(一)能够直接观察样品表面的结构,样品的尺寸可大至120mm×80mm×50mm。(二)样品制备过程简单,不用切成薄片。(三)样品可以在样品室中作三度空间的平移和旋转,因此,可以从各种角度对样品进行观察。(四)景深大,图象富有立体感。扫描电镜的景深较光学显微镜大几百倍,比透射电镜大几十倍。(五)图象的放大范围广,分辨率也比较高。可放大十几倍到几十万倍,它基本上包括了从放大镜、光学显微镜直到透射电镜的放大范围。分辨率介于光学显微镜与透射电镜之间,可达3nm。(六)电子束对样品的损伤与污染程度较小。(七)在观察形貌的同时,还可利用从样品发出的其他信号作微区成分分析。

扫描电镜原理相关的耗材

  • 扫描电镜X射线源
    这款扫描电镜X射线源专门用于电子显微镜设计的X射线源,非常适合扫描电镜的XRF光谱分析,是理想的XRF射线源和X射线荧光光谱仪X射线源。 扫描电镜X射线源具有紧凑的设计和滑动安装功能,允许与样品非常接近。 取向在样品表面的小到大的激发区域产生高“通量”(x射线)。 扫描电镜X射线源?XSEMTM提供500μ至25mm的激发区域。 集成的高压电源最大功率为10瓦(35千伏和0.1毫安,取决于阳极材料)。 紧密耦合提供与传统“台式”或“独立”单元相当的XRF分析结果。扫描电镜X射线源?X SEMTM设计使其不影响电子显微镜的正常工作,包括在同一样品上使用电子束,同时同时收集所有元素。不需要特殊的冷却。 电子束(来自扫描电子显微镜)产生非常高的背景隐藏样品中的微量元素。 来自真正的“X射线”源的X射线没有这种效果。 使用扫描电镜X射线源?XSEMTM可以轻松识别,量化,甚至生成痕量X射线图,以查看样品中微量元素的元素分布。 应用: 艺术与考古 石油EDXRF 化学 药物应用 涂料和薄膜 塑料,聚合物和橡胶 化妆品 电镀和电镀浴 环境 木材处理应用 食品应用 其他应用 取证 金属和矿石 矿产和矿产品 ?X 规格 阳极类型 端窗传输 目标材料 Ag,Mo&W 加速电压 10-35kV 光束电流 0-100μA 阳极点尺寸 500μm 准直器尺寸 200μm,500μm,1000μm(其他可选) 源过滤器 可应要求提供 冷却要求 传导冷却,不需要风扇 控制/安全 可变控制kV /μA,X射线开/关按钮,kV /μA显示。 连接到SEM,键控上电开关,集成高压电源,HV-On灯,警示灯
  • 扫描电镜磁性样品台
    磁性样品扫描电镜(SEM)观察不可或缺的工具!通过密封磁性物质,避免电镜部件被污染,实现磁性原始状态下的高分辨成像和成分分析。磁性样品SEM效果图产品原理 超薄窗采用半导体工艺制造,表面经处理后,可具亲水性、疏水性或双性兼具,以满足不同的应用需求;分析时,所观察的样品自动紧贴超薄窗,从而能获得最佳的图像分辨率。液体样品池集成了微流体、高精密探针、防泄漏设计,液体样品池可控制、监控微环境状态。通过计算流体动力学模拟优化,获得最佳微流体传输模型。采用特殊的机械设计,提高使用效率,1分钟内即可完成样品安装。产品性能适用性好。适用于FEI、JEOL、Hitachi、ZEISS、TESCAN、Phenom等品牌各种型号的扫描电镜,亦可用于光镜/荧光显微镜的原位观察。 使用简便采用特殊的机械设计,样品安装1分钟内完成。可灵活定制可将样品置于晶圆或生物芯片上进行原位观察。分辨率高最高放大倍率可达20万倍,可清晰观察小至10nm的颗粒。
  • 扫描电镜专用场发射电子源9213915
    场发射电子源9213915/9217251,这两个灯丝的外形一样,适用的扫描电镜型号不同,需要了解扫描电镜的具体型号。场发射扫描电子显微镜其实它是电子显微镜的一种,扫描电镜是介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观形貌观察手段,可直接利用样品表面材料的物质性能进行微观成像。广泛用于生物学、医学、金属材料、高分子材料、化工原料、地质矿物、商品检验、产品生产质量控制、宝石鉴定、考古和文物鉴定及公安刑侦物证分析。可以观察和检测非均相有机材料、无机材料及在上述微米、纳米级样品的表面特征。优点:1、有较高的放大倍数,20-30万倍之间连续可调;2、有很大的景深,视野大,成像富有立体感,可直接观察各种试样凹凸不平表面的细微结构;3、试样制备简单,目前的扫描电镜都配有X射线能谱仪(EDS)装置,这样可以同时进行显微组织形貌的观察和微区成分分析。大束科技是一家以自主技术驱动的电子显微镜系列核心配件研发制造的供应商和技术服务商。目前公司主要生产电子显微镜的核心配件离子源、电子源以及配套耗材抑制极、拔出极、光阑等销往国内外市场,此外,还为用户提供定制化电子显微镜以及电子枪系统等的维修服务,以及其他技术服务和产品升级等一站式、全方位的支持。在场发射电子源(电子显微镜灯丝)、离子源以及电镜上的高低压电源、电镜控制系统研发制造等领域等均具有优势。

扫描电镜原理相关的资料

扫描电镜原理相关的资讯

  • 直播预告|扫描电镜的原理及参数选择
    直播预告|扫描电镜的原理及参数选择【8月13日下午14:00直播】“扫描电镜的技术及原理”网络研讨会莱雷科技与善时仪器联合举办【会议分享内容】主要围绕“扫描电镜的技术和原理”,结合实际案例跟大家分享扫描电镜的原理,参数选择,制样方法等内容。导师:曾凌飞—善时仪器市场部总监【1】扫描电镜技术的发展历程【2】扫描电镜的特点、工作原理及优势【3】扫描电镜的参数选择、制样方法和主要应用方向微信扫描下方二维码,8月13日下午14点线上与您不见不散!
  • ​直播预告|扫描电镜的原理及制样方法
    直播预告|扫描电镜的原理及制样方法【8月13日下午14:00直播】“扫描电镜的原理及制样方法”网络研讨会莱雷科技与善时仪器联合举办导师:曾凌飞—善时仪器市场部总监【技术背景介绍】 扫描电子显微镜的英文全称为Scanning Electron Microscope,简称扫描电镜或者SEM,是一种用于放大并观察物体表面结构的电子光学仪器。扫描电镜由镜筒、电子信号的收集和处理系统、电子信号的显示和记录系统、真空系统和电源系统等组成,具有放大倍数可调范围宽、图像分辨率高和景深大等特点。该产品结构设计简洁,高低压真空设计,可调试电压,为不同样品提供更合适的检测环境。 由于扫描电镜具有观察纳米材料、材料端口分析、直接观察原始表面等特点和功能,所以越来越多受到科研人员的重视,用途日益广泛。现已被广泛用于材料科学、冶金、生物学、医学、半导体材料与器件、地质勘探、病虫害的防治、灾害鉴定、宝石鉴定、工业生产中的产品质量鉴定及生产工艺控制等。 莱雷科技与善时仪器联合举办的“扫描电镜的技术及原理”网络研讨会将于8月13日下午14:00点开播。届时莱雷科技将邀请善时仪器技术中心总监在线与您分享扫描电镜的参数选择及制样方法等内容。此次网络会议为参会者提供一个突破时间地域限制的免费学习、交流平台,让大家足不出户便能聆听到精彩报告。微信扫描下方二维码,立即加入观看!
  • 今日抽奖:《集成电路材料基因组技术》+《扫描电镜和能谱仪的原理与实用分析技术》
    仪器信息网2023年10月18-20举办第四届“半导体材料与器件分析检测技术与应用”主题网络研讨会,围绕光电材料与器件、第三代半导体材料与器件、传感器与MEMS、半导体产业配套原材料等热点材料、器件和材料分析、可靠性测试、失效分析、缺陷检测和量测等热点分析检测技术,为国内广大半导体材料与器件研究、应用及检测的相关工作者提供一个突破时间地域限制的免费学习平台,让大家足不出户便能聆听到相关专家的精彩报告。为答谢广大用户,本次大会每个专场都设有一轮抽奖送专业图书活动。今日抽取的专业图书是《集成电路材料基因组技术》和《扫描电镜和能谱仪的原理与实用分析技术》。一、主办单位:仪器信息网&电子工业出版社二、会议时间:2023年10月18-20日三、会议日程第四届“半导体材料器件分析检测技术与应用”主题网络研讨会时间专场名称10月18日全天半导体材料分析技术新进展10月19日可靠性测试和失效分析技术可靠性测试和失效分析技术(赛宝实验室专场)10月20日上午缺陷检测与量测技术四、“半导体材料分析技术新进展”日程时间报告题目演讲嘉宾专场:半导体材料分析技术新进展(10月18日)专场主持人:汪正(中国科学院上海硅酸盐研究所 研究员)9:30等离子体质谱在半导体用高纯材料的分析研究汪正(中国科学院上海硅酸盐研究所 研究员)10:00有机半导体材料的质谱分析技术王昊阳(中国科学院上海有机化学研究所 高级工程师)10:30牛津仪器显微分析技术在半导体中的应用进展马岚(牛津仪器科技(上海)有限公司 应用工程师)11:00透射电子显微镜在氮化物半导体结构解析中的应用王涛(北京大学 高级工程师)11:30集成电路材料国产化面临的性能检测需求桂娟(上海集成电路材料研究院 工程师)午休14:00离子色谱在高纯材料分析中的应用李青(中国科学院上海硅酸盐研究所 助理研究员)14:30拉曼光谱在半导体晶圆质量检测中的应用刘争晖(中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 教授级高级工程师)15:00半导体—离子色谱检测解决方案王一臣(青岛盛瀚色谱技术有限公司 产品经理)15:30宽禁带半导体色心的能量束直写制备及光谱表征徐宗伟(天津大学精密测试技术及仪器国家重点实验室 教授)16:00专业图书介绍及抽奖送书王天跃(电子工业出版社电子信息分社 编辑)五、参会方式本次会议免费参会,参会报名请点击:https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/icsmd2023/ 或扫描二维码报名
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