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【网络讲座】:机械减薄+离子减薄制备透射电镜样品介绍【讲座时间】:2016年05月10日 14:00【主讲人】:李旭,中国计量科学研究院纳米新材料所。【会议简介】近年来,材料领域的透射电镜制样设备推陈出新,制样方法也随之越来越先进、高效。但是,对于薄膜/基体截面样品、金属样品、陶瓷样品、剪切带定点样品等制备难度较大的样品,如何使用这些先进的设备,快速制备出高质量的透射电镜样品,需要正确地使用制样设备,需要摸索一些技巧,需要不断积累经验。在此分享一些经验和体会。-------------------------------------------------------------------------------1、报名条件:只要您是仪器网注册用户均可报名,通过审核后即可参会。2、报名截止时间:2016年05月10日 13:303、报名参会:http://www.instrument.com.cn/webinar/meeting/meetingInsidePage/19294、报名及参会咨询:QQ群—171692483http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/01/201701191700_667332_2507958_3.gif
利用氩离子研磨技术制备完美EBSD样品http://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09504.gifhttp://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09502.gifhttp://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09501.gif微电子材料样品在做失效分析扫描电镜图像拍摄之前,需要准确研磨到目标位置,尽可能的避免样品研磨面的应力损伤和污染,以便获得清晰的样品断面形貌,或进行元素定性定量分析等。本次讲座介绍如何机械研磨、离子束切割抛光方式和超薄切片方式制备扫描电镜样品。徕卡精研一体机TXP可以对样品进行精确定位研磨,高效率的处理以往难以制备的样品。徕卡三离子束切割抛光仪TIC3X可对样品进行无应力损伤和无磨料污染的氩离子束切割抛光,确保样品适合高倍率扫描电镜图像观察,或这EBS和EBSD分析。徕卡超薄切片机UC7是利用钻石刀对样品进行精细准确切割,非常适合于铜、铝和高分子膜层的截面制备。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2017/04/201704241054_01_1785258_3.jpg时间:2017-06-30 14:00 讲师:林初诚 讲师简介中国科学院上海硅酸研究所测试中心工程师,长期从事测试工作,对SEM,EDS,EBSD及相关制样技术有深入研究。在样品测试方面有丰富经验,可以根据不同需求制备各种高难度样品协助研究。报名链接:http://www.instrument.com.cn/webinar/meeting/meetingInsidePage/2579http://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09507.gifhttp://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09510.gifhttp://simg.instrument.com.cn/bbs/images/default/em09504.gif
大家有没有透射电镜薄膜样品制备的几种方法(真空蒸发法,溶液凝固法,离子轰击减薄法,超薄切片法,金属薄膜样品的植被)的图片啊,我急用。最好是今天就要,谢谢各位了。4月4日。