真空环境波前分析仪

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真空环境波前分析仪相关的厂商

  • 锶泰斯(上海)分析仪器有限公司致力于探索色谱样品特殊的前处理解决方案Explore Chromatography Sample Special preTreatment Solution锶泰斯(上海)分析仪器有限公司是一家集硬件开发与软件开发于一体的实验室智能化设备综合服务供应商。我司独立的机械设计、软件开发、销售与售后服务团队,具有丰富的软件与硬件开发及非标定制化经验, 目前基于CTC进样平台整合:天平、离心机、超声萃取、在线过滤、在线移液、涡旋混匀、加热振荡、磁力加热搅拌、自动分液识别模块、仪器状态手机APP追踪系统、液体进样、顶空、固相微萃取、箭形固相微萃取、动态顶空、吹扫捕集、热脱附、在线真空浓缩、在线GPC、在线SPE、QuEChERS、液质高通量进样、液质低残留进样等。兼容安捷伦/热电/岛津/PE/沃特世/布鲁克/天美/AB/LECO等主流品牌仪器。锶泰斯在样品前处理及自动化的领域努力钻研,累积了完备的专业知识与宝贵的解决经验。我们矢言在既有的基础上继续努力,以不负各界的厚爱,并期能为国内的科技服务提升,略尽绵薄之力!
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  • 博山同业分析仪器厂是研制、开发、生产分析仪器的专业厂家。产品已广泛应用于电力、石油、化工、农药、医药等行业。我厂本着“质量第一,用户至上”的宗旨,以高新技术为产业支柱,善于学习,勇于创新,按现代企业制度规范企业行为,始终遵守“品质至上,至诚至信”的信念,致力于中国分析仪器的发展。凭借自身优势,建立具有核心竞争力和持续发展力的新型企业。在这里汇集了高素质的科技人才,具有较强的技术力量,有着强烈的追求信念,不断为客户提供高品质的产品。 企业按规范化、合理化、标准化、科学严谨的管理手段,使产品质量有一套完善的控制程序。我们视质量为生命、信誉为市场、力尽完美、全心负责。因此我们的产品每时每刻都在进取。 同业仪器愿与各界人士通力合作,相互信任,共创伟业!
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  • 400-827-8086
    上海仪真分析仪器有限公司(仪真分析)是专业从事于仪器研发、生产、销售、服务于一体的现代化企业,为环境监测、食品安全、石油化工、地质调查、能源材料和临床检测等分析实验室提供样品前处理到分析测试全方位解决方案。仪真分析拥有一流的由多位留学博士、硕士和具备专业技能的技术开发及服务团队,为中国客户提供多方位的技术服务。我们致力于市场研究与应用开发,将世界领先的分析技术及行业标准与中国发展相结合,开发出本土化的解决方案。我们的解决方案包括:水质及土壤烷基汞全自动分析系统重金属湿法消解全自动石墨消解平台挥发性有机物全自动水土吹扫捕集系统全自动LC-GC二维在线检测食品中矿物油全自动食品中新型污染物监测平台对3-氯丙醇酯、缩水甘油酯、塑化剂、二噁英等实现样品前处理和检测ICP-MS仪器高端进样器及激光剥蚀系统基于XRF的便携式、实验室及在线石油化工产品的元素分析水质及土壤合规监测常规参数的全自动分析系统环境空气/固定污染源、土壤水质,氢气杂质,臭氧消耗层物质/温室气体和食品安全/风味领域VOCs的分析检测等公司的管理理念、研发实力、销售网络和技术支持得到多个全球仪器生产商的广泛认可。仪真分析得到知名仪器公司Brooks Rand Inc., Seal Analytical,Entech,Spark Holland , Axel Semrau , LCTech , XOS , Teledyne Cetac 等公司在大中国区的独家授权,做为其增值供应商,负责集成与中国分析应用相关的仪器以及整体解决方案。 目前公司总部设在上海,在香港,北京设有办事处,为国内广大客户提供优质的服务,位于上海的实验室,为国内广大客户提供专业的全自动检测应用方案及培训基地。
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真空环境波前分析仪相关的仪器

  • 法国Phasics推出真空环境兼容波前分析仪SID4-V 为满足广大客户在真空环境中对激光光束质量,气流,等离子体密度测量分析,以及光学系统装配的需求。法国phasics推出了新型高精度波前分析仪sid4-v,是目前市场上仅有一款可应用于真空度在10-6 mbar环境中的波前分析仪,广泛应用于高功率激光测试中。产品特点:可适用于>10-6mbar真空环境高分辨率160×120相位像素光谱范围从400 nm到1100 nm可测量发散光束热和机械真空不改变测试结果真空循环下无任何性能下降真空和常压下均可使用 产品参数:真空相容性10-6mbar波长范围400 - 1100 nm通光孔径3.6 x 4.8 mm2空间分辨率29.6 μm采样点(相位/强度)160 x 120 ( 19 000 points)相位相对灵敏度 2 nm rms相位精度10 nm rms动态范围 100 μm采样频率 100 fps实时分析频率 10 fps (full resolution)数据接口giga ethernet尺寸(w x h x l)54 x 46 x 75.3 mm重量~250 g关于phasics:法国phasics公司自主研发的波前传感器是基于其专利的四波横向剪切干涉技术。相较传统的夏克-哈特曼波前探测器具有高分辨率、消色差、高灵敏度、高动态检测范围、操作简便等独特的优势。为波前像差、波前畸变的检测以及激光光束及波前的测量、分析等提供了全新的解决方案。 法国phasics波前传感器生产厂家具有雄厚的技术研发实力,能为客户提供的各种自适应光学系统oa-sys,制定个性化解决方案。可根据客户的应用需求。波前分析仪主要应用领域:1. 激光光束参数测量:相位(2d/3d),m2,束腰位置,直径,泽尼克/勒让德系数2. 自适应光学:焦斑优化,光束整形3. 元器件表面质量分析:表面质量(rms,ptv,wfe),曲率半径4. 光学系统质量分析:mtf, psf, efl, 泽尼克系数, 光学镜头/系统质量控制5. 热成像分析,等离子体特征分析6. 生物应用:蛋白质等组织定量相位成像SID4 V VacuumPhasics is innovating by proposing the first off-the-shelf vacuum compatible wavefront sensor on the market. The SID4 Vis designed to perform wavefront measurements under high vacuum. the wavefront measurement is realized in-situ in the same condition as the experiment. Our new SID4 V vacuum wavefront sensor is also used to characterize laser beams after compression inside the compressor vessel. Finally, gas jet and plasma density are now measured as close to the target as possible.BENEFITS: With Phasics’s unique strategy it’s now possible to correct the aberrations of every single optical element up to the target location inside the vacuum chamber.Key FeaturesVACUUM COMPATIBLE & HIGH RESOLUTION | DESIGNED FOR VACUUM DOWN TO 10-6 mbarVacuum compatibility 10-6 mbarHigh resolution 160 x 120 phase pixelsSpectral range from 400 nm to 1100 nmDiverging beam compatibleInvariant to thermal and mechanical vacuum constraintsTolerates vacuum-cycles without any performance decreaseBoth functional under vacuum and atmospheric pressureLow outgassing SpecificationsVacuum compatibility 10-6 mbarWavelength range400 - 1100 nmAperture dimension4.73 x 3.55 mm2maximum NA (optional software necessary)0.2Spatial resolution29.6 μmPhase & intensity sampling160 x 120Accuracy15 nm RMSResolution (Phase)2 nm RMSAcquisition rate60 fpsReal-time processing frequency7 Hz (full resolution)InterfaceGiga EthernetMTBF 10 yearsDimensions (w x h x l)54 x 46 x 75.3 mmWeight~ 250 g SID4 Density softwareIntroductionSID4 DENSITY software package supports the whole process to measure gas and plasma electron density. It calculates density maps from phase acquisition. It also offers various options for acquisition and data analysis.SpecificationsWORKING CONDITIONSApplicationAny axisymmetric monoatomic gas jet/plasma for inverse-Abel transform analysisProbe sourceWhite light (halogen), LED, laser or fs-laserPressureFrom 2 to 300 barsPlasma lengthDepends on the imaging system (typically 2 mm long and diameter of 0.2 mm)SOFTWAREAcquisitionReal Time, programmed, triggerSettingsWavelength, magnification, jet direction, gas typeAnalysisDensity map & profiles, Symmetrization, filtersPerformances such as the spatial resolution or the density resolution entirely depend on both the optical set-up (imaging system, probe source) and the injected gas (molar refractivity). Please contact us for an estimation of specifications for your set-up. As an example, for an laser produced plasma using an Argon gas jet at working pressure between 2 and 300 bars, the lowest measured Argon density in a single shot is: 1017 particles/cm3 with a nozzle of 1.5 mm diameter.
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  • PHASICS波前分析仪/波前传感器/波前相差仪/波前探测器关键词:分析仪,PHASICS波前分析仪,波前传感器,波前像差仪、传感器、波前测试仪、波前探测器、激光波前分析仪、哈特曼波前分析仪、虹膜定位、哈特曼波前传感器、波前象差、高分辨率波前分析仪、波前测量仪、激光光束及波前分析仪、夏克 哈特曼、镜头MTF法国PHASICS公司自主研发的波前传感器是基于四波横向剪切干涉技术。SID4系列波前分析相较传统的夏克-哈特曼波前探测器具有高分辨率、消色差、高灵敏度、高动态检测范围、操作简单等独特的优势。为波前像差、波前畸变的检测以及激光光束及波前的测量、分析,眼科虹膜定位波前像差引导等提供了全新的解决方案!PHASICS波前探测器配套的软件界面友好,可直观的输出高分辨率相位图和光束强度分布图。 法国PHASICS波前传感器生产厂家具有雄厚的技术研发实力,能为客户提供的各种自适应光学系统OA-SYS(Adaptive Optics Loops),制定个性化解决方案。可根据客户的应用需求,为客户推荐最合适的SID4波前传感器、可变形镜或空间光调制器、自适应光学系统操作软件等。图1 波前校正前与校正后对比 PHASICS波前探测器依据其四波横向剪切干涉专利技术,对哈特曼掩模技术进行了大的升级、改进。PHASICS波前传感器将400X300的超高分辨率和500um的超大动态范围完美结合在了一起。可以满足不同的客户的应用需求,可对激光光束进行光强、位相、PSF(点扩散函数)、MTF(调制传递函数)、OTF(光学传递函数)、波前像差、M^2等进行实时、简便、快速的测量。 第一部 产品介绍 SID4 UV-HR高分辨紫外波前传感器PHASICS公司将 SID4的波前测量波长范围扩展到190nm-400nm。SID4 UV-HR是一款适用于紫外波段的高分辨率波前传感器,非常适用于光学元件测量(例如印刷、半导体等等)和表面检测(半导体晶片检测等)。特点:u 高分辨率(250x250)u 通光孔径大(8.0mmx8.0mm)u 覆盖紫外光谱u 灵敏度高(0.5um)u 优化信噪比 图2 SID4-UV波前分析仪 SID4 波前传感器可用于400nm-1000nm 的激光的波前位相、强度分布,波前像差,激光的M2,泽尼克参数等进行实时的测量及参数输出。特点:? 波长范围:400-1100nm? 分辨率高(160x120) ? 消色差 ? 测量稳定性高 ? 对震动不敏感 ? 操作简单 ? 结构紧凑,体积小 ? 可用笔记本电脑控制 图3 SID4位相检测 SID4-HR 波前相差仪可用于检测各种透镜,光学系统的检测,可以对透镜、光学系统的进行实时的PSF(点扩散函数)、MTF(调制传递函数)、OTF(光学传递函数)、波前像差测量及参数输出。相对于传统的透镜检测设备像:传函仪、干涉仪,具有操作简便,测量精度高,参数输出方便等优点,正在被越来越多的客户推崇。特点:u 波长范围:400-1100nmu 高性能的相机,信噪比高u 实时测量,立即给出整个物体表面的信息(120000个测量点)u 曝光时间极短,保证动态物体测量u 操作简单 图4 SID4-HR图5 SID4-HR传递函数检测 SID4 NIR 波前分析仪主要针对1550 nm(1.5um-1.6um)激光的检测,具有分辨率高高灵敏度、高动态范围、操作简便等独特的优势。可用于光学测量,SID4 NIR是测量红外物体和红外透镜像差、PSF、MTF和焦距及表面质量的理想工具。特点:2 高分辨率(160x120) 2 快速测量 2 性价比高 2 绝对测量 2 对振动不敏感 图6 SID4 NIR激光波前检测 SID4 DWIR 波前仪具有宽波段测量的特点。可以实时的检测3-5um 和8-14um的波前位相,强度分布等响应的波前信息。可以很好的满足红外波段客户的波前检测需求。特点:u 光学测量:SID4 DWIR是测量红外物体特性(热成像和安全视觉)或红外透镜(CO2激光器)的理想工具,输出结果包括MTF,PSF,像差,表面质量和透镜焦距。 u 光束测量:(CO2激光器,红外OPO激光光源等等)SID4 DWIR提供详尽的光束特性参数:像差,M2,光强分布,光束特性等u 高分辨率(96x72) u 可实现绝对测量u 可覆盖中红外和远红外波段 大数值孔径测量,无需额外中转透镜 u 快速测量 对振动不敏感 u 可实现离轴测量 u 性价比高 图7 SID4 DWIR SID4产品型号参数汇总型号SID4SID4-HRSID4 UV-HRSID4 NIRSID4 DWIRSID4-SWIR孔径尺寸(mm2)3.6 x4.88.9 x11.88.0 x8.03.6x4.813.44x10.089.6x7.68空间分辨率(um)29.629.63229.6140120测量点数160x120300x400250x250160x12096x7280X64波长范围350-1100 nm350-1100 nm190-400 nm1.5-1.6μm3-5μm 8-14μm0.9- 1.7μm精准度10nm RMS10nm RMS10nm RMS15nm RMS75nm RMS10nm RMS动态范围100μm500μm200um100μm/~100μm采样速度60 fps10 fps30 fps60 fps50 fps60fps处理速度10fps3 fps1fps10fps20 Hz10Hz 第二部 SID4波前分析仪控制软件 SID4波前分析仪控制软件SID4波前分析仪控制软件与SID4 波前传感器配套提供的是一款完整的分析软件,其集成了高分辨率的相位图与强度分布图,测量光强分布和波前信息。借助Labview和C++ 可编程模块数据库(软件二次开发工具包),客户能够根据自身的需要编写各种相位测量与编译模块。Adaptive Optics Loops将SID4 Wavefront Sensor结合您的应用,选配合适的可变形镜或相位调制器,提供整套的自适应光学系统。减小任何一个光学系统的相差从来都不是简单的,我们的产品能为激光光束和成像系统带来更可靠,高精度的解决方案。图8 SID4控制界面SID4光学测量软件KaleoPhasics基于剪切干涉的波前传感器与专门设计的光学测量软件Kaleo结合,可以测量球面镜和非球面镜的像差及MTF等信息。只需要几秒钟,我们的仪器为您呈现绝大部分的光学参数,如焦距,光腰,MTF,像差,Zernike系数,曲率半径,PSF等。 第三部 SID4波前分析仪与传统哈特曼波前分析仪比较 与传统哈特曼波前传感器测量结果对比: 技术参数对比:PHASICSShack-Hartmann区别技术剪切干涉微透镜阵列PHASICS投放市场时,已经申请技术专利,是对夏克-哈特曼技术的升级重建方式傅里叶变换分区或模式法夏克-哈特曼波前探测器,局域导数以微透镜单元区域的平均值来近似,误差大强度对强度变化不敏感对强度变化灵敏PHASICS测量精度高,波前测量不依赖于强度水平校准用针孔校准、方便快捷安装困难,需要精密的调节台PHASICS使用方便取样点SID4-HR达300X400测量点128X128测量点(多个微透镜)PHASICS具有更高的分辨率数值孔径NA:0.5NA:0.1PHASICS动态范围更高分辨率29.6μm115μmPHASICS具有更高的空间分辨率测量精度2nm RMS5nm RMSPHASICS更好的测量精度获取频率60fps30fpsPHASICS获取速度快处理频率10Hz30HzPHASICS可满足大部分处理要求消色差无需对每个波长进行校准需要在每个波长处校正PHASICS更灵活,可以测试宽波段,而不需要校准 第四部 应用领域 ? 激光、天文、显微、眼科等复杂自适应光学系统波前像差检测? 激光光束性能、波前像差、M^2、强度等的检测? 红外、近红外探测? 平行光管/望远镜系统的检测与装调? 卫星遥感成像、生物成像、热成像领域? 球面、非球面光学元器件检测 (平面, 球面, 透镜)? 虹膜定位像差引导? 大口径高精度光学元器件检测? 激光通信领域? 航空航天领域OKO 可变形镜数字波前分析仪XY系列向列液晶空间光调制器XY系列铁电液晶空间光调制器
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  • 波前分析仪CLAS-2D 400-860-5168转1980
    美国LUMETRICS公司自主研发的CLAS-2DTM系列波前分析仪(CLAS-2D™ , CLAS-XP™ , CLAS-HP™ , CLAS- NearIR-320™ , CLAS-NearIR-640™ )能够快速、简单、准确的测量激光光束的波前相位参数,例如波前倾斜,峰谷误差,均方根波前误差,像散,球差,聚焦误差/准直。LUMETRICS公司的波前分析仪是集四波横向剪切干涉仪,光束质量分析仪,自准直仪和四象限探测器为一体的快速、紧凑型波前分析仪器。运用独特的算法能够精确测量三个波段的波前参数:300nm -1100 nm, 1100nm - 1700nm和8 um- 9.2 um。另外, 美国LUMETRICS波前传感器生产厂家具有雄厚的技术研发实力,能为客户提供的各种自适应光学系统OA-SYS(Adaptive Optics Loops),制定个性化解决方案。可根据客户的应用需求,为客户推荐最合适的波前传感器、可变形镜或空间光调制器、自适应光学系统操作软件等。波前分析仪产品特点:CLAS-2DTM系列波前分析仪具有高分辨率、消色差、高灵敏度、高动态检测范围、操作简便等独特的优势。为波前像差、波前畸变的检测以及激光光束及波前的测量、分析,眼科虹膜定位波前像差引导等提供了全新的解决方案!LUMETRICS波前探测器配套的软件界面友好,可直观的输出高分辨率相位图和光束强度分布图。波前分析仪应用范围:? 激光、天文、显微、眼科等复杂自适应光学系统波前像差检测? 激光光束性能、波前像差、M2、强度等的检测? 红外、近红外探测? 平行光管/望远镜系统的检测与装调? 卫星遥感成像、生物成像、热成像领域? 球面、非球面光学元器件检测 (平面, 球面, 透镜)? 虹膜定位像差引导? 大口径高精度光学元器件检测? 激光通信领域? 航空航天领域 CLAS-2DTM产品型号汇总 COMPLETE CLAS-XP System型号81000-0081000-4681000-4781000-4881000-4981000-50焦距(mm)2.02.0474.758.1915.4825.08灵敏度λ/30λ/30λ/50λ/100λ/150λ/200动态范围120λ120λ80λ60λ40λ30λ透镜尺寸(mm)0.0720.0720.1080.1440.1980.252透镜阵列102*102102*10268*6851*5137*3729*29 COMPLETE CLAS-HP System型号81000-2081000-2181000-2381000-24焦距(mm)4.987.7819.9229.62灵敏度λ/100λ/150λ/200λ/250动态范围211λ169λ105λ115λ透镜尺寸(mm)0.1120.1400.2240.280透镜阵列128*128102*10264*6451*51 COMPLETE CLAS-Near IR 320 System型号81000-3281000-3381000-3481000-3581000-3681000-27焦距(mm)25.6936.9911.4417.8725.749.3灵敏度λ/83λ/100λ/46λ/58λ/70λ/50动态范围44λ37λ78λ63λ53λ55λ透镜尺寸(mm)0.4000.4800.3200.4000.4800.225透镜阵列24*1920*1630*2424*1920*1671*56
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  • 谁来挑战我,一款您不可错过的波前传感器
    〖导读〗目前,国际通用的波前传感器主要是四波横向剪切干涉类型的波前传感器,这款波前传感器采用的是国际名企--法国Phasics的专利技术,并在实际应用中得到广大科研工作者的一致认可! 四波横向剪切干涉类型的波前传感器采用的是法国Phasics对传统的夏克-哈特曼波前传感器的改进的专利技术: 四波横向剪切干涉和夏克-哈特曼技术的区别:PHASICS:SID4SH区别技术四波横向剪切干涉夏克-哈特曼是对夏克-哈特曼技术的改进,PHASICS全球售出超过300个探测器。强度采用傅里叶变换方法,测量对强度变化不敏感由于需要测量焦点位置,测量对强度变化灵敏关于测量精度,波前测量不依赖于强度水平。使用方便界面直观,利用针孔进行对准安装困难,需要精密的调节台SID4 产品使用方便。取样SID4-HR达300x400测量点64x6测量点(微透镜数量)SID4-HR具有很高的分辨率。这使得测量更可靠,也更稳定。数值孔径 NA:0.5NA:0.1SID4-HR动态范围更高。空间分辨率29.6μm115μmSID4-HR具有更好的空间分辨率。重复性2nm RMSλ/200( 5nm @1053 nm)更好的重复率,更稳定。获取频率10fps7.5fps分析速度快照明SID4的技术可以消色差。系统对不同波长和带宽响应一致。无需对每个波长进行校准。夏克-哈特曼技术基于微透镜,其特性依赖于波长(由于玻璃色散)。仪器需要对每个波长校正。PHASICS更灵活:可以测试宽波段,而不需要额外校准。Phasics波前传感器与传统哈特曼波前传感器测量结果对比: Phasics公司波前传感器具有高分辨率、消色差测量 、高动态范围 、高灵敏度、设计简洁紧凑、高性价比、测量可重复性高等优良特性 ,可广泛应用于光传输变换中波前特性分析中。谁来挑战我,法国Phasics公司的波前传感器,一款您不可错过的波前传感器:为了能让广大科研工作者更加直观的了解法国Phasics公司的波前传感器,我们瞬渺团队将出席4月14-16日在南京展览中心举办的---2017年中国(南京)国际教育装备暨科教技术展览会。届时,将展出该款波前传感器,瞬渺团队的技术工程师和销售精英亲临现场,为广大科研工作者全面解析法国Phasics公司的波前传感器!瞬渺团队对于瞬渺人来说,客户的支持是对我们团队最大的认可,面对日益激烈的国内市场,瞬渺将一直秉持客户为先的团队理念,为广大科研工作者带来专业的技术和售后支持!2017年4月14-16日,瞬渺团队将亲临南京-展览中心381展位(靠近交流会一区),届时,欢迎您前来咨询!
  • 波前检测技术和晶体加工技术取得重要进展
    日前,中科院高能所多学科中心光学团队基于北京同步辐射装置BSRF和晶体实验室实现了衍射极限水平的波前检测和晶体加工技术。高能同步辐射光源HEPS光束线建设的又一项关键技术取得了突破性进展。大块硅单晶体是硬X射线单色器及谱仪的核心光学元件,而晶体的表面形貌起伏、加工破坏层和晶格应力等诸多因素都会对X射线波前产生严重影响,从而破坏相干性和衍射极限聚焦。对于前几代同步光源,由于光束相干尺寸小,即使是高相干要求的纳米探针或者相干散射束线,也只要求晶体能够挑选出较小的局部范围保持波前即可。而作为衍射极限水平的第四代同步辐射光源,HEPS的相干尺寸较三代光源高出约2个量级,要求全光束范围里获得完美波前,这对晶体的加工能力提出了严峻的挑战,是国际上第四代光源共同面临的技术挑战之一。该团队在X射线晶体实验室已开发的晶体加工工序基础上,通过引入一种新的柔性化学机械抛光方法,实现了全光束口径近厘米范围内超高精度波前保持的晶体加工。同时,该团队还创新性地提出了双刃波前检测的方法,解决了相干性不足、稳定性不足以及入射波前畸变几项关键问题,在第一代同步辐射光源上实现了衍射极限水平的波前检测,为波前保持的晶体加工工艺探索提供了高精度检测手段。2022年7月BSRF专用光期间,该团队在1B3B测试束线上,验证了自研双刃波前检测装置的性能,并利用该装置以日本进口国际前沿水平的“晶格无扰乱”晶体作为参照样品,开展了自研晶体和参照晶体的波前检测对比实验。结果显示,在晶体上50μm横向空间分辨率下,该装置的单次扫描斜率检测精度达到25~50 nrad RMS,波前高度检测精度高达1.5pm RMS;自研晶体波前精度达到60~100 nrad RMS,与参照样品(70~100 nrad RMS)基本处于同一水平,满足HEPS光束线指标要求。团队成员承担PAPS光学系统、HEPS测试束线和光学设计系统等多个项目任务。接下来,团队还将进一步优化实验条件,提升波前检测能力,完善晶体加工工艺。图1 晶体双刃波前检测实验图2双刃法单次扫描波前检测误差25.8nrad 1.5 pm RMS图3 自研柔性化学机械抛光晶体,波前精度61.7nrad 6.0pm RMS图4 日本进口“晶格无扰乱”晶体,波前精度73.2nrad 7.8pm RMS图5 团队现场合影
  • 波前检测技术和晶体加工技术取得重要进展
    日前,中科院高能所多学科中心光学团队基于北京同步辐射装置BSRF和晶体实验室实现了衍射极限水平的波前检测和晶体加工技术。高能同步辐射光源HEPS光束线建设的又一项关键技术取得了突破性进展。大块硅单晶体是硬X射线单色器及谱仪的核心光学元件,而晶体的表面形貌起伏、加工破坏层和晶格应力等诸多因素都会对X射线波前产生严重影响,从而破坏相干性和衍射极限聚焦。对于前几代同步光源,由于光束相干尺寸小,即使是高相干要求的纳米探针或者相干散射束线,也只要求晶体能够挑选出较小的局部范围保持波前即可。而作为衍射极限水平的第四代同步辐射光源,HEPS的相干尺寸较三代光源高出约2个量级,要求全光束范围里获得完美波前,这对晶体的加工能力提出了严峻的挑战,是国际上第四代光源共同面临的技术挑战之一。该团队在X射线晶体实验室已开发的晶体加工工序基础上,通过引入一种新的柔性化学机械抛光方法,实现了全光束口径近厘米范围内超高精度波前保持的晶体加工。同时,该团队还创新性地提出了双刃波前检测的方法,解决了相干性不足、稳定性不足以及入射波前畸变几项关键问题,在第一代同步辐射光源上实现了衍射极限水平的波前检测,为波前保持的晶体加工工艺探索提供了高精度检测手段。2022年7月BSRF专用光期间,该团队在1B3B测试束线上,验证了自研双刃波前检测装置的性能,并利用该装置以日本进口国际前沿水平的“晶格无扰乱”晶体作为参照样品,开展了自研晶体和参照晶体的波前检测对比实验。结果显示,在晶体上50μm横向空间分辨率下,该装置的单次扫描斜率检测精度达到25~50 nrad RMS,波前高度检测精度高达1.5pm RMS;自研晶体波前精度达到60~100 nrad RMS,与参照样品(70~100 nrad RMS)基本处于同一水平,满足HEPS光束线指标要求。团队成员承担PAPS光学系统、HEPS测试束线和光学设计系统等多个项目任务。接下来,团队还将进一步优化实验条件,提升波前检测能力,完善晶体加工工艺。图1 晶体双刃波前检测实验图2双刃法单次扫描波前检测误差25.8nrad 1.5 pm RMS图3 自研柔性化学机械抛光晶体,波前精度61.7nrad 6.0pm RMS图4 日本进口“晶格无扰乱”晶体,波前精度73.2nrad 7.8pm RMS图5 团队现场合影

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  • 【分享】激光粒度分析仪

    [size=6][b]激光粒度分析仪[/b][/size]   光在传播中,波前受到与波长尺度相当的隙孔或颗粒的限制,以受限波前处各元波为源的发射在空间干涉而产生衍射和散射,衍射和散射的光能的空间(角度)分布与光波波长和隙孔或颗粒的尺度有关。用激光做光源,光为波长一定的单色光后,衍射和散射的光能的空间(角度)分布就只与粒径有关。对颗粒群的衍射,各颗粒级的多少决定着对应各特定角处获得的光能量的大小,各特定角光能量在总光能量中的比例,应反映着各颗粒级的分布丰度。按照这一思路可建立表征粒度级丰度与各特定角处获取的光能量的数学物理模型,进而研制仪器,测量光能,由特定角度测得的光能与总光能的比较推出颗粒群相应粒径级的丰度比例量。

  • 【原创】微波前处理技术应对消费品安全改进法案(H.R.4040)

    近期中国玩具业大规模召回事件屡次发生,据悉,2007年美国CPSC共召回88起,数量约1800 万件的我国产含铅超标产品,2008年8月14日签署了《2008消费品安全改进法案》(H.R. 4040),其中明确规定了儿童产品中铅和邻苯二甲酸酯的含量要求,这一方案的实施成为玩具出口新壁垒,中国玩具业应如何面对?答案毫无疑问关键是加强自身产品的检测力度,建立良好的内部监控系统,实现简便、快速、精确的定量分析铅与邻苯二甲酸酯具有非常重要的实际意义。 基于此,公司协同合作实验室和部分客户对玩具类产品中铅和邻苯二甲酸酯进行了微波前处理和后续分析检测的研究。用微波消解处理玩具类样品用于铅的测定,根据样品的性质我们实验了HCl、 HNO[sub]3[/sub]、 HF、H[sub]2[/sub]O[sub]2[/sub] 等多种酸消解体系考察对玩具类样品的消解情况,并摸索出了一套优化的实验方案,该方法的平均回收率为93.6%-108.3%,RSD为1.9%-4.5%。用微波萃取处理玩具类样品用于邻苯二甲酸酯的测定,对萃取溶剂、微波萃取时间和微波萃取温度选做了考察,摸索出了优化的实验方案,该方法平均回收率为91.6%-103.3%,RSD为2.5%-4.8%。以上实验皆取得了满意的结果,满足企业及检测机构的要求。

真空环境波前分析仪相关的耗材

  • 波前分析仪系统配件
    波前分析仪系统配件受机械噪声和振动的影响小,可以分析宽范围内的波长,也可以测量连续波,飞秒级的脉冲辐射,是实时测量的。可以用来测量波长、光束强度同时估算光束质量。该传感器(分析仪)可以轻易地置入自适应光学系统中使用!波前分析仪测量结果显示:桌面: PV, RMS. 以泽尼克表示的波前像差系数最高是36和赛德尔像差(倾斜、离焦、像散、彗差、球面)。 激光束表征参数。 图形窗口: Hartmannogram图像。 各种相位和光束强度(灰度或调色板)的3D,2D图形分布图,合成的条纹和梯度映射图根据获得的数据改变。 光束的点扩展函数表示聚焦中的光强分布。 不同类型的光束孔径(圆形,椭圆,矩形,多边形)。 对齐选项。 报告以多种格式储存,可以打印图像。 软件具有用户友好型图形界面,界面上有菜单,热键和帮助项。波前分析仪应用: 科学研究中心,教育和研究实验室。 生产激光系统和激光机床的工业企业或商务公司。 制造业,使用激光辐射为工具用在不同技术领域,特别是必须要精确控制光束的应用 研究光学测试设备的制造业。 医疗和诊断中心。 范例,该照片显示了11WFS是如何置入自适应光学系统(AOS)。AOS是为了校正波前像差。入射光束从第一平面反射,然后从可变形反射镜发射,穿过分离器。一部分光束到达11WFS和另一部分穿过输出孔。 波前分析仪配件: 光学接口:调整系统,让光束准直可达100 mm。 固定支架上是中性密度滤光器(30%,1%,0.1%,直径25mm,光学质量是λ/ 10)。 平面参考波前源(准直器,一个波长的光纤耦合激光器,固定支架)。 STANDA公司的线路板和机械工具。波前分析仪规格 波长范围, mm 400...1100 传感器的孔径(布局), mm 1/3"(1/2") - 4.5x2.8 (6.4x4.8) 相机分辨率 744х480 pixels(1 / 3“相机的基础版本) 微透镜阵列参数, (间距,mm-焦距,mm)0.15 - 6(基础版本) 微透镜数 30x18 (42x32) 帧速率 60 Hz 波前精度 波长/ 10 波前动态倾斜范围 波长*50 尺寸 55 x 55 x 70 mm
  • 横向剪切波前分析仪
    所属类别:? 光学/激光测量设备 ?波前分析仪所属品牌:法国Phasics公司Phasics公司的所有产品都是建立于其波前测量专利技术之上,即4波横向剪切干涉技术。(4-Wave Lateral Shearing Interferometry)。在增强型改进型哈特曼掩模的基础之上,这种独特技术将超高分辨率和超大动态范围完美结合在了一起。任何应用下,其都能实现全面、简便、快速的测量。SID4: 一款紧凑型的波前传感器SID4波前传感器体积小巧,结合了传统的剪切干涉的优势,安装使用简单。我们的优势在于4波横向剪切干涉技术(基于改善后的哈特曼衍射遮挡板)。SID4是测量光束特性的必要工具,在光学测量方面有着许多应用。波长范围:350-1100nm分辨率高(160*120)消色差测量稳定性高对震动不敏感操作简单,Firewire IEEE 1394结构紧凑,体积小:可用笔记本电脑控制操作简单,Firewire IEEE 1394结构紧凑,体积小:可用笔记本电脑控制SID4 HR:高分辨率波前传感器SID4-高分辨率波前传感器可应用于光学测量领域。其可实现300x400个测量点的相位图,保证了高精度测量,可用于对各种光学器件的测量,如透镜,物镜,球面镜,微透镜特征测量等波长范围:400-1000nm高性能的相机,信噪比高实时测量,立即给出整个物体表面的信息(120000个测量点)曝光时间极短保证动态物体测量SID4 HR操作简单SID4 UV-HR: 高分辨紫外波前传感器PHASICS公司将 SID4的波前测量波长范围从190nm到400nm。SID UV-HR是一款适用于紫外波段的高分辨率波前传感器SID4 UV-HR非常适用于光学元件测量(例如印刷、半导体等等)和表面检测(半导体晶片检测…)。高分辨率(250*250)通光孔径大(8.0mm*8.0mm)覆盖紫外光谱灵敏度高(0.5um)优化信噪比SID4 NIR: 高分辨率红外波前传感器SID4 NIR是一款覆盖近红外范围(1.5um-1.6um)的高分辨率波前传感器。用于光学测量,SID4 NIR是测量红外物体和红外透镜像差、PSF、MTF和焦距及表面质量的理想工具。高分辨率(160*120)绝对测量快速测量对于振动不敏感性价比高SID4 DWIR: 高分辨、双波段红外波前传感器PHASICS推出了业界第一款高分辨率双波段红外波前传感器(from 3 μm to 5 μm and from 8 μm to 14 μm)SID4 DWIR光学测量:SID4 DWIR是测量红外物体特性(热成像和安全视觉)或红外透镜(CO2激光器)的理想工具,输出结果包括MTF,PSF,像差,表面质量和透镜焦距。光束测量:(CO2激光器,红外OPO激光光源等等)SID4 DWIR提供详尽的光束特性参数:像差,M2,光强分布,光束特性等)高分辨率(96*72)可实现绝对测量可覆盖中红外和远红外波段大数值孔径测量,无需额外中转透镜快速测量对振动不敏感可实现离轴测量性价比高 SID4软件介绍与SID4 波前传感器配套提供的是一款完整的电磁场分析软件,其集成了高分辨率的相位图与强度分布图测量光强分布和波前。借助Labview和C++ 可编程模块数据库(软件二次开发工具包),客户能够根据自身的需要编写各种相位测量与编译模块。adaptiveoptics loops将SID4 wavefront sensor结合自适应光学,选择最合适的应用。应为可变形镜和相位调制器都是可以提供的。减小任何一个光学系统的相差从来都不是简单的,利于激光光束和成像系统。传统的测量结果与Phasics的测量结果对比:
  • 分析仪器/样品前处理/微波消解仪
    仪器简介本产品属于“微波样品处理系统”,是国家科技部“十五”科技攻关项目。产品在汲取国外先进技术的基础上,采用变频技术、工业级大炉腔设计,特别是在防爆安全技术方面有所创新(专利)。仪器研发背景微波样品处理方法是近三十年发展起来的处理技术,称为“微波强化学”。将样品和相应的试剂放置于高温高压密闭样品罐或敞口容器中,在微波的作用下,按照一定的实验方法,使样品和试剂发生快速、激烈的物理、化学反应。另外微波有机合成也以其绝对的应用优势将取代传统的合成方法。越来越多的实验室采用了微波样品处理系统来替代耗时、费力、污染严重的传统方法。仪器特性☆消解速度快、样品消解彻底微波增强化学技术消解速度快,比一般电热板方法快10-100倍;采用变频微波加热系统,加热更均匀,同时采用高压密封罐,样品消解更彻底,大大减少了易挥发元素的损失。☆ 温控精确,利于样品的准确分析1)采用内置的Pt100铂电阻进行精确的测温控制,实时监控高达300℃的温度,温控精度为±0.5℃;2)微波消解使用试剂少,减少了样品的空白值和背景;3)同批次处理样品的平行性、重复性好。☆ 采用变频技术,节能环保的效果显著1)通过PID控制改变微波频率来调整不同的输出功率,提高电源部分的效率,减少了待机时的耗量,比传统微波消解节电20%以上。另外,变频技术的引进也减小了仪器的工作噪音;2)整个消解过程在密闭条件下进行,酸试剂不会污染环境,有利于环境保护和人身健康;同时比传统方式节能80%左右。☆ 独特的“大炉腔”设计1)“45L大炉腔”设计,炉体厚重坚固,与国际先进 产品同步,高压工作更安全,同批次处理样品更多(多大10个);2)炉腔内设有排风扇,外接排烟管,风速:5.8m3/min;3)炉腔中设有样品罐架,由光控可逆电机控制,可逆向360°旋转转盘,使样品罐接收微波能更加均匀,确保各个样品罐温度的一致;4)炉腔喷涂采用美国杜邦生产的专利材料PFA(全氟烷氧基乙烯),耐工业强酸,抗高温。☆ 优良的压力控制系统1)采用直接接触式压力测量方式,压力反映真实、准确,实时监控达900psi,控制精度:0.01MPa;2)高压密闭水管检测系统压力,反馈控制,过压报警;3)安全膜片保护压力分别为中压200psi,高压400psi☆ 安全保障,六重措施1)三项主动措施,确保危险情况不会发生:安全可靠的控制系统,具有斜率控制功能,防止升压或者升温过冲;真正实现了温度和压力在同一罐中双重控制,差异小,安全可靠;罐内压力超过设定的保护值会自动停止微波加热。2)三项被动措施,极端情况下确保人身不受伤害,财物损失最小化:样品罐上安装安全防爆膜,过压时先行破裂,卸压防爆,并可以防止样品罐受损;特殊平移结构的自锁式安全防爆门(专利);控制部分与消解炉体为一体式和分体式两种结构,可为客户提供多种选择。技术指标型号MD7型MD6系列微波频率(MHz)2450±132450±13电源要求AC220V/50Hz/10AAC220V/50Hz/10A输出功率(W)14001200功率范围0~100%PID自动连续调整0~100%PID自动连续调整炉膛容积(L)4545外形尺寸W×D×H(mm)640×640×710490×610×610炉重(Kg)5848控温范围0-300°C0-300°C控温精度±0.5°C±0.5°C控压范围(MPa)0-100-8控压精度(MPa)0.010.01炉腔喷涂材料6重进口PFA喷涂,耐工业强酸,耐高温6重进口PFA喷涂,耐工业强酸,耐高温排风量5.8m3/min,快速排酸雾,快速降温5.8m3/min,快速排酸雾,快速降温炉门平移泄压专利门,二次防爆功能专利号:ZL 200420032536平移泄压门,二次防爆功能微波泄漏≤0.3m w/cm2,(远低于国标)≤0.3m w/cm2,(远低于国标)配备高压消解罐外罐:PEEK罐(进口原料,耐压达10Mpa);内罐:TFM(进口原料,耐高温,防酸碱和有机溶剂)容量:100ml外罐:PEEK罐(进口原料,耐压达10Mpa);内罐:TFM(进口原料,耐高温,防酸碱和有机溶剂)容量:85ml控制系统一体化触摸屏控制系统可选A、C、T型控制器应用范围可应用于消解、萃取、蛋白质水解等多种分析化学的样品前处理工作中,如原子吸收光谱仪(AAS)、原子荧光光谱仪(AFS)、电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-AES)、电感耦合等离子体质谱联用仪(ICP-MS)、高效液相色谱仪(HPLC)、气相色谱仪(GC)等分析仪器的样品制备等前处理过程。
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