四电弧高温单晶生长炉

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四电弧高温单晶生长炉相关的厂商

  • 江西科泰新材料有限公司占地近30亩,总投资近5000万元,内设新材料研究中心一处,分析检测中心一处,生产线若干条,大型仓储中心一处。公司在职材料科学教授6名,博士10人,硕士若干名。成立以来为国内外客户不断研发、生产各种新型材料及制品。我们开发的太阳能电池薄膜材料,热电薄膜材料,半导体化合物材料,高纯金属,高纯稀土金属,功能合金,各种磁控溅射靶材,真空镀膜材料等得到客户的好评和肯定,广销世界各地。目前自有的生产设备主要有真空中频感应熔炼炉,冷坩埚悬浮熔炼炉,非自耗真空电弧炉,真空高温加热炉,真空烧结炉,真空蒸馏炉,区域熔炼熔炉,多温区加热炉,单晶炉,真空热压炉,高温烧结炉,冷压成型机,真空锻轧设备,车床,磨床,铣床,钻床,冲床,线切割等各种材料成型及机械加工设备。 主要产品有各种溅射靶材,蒸发镀膜料,半导体化合物,高纯金属,蒸馏稀土金属,还原稀土金属,稀土合金,中间合金,高纯化合物等。稀土靶材,氧化铌靶材,二硫化钼靶材,钪铝合金,硫化物靶材,碲化物靶材,氧化物靶材,TaSi2靶材
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  • 洛阳西格马炉业高温电炉有限公司,成立于1999年1月18日,资金1068万元,位于洛阳市张衡街牡丹大道交叉口,拥有8000m2标准化厂房,1500m2超高温工程技术研发中心大楼,1500m2行政和营销中心大楼,是一家集研发、制造、营销服务为一体的综合性高新技术企业。公司专业从事各种类型箱式电阻炉、管式电阻炉、真空气氛式电阻炉、超高温电阻炉、钟罩炉等实验电炉和工业电炉的研发制造,公司拥有专业的研发队伍、先进的生产线及专业检测实验室,拥有30多项国家专利发明和多项知识产权,先后通过了ISO9001:2008国际质量体系认证、高新技术企业认证、高新技术产品认证。公司凭借先进的科技手段、严格的质量管理体系,使“西格马牌”产品深受广大用户的信任和支持,产品合作对象有国内各大知名院校、国家级科研院所、大型上市企业,先后与北京大学、清华大学、西安交大、复旦大学、浙江大学、上海交大等大专院校,中国科学院上海硅酸盐研究所,航天703所、704所,中船重工725所,四川903所、核工业研究所等科研院,以及比亚迪、上海大众、北京安泰、武汉凡谷等上市企业建立合作关系。
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  • 400-860-5168转2205
    合肥科晶材料技术有限公司是美国MTI公司与中科院合肥物质科学研究院于1997年合资(MTI公司占80.23%的股份)兴办的高新技术企业,位于安徽省合肥市科学路10号,注册资金4200万元, 公司董事长江晓平博士毕业于东北大学(1981)。在中科院金属所授教师昌绪院士获博士学位(1988),并在美国麻省理工学院师从M.C.Flemings教授任博士后研究员(1988-1991)。是较早回国创业的留学生之一。曾获教育部“优秀留学生”称号。  公司专业从事光电晶体材料的生长、定向、切割、研磨、抛光、镀膜等,拥有成套先进加工设备和工艺。公司员工大都具有10年以上晶体生长、定向、切割、研磨、抛光等丰富而专业的加工经验,公司率先在行业内成立了MgAl2O4,LaAlO3, SrTiO3等十多种氧化物基片质量标准。拥有先进而完善的检测手段: 万能工具显微镜、rocking curve摇摆曲线测定仪、X Ray定向仪、AFM原子力显微镜、XRD粉末衍射仪等,加工的产品达到超光滑(小于5A)、超洁净(1000级超净室检验、100级超净台和100级超净袋封装)、超平(厚度公差最高达3um)。 目前主要产品有高温超导薄膜基片;磁性铁电/压电外延薄膜基片;半导体基片;金属单晶/多晶基片;溅射靶材(包括近50余种陶瓷靶材、单晶靶材、金属靶材和合金靶材等)以及各种粉料、包装盒等。晶体基片从A~Z达上百种,规格型号上千种,是目前全球最大的能批量生产单晶基片的厂家之一;产品从原材料采购、生产制作、包装检验,每一步都严格控制,确保品质。从而保证了产品质量优、价位低、交货迅速。  为满足客户需求,公司从01年开始推出材料实验室成套设备,包括“混料-压料-烧料-分析料”(混料机、压片机、箱式炉、真空管式炉和小型X射线衍射仪)以及“定向-切割-研磨-抛光”(X射线定向仪、低速外圆锯、金刚石线切割机、802自动抛光机和1502自动抛光机等)。在过去的一里年又新增添了成套新型能源材料制备相关设备产品,其中包括“混料-烧料-分析-涂层-成型-封装-测试”(球磨机、高温高压炉、材料分析仪、涂层机、轧机、切片机、封装机、电池分析仪)。公司自主研发生产可提供上百款产品不同规格尺寸、温度、高温高压及超快速升温产品其中包括:箱式炉、气氛炉、管式炉、井式炉、RTP快速升温炉、高温高压炉及电池研发相关等实验室设备,设计独特、人性化,性能优异,质量可靠,性价比高,环保节能、返修率低,广泛应用于材料、物理、化学、冶金、灰化、齿科、新型能源研发等领域,受到客户极端好评,同时,由于我们产品的优良性能,科晶的设备更是远销美国,欧洲,日本等许多国家,令挑剔的外国客商也称赞不已。   为了更好的服务客户,我公司设有材料制备体验中心、电池研发制备体验中心及材料检测中心,可对外提供晶体材料生长、切磨抛、样品检测等相关服务,欢迎客户带样品来我公司实验室进行试加工,以方便客户了解我们产品的性能;同时我公司的专业技术人员也可以提供技术建议与方案,使客户能够了解买到最适合的加工工艺及设备;另外,我公司还提供完善的售后服务,您在购买产品后遇到疑难问题时,我们将全力为您排忧解难。  科晶公司成立二十年来,我们正以实际行动努力将自己打造成国内晶体材料及材料制备相关设备领域的第一品牌。相信不久的将来,科晶的品牌同样会在国际市场上成为专业与杰出性价比的代名词。美丽的科学岛期待您的光临,科晶期待您的光临。
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四电弧高温单晶生长炉相关的仪器

  • D8 VENTURE/QUEST—面向未来的单晶X射线衍射仪D8 VENTURE/QUEST是布鲁克公司推出的新款,功能强大的X射线单晶衍射仪。 一体化的设计, 配备目前世界上先进的光源以及PHOTON III MMPAD探测器,帮助您测试最富有挑战性的晶体,获得好的数据质量。 其主要特点为:● 同时适合小分子晶体学和蛋白质晶体学的研究需要,应用范围广。● 新一代的lus 3.0微焦斑光源,性能娘美微焦斑转靶,零维护,寿命超长。● 液态金属靶MetalJET,室内X射线光源, 强度远● 远高千微焦斑转靶,让您拥有个人的“同步辐射" ,解决最难的晶体学问 题, 比如GPCR膜蛋白的结构。● 采用四代光源XFEL探测器技术的PHOTON III MMPAD混合光子计数探测器,● 超大面积,超快速度, 零噪音, 单光子检测的灵敏度。● 双靶配置, 软件自动切换光源。 满足不同类型的研究需要。 元件自动识别, 智能化光路管理。● 新一代的APEX3/PROTEUM3软件, 功能强大, 智能化程度高, 轻松操控仪器, 获得好数据。● lus Diamond微焦斑光源, 零维护, 性能超越微焦斑转靶。
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  • D8 VENTURE/QUEST—面向未来的单晶X射线衍射仪D8 VENTURE/QUEST是布鲁克公司推出的新款,功能强大的X射线单晶衍射仪。 一体化的设计, 配备目前世界上先进的光源以及PHOTON III MMPAD探测器,帮助您测试最富有挑战性的晶体,获得好的数据质量。 其主要特点为:● 同时适合小分子晶体学和蛋白质晶体学的研究需要,应用范围广。● 新一代的lus 3.0微焦斑光源,性能娘美微焦斑转靶,零维护,寿命超长。● 液态金属靶MetalJET,室内X射线光源, 强度远● 远高千微焦斑转靶,让您拥有个人的“同步辐射" ,解决最难的晶体学问 题, 比如GPCR膜蛋白的结构。● 采用四代光源XFEL探测器技术的PHOTON III MMPAD混合光子计数探测器,● 超大面积,超快速度, 零噪音, 单光子检测的灵敏度。● 双靶配置, 软件自动切换光源。 满足不同类型的研究需要。 元件自动识别, 智能化光路管理。● 新一代的APEX3/PROTEUM3软件, 功能强大, 智能化程度高, 轻松操控仪器, 获得好数据。● lus Diamond微焦斑光源, 零维护, 性能超越微焦斑转靶。
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  • 四电弧高温单晶生长炉 日本GES公司生产的四电弧高温单晶生长炉,采用电弧放电的高温材料合成方法,非常适合生长化学性质活跃但熔点高(一般在3000摄氏度左右)的金属间化合物,包括含有稀土元素(或者金属铀)的二元及四元金属间化合物,例如UGe2, UPt3, V3Si, URu2Si2, RE2Co17 , CePd2Al3, REFe10Ti2 合金单晶以及Nd2Fe14B, URhAl, UNiAl and RENi5等合金单晶。生长的过程中,原料放在旋转的铜坩埚中,四个电同时放电形成高温熔化原料,精密控制的拉晶棒使用Czochralski方法将熔化的原料拉成单晶。样品室的真空度可达10-6托,也可以充入保护性气体。产品特点* 采用四电弧法加热* 可实现3000°C高温* 适用于金属间化合物材料基本参数样品腔:高温度:3000℃气氛:Ar工作压强:5x10-6 Torr~1.1Atm真空度:10-6 Torr尺寸:直径208*300H材料:不锈钢冷却:水冷提拉棒:提拉生长速度:0.1-39mm/hr转动速度:0-10rpm行程:150mm坩埚:转动速度:0-10rpm行程:20mm电弧电流:样品:25/30A(可调) 真空吸气剂:25/30A(可调)炉体:重量:350Kg尺寸:600W*700D*2155H工作原理图发表文章1. Single-Crystal Growth of f-Electron Intermetallics in a Tetra-Arc Czochralski Furnace. ACTA PHYSICA POLONICA A (2013), 124 (2):336-339.2. Crystal structure and magnetic properties of the ferromagnet CoMnSb. Proc. J-Physics 2019: Int. Conf, Multipole Physics and Related Phenomena JPS Conf. Proc. , 013004 (2020).国内用户单位北京大学中科院物理所复旦大学国外用户单位Tokyo UniversityOkayama UniversityOsaka UniversityUniversity of California San DiegoUniversity of MarylandVienna University of Technology
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四电弧高温单晶生长炉相关的资讯

  • GES四电弧高温单晶生长炉落户中科院物理所材料基因组研究平台(怀柔科学城)
    四电弧高温单晶生长炉是一种近几年新发展起来的高温材料合成设备,非常适合生长化学性质活泼但熔点高(一般在3000℃左右)的金属间化合物,包括含有稀土元素(或金属铀)的二元及四元金属间化合物,例如UGe2、UPt3、V3Si、URu2Si2、RE2Co17、CePd2Al3、REFe10Ti2 、Nd2Fe14B、URhAl、UNiAl和RENi5等合金单晶。四电弧高温单晶系统在晶体生长中的过程如下:先将原料放在旋转的铜坩埚中,之后四个电同时放电形成高温熔化原料,在精密的提拉系统控制下使用Czochralski方法将熔化的原料拉成单晶。中国科学院物理研究所材料基因组研究平台(怀柔科学城)致力于建设成为我国、规模大、手段齐全的先进材料基因组研究平台,以提升我国在新材料研发与制造领域的研究水平,同时支撑我国物质科学领域基础研究与应用基础研究综合实力的跨越式发展。我们Quantum Design 中国子公司非常荣幸将日本GES公司设计和制造的四电弧高温单晶生长炉系统于近日安装于该平台,该系统将为用户单位在非常规超导电性、非费米液体行为及非常规量子临界行为等诸领域的科研工作提供相关单晶样品制备支持!四电弧高温单晶生长炉外观图:四电弧高温单晶生长炉原理示意图:四电弧高温单晶生长炉晶体生长过程实物图:
  • 德国SciDre高温高压光学浮区法单晶生长系统助力超导材料探索及机理研究
    高温铜氧化物的超导电性是凝聚态物理中的一个重要问题。围绕该研究,目前国内外科学家在该领域已经做了大量工作,其中包括研究具有相似结构的替代过渡金属氧化物中的三维电子机制。遗憾的是,在这些类似的化合物中没有一种呈现超导性。 近期,美国阿贡实验室科研人员研究发现低价准二维三层化合物Pr4Ni3O8没有出现La4Ni3O8中的电荷条纹序,取而代之的是从而表现出金属性。X射线吸收光谱表明,金属Pr4Ni3O8在费米能之上的未被占据态具有低自旋构型,具有明显的轨道化和明显的dx2-y2特征,这正是铜氧化物超导体的重要特点。密度泛函理论计算也证实了这一结果,并表明dx2-y2轨道在近Ef能占据态中也占主导地位。因此,Pr4Ni3O8属于空穴掺杂铜氧化物的3d电子机制,它是迄今为止报道的接近铜氧化物超导的类似材料之一,如果可以实现电子掺杂则有望在该体系中实现高温超导性。相关结果发表在Nature Physics(Volume 13, pages 864–869 (2017), DOI: 10.1038/NPHYS4149)。 该项研究工作所用R4Ni3O10 (R=La,Pr)单晶样品由德国SciDre公司推出的HKZ系列高温高压光学浮区法单晶炉成功制备。其中,La4Ni3O10单晶生长采用20bar氧压条件,Pr4Ni3O10单晶生长采用140bar氧压条件,O2流速为0.1L/min;R4Ni3O8单晶样品由R4Ni3O10单晶样品去除O2获得。高温高压光学浮区炉垂直式双镜设计加热区原理图 德国SciDre公司推出的高温高压光学浮区法单晶炉高可实现高达3000℃高温,高压力可达300bar,多种规格可根据用户需求提供选择,该单晶生长系统一经推出便备受国内广大同行青睐!目前中国科学院物理研究所、中国科学院固体物理研究所、北京师范大学、复旦大学、上海大学、南昌大学以及中山大学等众多用户均选择了该设备!
  • 光学浮区法单晶生长技术在氧化物和金属间化合物材料领域应用进展
    化学性质活泼、高熔点、高压、高质量单晶生长法宝! 新一代高性能激光浮区法单晶炉-LFZ助您实现高饱和蒸汽压、高熔点材料及高热导率材料等常规浮区法单晶炉难以胜任的单晶生长工作。高精度光学浮区法单晶炉-IRF助您实现高温超导体、介电材料、磁性材料、热电材料、金属间化合物、半导体、激光晶体等材料的生长工作。高温高压光学浮区炉助您实现各种超导材料单晶,介电和磁性材料单晶,氧化物及金属间化合物单晶等材料的生长。四电弧高温单晶生长炉助您实现化学性质活跃但熔点高的金属间化合物,包括含有稀土元素(或者金属铀)的二元及四元金属间化合物、合金单晶等材料的生长。高质量单晶生长设备——单晶炉系列1. 高精度光学浮区法单晶炉在休斯勒型镍-锰基合金磁致冷材料领域的应用 休斯勒(Heusler)型的镍-锰基材料自从发现其巨磁热效应以来,在过去的几十年中已成为被广泛研究的热点新型磁致冷材料之一。研究发现,休斯勒型铁磁性材料镍-锰-锡在从高温至低温的变温过程中会发生高温相(铁磁奥氏体相)到低温相(顺磁马氏体相)的转变,且该转变受磁场调制。高对称性的奥氏体相经一结构相变成低对称性的马氏体相,会造成磁有序降低,磁熵增加,这一过程为吸热过程,亦即形成反磁热效应,这也是磁致冷的基本原理。而休斯勒型镍-锰-锡合金材料也因为其成本廉价、无毒、无污染、易于获取、磁热效应显著、相变温度可调等一系列的特点成为一种具应用潜力的室温磁致冷材料。 研究表明,休斯勒型镍-锰-锡合金的单晶材料具有更大的磁效应导致的应变或磁热效应,且具有强烈的各向异性特点,因此研究者希望其单晶或单向织构晶体具有更加优异的磁性能。目前,已有学者采用布里奇曼技术和Czochralski方法制备出了镍-锰-镓和镍-锰-铟材料的单晶材料,但镍-锰-锡合金由于在晶体生长过程中易形成氧化锰,因此其高质量的单晶样品制备具挑战性。上海大学的余金科等人克服了镍-锰-锡合金单晶生长中的氧化锰形成及挥发的难题,采用光学浮区技术成功合成了高质量的镍-锰-锡合金单晶样品。晶体生长过程及样品腔实物图片晶体实物及解理面图片 余金科等人所用的光学浮区法单晶炉为Quantum Design日本公司推出的新一代高精度光学浮区炉单晶炉,文献中报道的相关晶体生长工艺参数为:生长速度6 mm/小时;转速(正、反)15转/分钟,氩气压力7bar。 Quantum Design 日本公司推出的高温光学浮区法单晶炉,采用镀金双面镜、高反射曲面设计,高温度可达2100℃-2200℃,系统采用高效冷却节能设计(不需要额外冷却系统),稳定的电源输出保证了灯丝的恒定加热功率,这对于获得高质量单晶至关重要。浮区炉技术特色:■ 占地空间小,操作简单,易于上手,立支撑设计■ 镀金双面高效反射镜,加热效率更高■ 可实现高温度2150°C■ 稳定的电源■ 内置闭循环冷却系统,无需外部水冷装置■ 采用商业化标准卤素灯 参考信息来源:[1]. Optical Floating-Zone Crystal Growth of Heusler Ni-Mn-Sn Alloy. Yu, Jinke & Ren, Jian & Li, Hongwei & Zheng, Hongxing. (2015). TMS Annual Meeting. 2015. 49-54.[2]. Ni-Mn-Sn(Co)磁制冷薄带材料结构相变及磁性能表征,王戊 硕士论文,上海大学 2. 高精度光学浮区法单晶炉在磁电领域取得重要进展在人类漫长的历史发展长河中,“材料学”贯穿了其整个历程。从人类活动早期开始使用木制工具,到随后的石器、金石并用(此时的金属主要指铜器)、青铜、铁器等各个时代,再到后来的蒸汽、电气、原子、信息时代,每个发展阶段无不伴随着人类对材料的认识和利用。在诸多材料中,铁是人类早认识和使用到的材料之一,早在西周以前我国就已开始将铁用于生产生活中[1];人们在长期的实践中也逐渐认识到相关材料的磁性并将其运用于实践中,司南就是具代表性的发明。这些在不少历史典籍中都有记载,比如:《鬼谷子谋篇十》记载:“故郑人取玉也,载司南之车,为其不惑也。夫度材量能揣情者,亦事之司南也”;《梦溪笔谈》提到:“方家以磁石磨针缝,则能指南”;《论衡》书曰:“司南之杓,投之于地,其柢指南”等等[2]。由此可见,人们对磁性材料的兴趣也算由来已久。 当时代来到21世纪,化学、物理、生物、医学、计算机等各个领域的技术都有了前所未有的突破,先进的生产力也将人类的文明推进智能工业化、信息化时代,随之而来的是人们对材料的更高要求。在诸多材料当中,多铁材料兼具铁磁、铁电特性,二者之间有着特的磁电耦合特性;与此同时,磁场作用下的电化和电场作用下的磁化等性质为未来功能材料探索和发展提供了更为宽广的选择和可能,在存储、传感器、自旋电子、微波器件、器件小型化等领域拥有巨大的潜在价值。2007年的《科学》杂志对未来的热点发展问题进行了报道,其中,多铁材料作为的物理类问题入选[3]。因此,研究并深刻理解磁电耦合和多铁材料背后的机理,有着非常重要的理论价值和实践意义。 近期,哈尔滨工业大学的W.Q.Liu等人对磁电材料Mn4Nb2O9单晶样品进行了深入的研究。研究表明:零磁场测试介电常数时,没有发现介电常数的反常,此时Mn4Nb2O9基态表现为顺电特性;而在磁场条件下,介电常数在Neel温度处发生突变的峰,且随着磁场的增加介电峰也增强,且峰位向低温端偏移,这意味着磁场有抑制反铁磁转变的趋势;高场(H≥4T)下的介电常数-温度依赖关系也跟H2正比关系,由此也表明Mn4Nb2O9是线性磁电材料。更多研究结果可参考文献[4]。以上图片引自文献[4].在该项研究工作中,作者合成Mn4Nb2O9单晶样品所用设备为Quantum Design Japan公司的高精度光学浮区法单晶炉,文章中所用单晶生长参数为:Ar气氛流速4 L/min,生长速度6 mm/h,转速25 rpm。参考信息来源:[1]. https://baijiahao.baidu.com/s?id=1713600818043231130&wfr=spider&for=pc[2]. https://baike.baidu.com/item/%E5%8F%B8%E5%8D%97/3671419?fr=aladdin[3]. https://www.science.org/doi/10.1126/science.318.5858.1848[4]. Wenqiang Liu, Long Li, Lei Tao, Ziyi Liu, Xianjie Wang, Yu Sui, Yang Wang, Evidence of linear magnetoelectric effect in Mn4Nb2O9 single crystal, Journal of Alloys and Compounds,Volume 886,2021,161272,ISSN 0925-8388, https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2021.161272.3. 高温高压光学浮区法单晶炉在外尔半金属材料领域应用案例 1929年,德国科学家外尔(Weyl)解出了无质量粒子的狄拉克方程,相应的无质量粒子被称为外尔费米子。然而直到2015年科研人员才在实验中观察到外尔费米子,被中国科学院物理研究所的研究人员报道,距离外尔费米子概念的提出,足足过去了近90年。2018年科研人员通过性原理计算预言RAlGe(R=Pr,Ce)体系有望成为新的磁性外尔半金属。目前人们对RAlGe(R=Pr,Ce)材料的物理性质研究还比较少,更进一步深入的实验研究需要大尺寸的单晶样品去支持。 H. Hodovanets等人曾用助熔剂方法生长CeAlGe单晶,但由于实验中需要用到SiO2容器,导致用该方法获取的单晶样品中会存在Si杂质,同时伴有CeAlSi相;另外,轻微的Al富集会导致形成不同的晶体结构。这些都大限制了拓扑外尔点的形成。因此,获取化学计量比的单晶样品对于研究材料的物理性质非常重要。Pascal Puphal等人近期的研究工作报道了其分别用助熔剂方法和高温高压浮区法两种晶体生长技术获得的RAlGe(R=Pr,Ce)单晶样品及研究成果。尽管作者为了避免Si的污染,采用了Al2O3坩埚,但终样品中Al的含量偏高问题依然存在,单晶样品表面成分:Ce1.0(2)Al1.3(5)Ge0.7(3)/ Pr1.0(1)Al1.2(2)Ge0.8(2),剥离面成分为:Ce1.0(1)Al1.12(1)Ge0.88(1)/Pr1.0(1)Al1.14(1)Ge0.86(1)。而采用浮区法则生长出了近乎理想化学计量比(1:1:1)的单晶样品,成分分别为:Ce1.02(7)Al1.01(16)Ge0.97(9)和Pr1.08(24)Al0.97(7)Ge0.95(17)。 浮区法得到的晶体的劳厄图片 Pascal Puphal等人所采用的浮区法单晶炉为德国ScIDre公司的HKZ高温高压光学浮区炉,文献中提到的相关实验参数为:5 KW功率的氙灯,晶体生长速度为1 mm/小时,CeAlGe采用30 bar的Ar保护气氛,PrAlGe采用5 bar的Ar保护气氛。德国ScIDre公司推出的高温高压光学浮区法单晶炉高能够提供3000℃的生长温度,晶体生长腔大压力可达300 bar,甚至10-5 mbar的高真空。适用于生长各种超导材料单晶,介电和磁性材料单晶,氧化物及金属间化合物单晶等。ScIDre单晶炉技术特色:► 采用垂直式光路设计► 采用高照度短弧氙灯,多种功率规格可选► 熔区温度:高达3000℃► 熔区压力:10bar/50bar/100bar/150bar/300bar等多种规格可选► 氧气/氩气/氮气/空气/混合气等多种气路可选► 采用光栅控制技术,加热功率从0-100% 连续可调► 样品腔可实现低10-5 mbar真空环境► 丰富的可升选件 参考信息来源:[1]. http://www.iop.cas.cn/xwzx/kydt/201507/t20150720_4395729.html[2]. Single-crystal investigation of the proposed type-II Weyl semimetal CeAlGe, H. Hodovanets, C. J. Eckberg, P. Y. Zavalij, H. Kim, W.-C. Lin, M. Zic, D. J. Campbell, J. S. Higgins, and J. PaglionePhys.Rev. B 98, 245132 (2018).[3]. Bulk single-crystal growth of the theoretically predicted magnetic Weyl semimetals RAlGe (R = Pr, Ce), Pascal Puphal, Charles Mielke, Neeraj Kumar, Y. Soh, Tian Shang, Marisa Medarde,Jonathan S. White, and Ekaterina Pomjakushina, Phys. Rev. Materials 3, 0242044. 高温高压光学浮区法单晶炉在准一维伊辛自旋链材料领域应用进展 低维磁性材料具有非常丰富和奇特的物理性质,且与多铁性和高温超导电性等材料密切相关。对低维磁性材料的物理性质进行研究有助于探索相关奇异现象的根本机制,从而对寻求新的功能材料提供帮助。因此,近年来关于低维磁性材料的研究吸引了科学家们的广泛关注。近日,德国马普固体化学物理研究所的学者A. C. Komarek等人[1,2]在准一维伊辛自旋链材料CoGeO3中发现了非常明显的1/3磁化平台,并通过中子衍射手段详细探究了其微观自旋结构。研究表明,初的零场反铁磁自旋结构的变化,类似于反铁磁“畴壁边界”的形成,从而产生一种具有1/3整数传播矢量的调制磁结构。净磁矩出现在这些“畴壁”上,而所有反铁磁链排列的三分之二仍然可以保留。同时A. C. Komarek等人也提出了一个基于各向异性受挫方形晶格的微观模型来解释其实验结果。更为详细的报道可参考文献相关文献[1,2]。A. C. Komarek等人所用的CoGeO3单晶样品由高压光学浮区法单晶炉(型号:HKZ, 制造商:德国ScIDre公司)制备获得[2],文章中报道的CoGeO3单晶生长参数为:Ar/O2混合气(比例98:2),压力80 bar,生长速度3.6 mm/hour。CoGeO3单晶实物图片 引自[2] 参考信息来源:[1]. Emergent 1/3 magnetization plateaus in pyroxeneCoGeO3, H. Guo, L. Zhao, M. Baenitz, X. Fabrèges, A. Gukasov, A. Melendez Sans, D. I. Khomskii, L. H. Tjeng, and A. C. Komarek, Phys. Rev. Research 3, L032037[2]. Single Crystal Growthand Physical Properties of Pyroxene CoGeO3,Zhao, L. Hu, Z. Guo, H. Geibel, C. Lin, H.-J. Chen, C.-T. Khomskii, D. Tjeng, L.H. Komarek, A.C. Crystals 2021, 11, 378.5. 高温高压光学浮区法单晶炉在锂离子电池领域新应用进展 锂离子电池由于具有能量密度高、寿命长、充电快、安全可靠、绿色环保等诸多优异性能,其与当今人民的日常生活已密不可分,在手机、电脑、电动车、电动汽车、航空航天等领域均有广泛的应用。 其中,Li2FeSiO4作为新一代锂离子电池阴材料,由于具有价格低廉、环境友好、安全性好等技术优势,因此在大型动力锂离子电池应用方面具有良好的前景。然而,Li2FeSiO4材料在不同温度具有不同的结构相(∼ 400 °C :Pmn21, , ∼ 700 °C :P121/n1, and ∼ 900 °C :Pmnb),研究其不同结构的电化学性质对于进一步对其进行改性研究尤为重要。 Waldemar Hergetta等人[1]采用高压光学浮区法获得了高温相(Pmnb)Li2FeSiO4单晶,并研究了晶体生长工艺参数对杂相的影响,相关结果已发表在Journal ofCrystal Growth。作者所采用的高压光学浮区炉为德国ScIDre公司的HKZ高压光学浮区法单晶炉,文章报道的晶体生长参数为:生长速度10 mm/h,保护气氛Ar(30 bar)。温度梯度分布 引自[1]XRD图谱及晶体实物图片 引自[1]参考信息来源: [1]Waldemar Hergett, Christoph Neef, Hans-Peter Meyer, Rüdiger Klingeler, Challenges in the crystal growth of Li2FeSiO4, Journal of Crystal Growth, Volume 556,2021,125995,ISSN 0022-0248, https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2020.125995.

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